论文摘要
本实验目的在于探究清洗液处理光刻胶与多铁性氧化物界面粘附问题的效果,从而通过清洗获得高质量的干净的氧化物表面,从而为探针技术以及输运的测量扫清障碍。实验主要通过脉冲激光沉积技术生长原子级平整的多铁性氧化物薄膜,并通过激光直写和刻蚀技术得到多铁性的氧化物薄膜,用相应清洗液处理之后用扫描探针技术来分析判断清洁情况。主要清洗液为氨水双氧水,对三种材料进行探究分别为钛酸锶(STO),镧锶锰氧(LSMO),铋钨氧(BWO),发现清洗液对STO与BWO样品没有损害,对LSMO有所腐蚀,其中STO清洗效果最好,LSMO经过前期的常规处理基本已经没有光刻胶了,对BWO无明显作用
论文目录
文章来源
类型: 期刊论文
作者: 王沛雨,周啸峰,赵秀花,王硕
关键词: 光刻胶,多铁性氧化物薄膜,扫描探针技术
来源: 智库时代 2019年24期
年度: 2019
分类: 社会科学Ⅰ辑,经济与管理科学,工程科技Ⅰ辑,工程科技Ⅱ辑
专业: 无机化工,材料科学,工业通用技术及设备
单位: 北京师范大学物理学系
分类号: TQ138.11;TB383.2
页码: 282-284
总页数: 3
文件大小: 2443K
下载量: 58
相关论文文献
- [1].上海新阳定增15亿用于高端光刻胶研发等[J]. 中国集成电路 2020(09)
- [2].光刻胶材料发展状况及下一代光刻技术对图形化材料的挑战[J]. 新材料产业 2018(12)
- [3].广东光刻胶产业发展现状及应对策略[J]. 广东经济 2019(09)
- [4].国内外集成电路光刻胶研究进展[J]. 新材料产业 2019(10)
- [5].微波用于抑制光刻胶纳米线条倒伏的研究[J]. 微电子学 2017(05)
- [6].光刻胶:国产化势不可挡[J]. 股市动态分析 2017(41)
- [7].一种耐高温紫外正型光刻胶及光刻工艺[J]. 科学通报 2016(06)
- [8].行业研判[J]. 理财周刊 2020(05)
- [9].海归博士的“光刻胶”国产梦[J]. 神州学人 2014(02)
- [10].统计过程控制在光刻工序中的应用[J]. 微处理机 2020(04)
- [11].半导体产业的关键材料——光刻胶[J]. 新材料产业 2018(09)
- [12].光刻胶材料中国区域专利现状分析[J]. 中国发明与专利 2016(06)
- [13].不同衬底材料对光刻胶剖面的影响[J]. 电子与封装 2013(08)
- [14].2010年全球光刻胶销售11.5亿美元未来3年将保持4.7%的年增长率[J]. 半导体信息 2011(04)
- [15].光刻胶发展在中国 访北京科华微电子公司总裁 陈昕[J]. 电子工业专用设备 2010(03)
- [16].浅谈光刻胶[J]. 记录媒体技术 2010(02)
- [17].我国光刻胶的市场现状及发展趋势[J]. 精细与专用化学品 2009(09)
- [18].我第一条百吨级高档光刻胶生产线投产[J]. 半导体信息 2009(03)
- [19].与金属兼容的离子注入光刻胶去除剂[J]. 集成电路应用 2009(11)
- [20].用于微镜制作的叠层光刻胶工艺及残余应力控制[J]. 光学精密工程 2008(11)
- [21].光刻胶专利信息[J]. 精细与专用化学品 2008(15)
- [22].集成电路后段光刻胶去除技术进展[J]. 集成电路应用 2018(07)
- [23].光刻胶段差对光刻图形的影响与改善[J]. 液晶与显示 2018(08)
- [24].光刻胶流淌实现深亚微米栅工艺[J]. 固体电子学研究与进展 2018(04)
- [25].应用微波技术抑制光刻胶图形的坍塌与黏连[J]. 光学精密工程 2015(01)
- [26].趣味“光刻胶”摄影工艺[J]. 走向世界 2013(32)
- [27].触控屏网版印刷型光刻胶[J]. 网印工业 2013(05)
- [28].喷胶工艺中光刻胶热应力分析[J]. 机械工程师 2012(02)
- [29].产品开发[J]. 广州化工 2009(04)
- [30].南京大学化学化工学院教授王元元：与时间赛跑 助力光刻胶国产化新发展[J]. 中国高新科技 2020(13)
标签：光刻胶论文; 多铁性氧化物薄膜论文; 扫描探针技术论文;