论文摘要
目的基于电介质击穿理论,从本质上研究异质金属表面整体氧化过程中的反应机理。方法根据已有的实验基础,在单独的铝合金材料表面和异质铝合金焊接件表面制备一层整体等离子体氧化膜。通过电介质击穿实验,对异质金属整体等离子体氧化过程中存在的时序性和选择性机理进行验证。并基于电介质击穿理论,深入分析不同材质表面固态电介质击穿机理,进而研究异质金属表面整体陶瓷膜生长机理。结果不同材质的物理/化学活性影响等离子体氧化过程,化学活性高的金属优先发生陶瓷化反应,进而引起陶瓷膜的非平衡生长。结论异质金属整体等离子体氧化过程中存在时序性与选择性,这种时序性与选择性与材料的化学活性有关。
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文章来源
类型: 期刊论文
作者: 陈燕飞,王美芳,周吉学,宋晓村,刘洪涛,王世芳,杨院生
关键词: 整体等离子体氧化,电介质击穿,陶瓷膜,异质金属连接件,焊缝
来源: 表面技术 2019年05期
年度: 2019
分类: 工程科技Ⅰ辑
专业: 金属学及金属工艺
单位: 齐鲁工业大学(山东省科学院)山东省科学院新材料研究所,赣州有色冶金研究所,中国科学院金属研究所
基金: 国家重点研发计划(2017YFB0103904),山东省重点研发计划(2017CXGC0404),山东省自然科学基金(ZR2018PEM001)~~
分类号: TG174.4
DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2019.05.035
页码: 239-245
总页数: 7
文件大小: 1896K
下载量: 77
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标签:整体等离子体氧化论文; 电介质击穿论文; 陶瓷膜论文; 异质金属连接件论文; 焊缝论文;