论文摘要
通过摆动离子束刻蚀方法,制作了用于短波红外高光谱成像光谱仪的凸面闪耀光栅。该方法通过在光栅子午方向上进行摆动刻蚀,解决了凸面光栅子午方向的闪耀角一致性问题。建立了摆动刻蚀模型来分析摆动速度、束缝宽度等工艺参数对槽型演化的影响,并计算了优化的刻蚀工艺参数。制备了基底尺寸为67mm,曲率半径为156.88mm,刻线密度为45.5gr/mm,闪耀角为2.2°的凸面闪耀光栅,并对其表面形貌及衍射效率进行了测量。实验结果表明,摆动刻蚀法能够制作出闪耀角一致性好、衍射效率高的小闪耀角凸面光栅,满足成像光谱仪对光谱分辨率和便携性的使用要求。
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文章来源
类型: 期刊论文
作者: 王琼,沈晨,谭鑫,齐向东,巴音贺希格
关键词: 凸面闪耀光栅,摆动刻蚀,衍射效率,成像光谱仪
来源: 强激光与粒子束 2019年06期
年度: 2019
分类: 基础科学,工程科技Ⅱ辑
专业: 仪器仪表工业
单位: 中国工程物理研究院流体物理研究所,中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,中国科学院大学
基金: 中国科学院重大科研装备研制项目(YZ201005),国家重大科学仪器设备开发专项(2011YQ120023)
分类号: TH744.1
页码: 7-15
总页数: 9
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