论文摘要
磁流变抛光法是目前用于抛光光学元件的热点技术。文章从基于磁流变抛光法的光学元件抛光的基本概念出发,统计和归纳了该技术领域的国内外专利文献,梳理了该领域的技术发展脉络,最后结合具体案例阐述了技术综述在审查实践中的应用。
论文目录
文章来源
类型: 期刊论文
作者: 张欢
关键词: 磁流,抛光法,专利
来源: 科技创新与应用 2019年20期
年度: 2019
分类: 工程科技Ⅱ辑,工程科技Ⅰ辑,经济与管理科学
专业: 金属学及金属工艺,科学研究管理
单位: 国家知识产权局专利局专利审查协作湖北中心
分类号: TG580.692;G306
页码: 5-6
总页数: 2
文件大小: 1175K
下载量: 212
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