导读:本文包含了电介质膜论文开题报告文献综述、选题提纲参考文献及外文文献翻译，主要关键词:电介质,离子,全反射,波束,反射率,电子束,稳态。
电介质膜论文文献综述
段弢,李春芳,杨晓燕,张纪岳[1]（2006）在《电介质膜对受抑全内反射结构中古斯-汉欣位移的增强》一文中研究指出受抑全反射结构中,反射光束和透射光束的古斯汉欣(Goos-Hanchen)位移同时存在,对称双棱镜结构的受抑全反射古斯汉欣位移通常只有波长量级,在实验中很难测量。计算了在入射角大于棱镜与空气界面的临界角小于棱镜与薄膜界面临界角时,镀有电介质膜的对称双棱镜的受抑全反射过程中入射光束的反射系数和透射系数的复数表达式。利用稳态相位法计算得出透射光束和全反射光束的古斯汉欣位移。结果表明,反射光束和透射光束古斯汉欣位移量相同,与入射角大小、薄膜厚度以及空气层厚度有关。在入射角小于但接近棱镜与薄膜界面的临界角,薄膜厚度和空气层厚度一定时,古斯汉欣位移量共振增强达到波长的数百倍。(本文来源于《光学学报》期刊2006年11期）
李春芳,杨晓燕,段弢,张纪岳[2]（2006）在《电介质膜增强的Goos-Hnchen位移的微波测量》一文中研究指出如果在折射率较高的电介质基底上镀一层折射率较低的电介质薄膜(介质膜的另一侧为折射率更低的介质,如空气),并且恰当选择基底内光束的入射角,使得光束在基底-介质膜界面上折射到薄膜内、在薄膜-空气界面上全反射,那么反射光束的Goos-Ha¨nchen(GH)位移在一定条件下会得到共振增强。采用微波技术直接地测量了这种Goos-Ha¨nchen位移随电介质膜厚度的变化,测量结果与理论预言吻合得较好。(本文来源于《中国激光》期刊2006年06期）
王永晨,杨格丹,赵杰,车经国,张淑云[3]（2004）在《PECVD沉积SiOP电介质膜及其XPS研究》一文中研究指出采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术沉积含P电介质薄膜,用于无杂质空穴扩散(IFVD)技术中InGaAsP InPMQW结构中新的包封层,替代传统的SiO2层。经X射线光电子谱(XPS)研究证明,该膜就是SiOP结构。快速退火(RTA)研究表明,该膜结构基本稳定,但膜中P原子存在明显扩散,它增强了InPMQW结构中In原子的外扩,却抑制了Ga原子的外扩。这些都明显区别于常规SiO2膜的性质。(本文来源于《光电子·激光》期刊2004年11期）
吴桂英[4]（1996）在《在铝反射镜上镀防腐蚀电介质膜的反应离子镀膜法》一文中研究指出由于用真空蒸镀法和热蒸发或电子法沉积的金属膜易碎,并且膜表面微型结构呈柱状,而柱状结构之间有间隙,因此易吸湿和被气体和液体腐蚀.本文主要阐述用反应离子辅助沉积法为铝反射镜镀防护膜.当用反应离子辅助沉积法镀的最好的反射镜浸没在NaOH中20小时,反射镜反射率降低10%.而用以往方法镀的膜做同样的实验,反射镜(本文来源于《光机电信息》期刊1996年02期）
陈永军,林永昌[5]（1995）在《电致变色中电介质膜参数的研究》一文中研究指出对电介型电致变色系统的基本原理进行了探讨，给出了电介型Ｇ／ＩＴＯ／ＷＯ３／Ｔａ２Ｏ５／ＩＴＯ系统用电子束蒸发的制备参数，分析了电介质中的吸附水对着色的重要意义，对影响该系统性能的因素如制备工艺参数、ＩＴＯ膜方块电阻和电场大小等进行了讨论，最后对电介质膜层提出了要求．(本文来源于《北京理工大学学报》期刊1995年04期）
忻华泰[6]（1987）在《反应蒸镀多层电介质膜氦氖激光反射镜的损耗和反射率》一文中研究指出制造激光反射镜TiO_2/SiO_2多层膜,主要方法是在氦气气压为5×10~(-3)～5×10_(-2)帕的情况下用钛和硅的低氧化物进行反应蒸镀.接着在670K的空气中退火,生成所需化学计量的氧化物.在蒸镀过程中,工作气体中不可能完全避免的水蒸气含量与起始条件和设备状态有关.它往往会使激光反射镜的反射率和损耗发生变化.在蒸镀层形成过(本文来源于《激光与光电子学进展》期刊1987年04期）
李懋廉,贾淑芝[7]（1981）在《在镀制多层电介质膜系的过程中膜层在真空中折射率的测定》一文中研究指出一、前言众所周知,测量薄膜折射率通常都是在空气中进行的,一般所说的薄膜折射率也是指薄膜在空气中的折射率。我们知道绝大多数的薄膜都是多孔性结构。真空中制备好的薄膜,其微观结构中的空洞是真空(n=1)。当暴露于大气中时,由于大气中包含水蒸汽(n=1.33)等,空洞就被包含水蒸汽等的大气所充满,从而引起薄膜折射率等光学性质的变化。因而一(本文来源于《光学机械》期刊1981年04期）
电介质膜论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
如果在折射率较高的电介质基底上镀一层折射率较低的电介质薄膜(介质膜的另一侧为折射率更低的介质,如空气),并且恰当选择基底内光束的入射角,使得光束在基底-介质膜界面上折射到薄膜内、在薄膜-空气界面上全反射,那么反射光束的Goos-Ha¨nchen(GH)位移在一定条件下会得到共振增强。采用微波技术直接地测量了这种Goos-Ha¨nchen位移随电介质膜厚度的变化,测量结果与理论预言吻合得较好。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
电介质膜论文参考文献
[1].段弢,李春芳,杨晓燕,张纪岳.电介质膜对受抑全内反射结构中古斯-汉欣位移的增强[J].光学学报.2006
[2].李春芳,杨晓燕,段弢,张纪岳.电介质膜增强的Goos-Hnchen位移的微波测量[J].中国激光.2006
[3].王永晨,杨格丹,赵杰,车经国,张淑云.PECVD沉积SiOP电介质膜及其XPS研究[J].光电子·激光.2004
[4].吴桂英.在铝反射镜上镀防腐蚀电介质膜的反应离子镀膜法[J].光机电信息.1996
[5].陈永军,林永昌.电致变色中电介质膜参数的研究[J].北京理工大学学报.1995
[6].忻华泰.反应蒸镀多层电介质膜氦氖激光反射镜的损耗和反射率[J].激光与光电子学进展.1987
[7].李懋廉,贾淑芝.在镀制多层电介质膜系的过程中膜层在真空中折射率的测定[J].光学机械.1981
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