磁控溅射功率对WO_x薄膜结构和光催化活性的影响

论文摘要

采用射频磁控溅射法在非加热载玻片上制备WOx薄膜。通过X射线衍射仪（XRD）、场发射扫描电子显微镜（SEM）、X射线光电子能谱仪（XPS）、台阶仪、UV-Vis-NIR3600型紫外可见分光光度计和接触角计,研究不同溅射功率下薄膜的物相结构、表面形貌、元素价态、膜厚、光学性能、光催化和亲水性能。结果表明,随着溅射功率增加,薄膜的光学带隙逐渐减小,薄膜光催化活性与亲水性均提高。180 W溅射功率沉积的薄膜放置在亚甲基蓝溶液里,然后用紫外灯照射210 min,亚甲基蓝降解率达到97%; WOx薄膜在紫外灯下照射120 min时,水接触角达到12. 2°,停止照射之后放置在可见光下260 min,水接触角达到19. 1°。

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文章来源

类型: 期刊论文

作者: 李渊,赵青南,张泽华,刘翔,曾瑧,董玉红

关键词: 薄膜,射频磁控溅射功率,光催化,亲水性

来源: 硅酸盐通报 2019年02期

年度: 2019

分类: 工程科技Ⅰ辑

专业: 化学

单位: 武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室

基金: 产学研合作项目(20131h0467)

分类号: O643.36;O644.1

DOI: 10.16552/j.cnki.issn1001-1625.2019.02.036

页码: 512-516+529

总页数: 6

文件大小: 366K

下载量: 101

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