论文摘要
采用O2等离子体对柔性氟化乙烯丙烯共聚物(FEP)进行表面处理,然后,利用射频磁控溅射法在柔性氟化乙烯丙烯共聚物(FEP)上沉积修饰一层超薄SiO2,再沉积生长ZnO:Al薄膜。主要研究探讨柔性FEP基底修饰对ZnO:Al薄膜结构、薄膜界面结合状态、薄膜形貌、电学性能、弯曲后电学性能退化、光学性能和薄膜附着力的影响机理,利用XRD、XPS、AFM、SEM、UV-Vis-NIR分光光度计、ScotchTM粘附力测试、PPMS、四探针等表征手段对薄膜结构、成分、形貌、界面及薄膜物理性能进行表征。实验表明:柔性FEP基底经修饰后生长的ZnO:Al薄膜的结晶性能得到明显的提升、薄膜内应力有效降低、SiO2与柔性基底之间产生少量的化学键合。FEP柔性基底经修饰后,ZnO∶Al薄膜的电学性能、缓减弯曲后的电学性能变化等到明显改善、薄膜附着力有明显提高。
论文目录
文章来源
类型: 期刊论文
作者: 马德福,王刚,王慧芬,张亚非
关键词: 柔性透明导电薄膜,表面修饰,薄膜附着力,射频磁控溅射
来源: 中国陶瓷 2019年01期
年度: 2019
分类: 工程科技Ⅰ辑,工程科技Ⅱ辑
专业: 材料科学,工业通用技术及设备
单位: 上海交通大学-电子信息与电气工程学院-微纳电子学系-薄膜与微细技术教育部重点实验室,上海航天技术研究院-上海卫星装备研究所
基金: 航天先进技术联合研究中心技术创新项目(USCAST2013-28)
分类号: TB383.2
DOI: 10.16521/j.cnki.issn.1001-9642.2019.01.009
页码: 44-51
总页数: 8
文件大小: 3078K
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