导读:本文包含了光刻平台论文开题报告文献综述、选题提纲参考文献及外文文献翻译，主要关键词:光刻,物镜,平台,步进,技术,相移,湿法。
光刻平台论文文献综述
梁明尧[1]（2019）在《基于线性CCD自适应成像的光刻机平台调平方法研究》一文中研究指出光刻机技术是现代电子信息技术的核心,而光刻机平台调平技术又是光刻机技术中不可或缺的一部分。利用光刻机平台调平技术对光刻机平台进行调平,将有助于提高光刻过程中光刻曝光的质量。目前传统的光刻机平台调平技术,主要以基于光路反射的光刻机调平为主,对于光路设计和硬件实现的要求很高,而且较为容易受到实验环境的干扰。此外,目前普遍采用的成像检测设备是线性CCD,而线性CCD比较容易受到实验过程中的速度干扰从而影响调平角度检测精度和效果。本文在传统的光刻机调平技术的基础上,提出了一种新的基于线性CCD自适应成像的光刻机平台调平方法。主要研究内容如下:1)基于线性CCD成像容易受到扫描速度扰动的干扰,本文设计了线性CCD自适应成像方法,使得线性CCD扫描成像抗干扰能力更强,从而增强了本文提出的调平方法的适应环境干扰的能力。2)为简化光刻机调平的硬件要求,在传统的基于光路反射的光刻机平台调平方法基础上,设计了基于垂直投影成像的倾斜角度计算方法。以线性CCD成像为基础进行调平角度计算,简化了传统的调平角度计算过程。3)本文利用raL8192-12gm型线阵相机、C++和C#等多种软件开发环境,通过软件和硬件相结合的方式实现了上述基于线性CCD自适应成像的光刻机平台调平方法。和传统的光刻机调平方法相比,本文提出的方法简化了传统的光刻机平台调平的硬件设备和调平角度计算过程,采用了一种新的基于垂直投影的方法,利用线性CCD进行垂直投影成像来计算光刻机平台倾斜角度,并且对于线性CCD成像过程中可能出现的速度扰动进行了深入的分析和处理通过实验证明,和传统的光刻机调平方法相比,具有硬件成本低,测试方法灵活,对成像中的速度干扰有一定的适应性等优点。(本文来源于《电子科技大学》期刊2019-04-12）
王奇,刘勐,汪家奇[2]（2017）在《光刻系统实验教学平台搭建及课程开展》一文中研究指出目前我国高校开展的光刻教学课程主要集中在加工原理方面,普遍缺乏配合理论知识学习的实际工艺操作实验。大连理工大学国家级示范性微电子学院自主设计、搭建了光刻实验平台以满足学生学习实践的需要。介绍了光刻实验平台系统的设备模块构成以及知识体系,开展实验的前期准备、课堂组织、注意事项。此外,给出了部分结果,分析了课程实施的主要困难与解决方案。(本文来源于《实验室科学》期刊2017年06期）
姚靖威[3]（2017）在《泰伯光刻机Z向运动平台控制系统研究》一文中研究指出本文在泰伯光刻机样机研发的背景下,进行样机Z轴运动控制系统的研究工作。泰伯光刻机是利用周期性微纳结构的自成像效应进行光刻的设备,具有成像分辨率高、实现无镜头成像等优点。目前常用的泰伯光刻机有两种曝光模式,一种是定点曝光模式,另一种是扫描曝光模式。定点曝光模式要求Z向运动平台具有较高的定位精度,并且随着微纳结构周期的减小,对定位精度的要求也越高。扫描曝光模式需要Z向运动平台匀速运动时稳定性要好,对定位精度的要求不高。因此为满足目前对高分率周期型微纳结构的需求,对泰伯光刻机Z向运动平台的定位精度以及运动稳定性提出了更高的要求。本文在分析了现有控制系统的组成部分以及特点的情况下,提出以音圈电机作为执行器的方案,设计了以DSP为主处理器,FPGA为协处理器的运动控制板卡,并搭建实验平台,对运动平台性能进行测试。本文详细介绍了基于音圈电机的泰伯光刻机Z向运动控制系统的设计方案以及相关实验。第一章介绍了研究的背景和意义,对运动控制系统进行分析,提出采用音圈电机作为执行器的设计方案;第二章分析了音圈电机的数学模型,在此基础上建立音圈电机的控制模型,分析了叁阶S型速度曲线规划算法并进行优化;第叁章介绍运动控制板卡硬件电路设计的原理以及过程;第四章介绍控制系统的软件设计,包括FPGA程序设计、DSP程序设计以及上位机控制界面软件设计。第五章搭建实验平台对系统的定位精度和匀速运动性能进行测试,实验结果显示,在空载情况下,该平台重复定位精度为0.563μm,当增加0.5kg的负载情况下,系统重复定位精度为0.667μm,满足设计要求的1μm;同时对系统在低速、中速、高速叁种速度匀速运动情况下时间位移图进行分析,结果显示,在这叁种速度模式下,均可以实现稳定的运动。将该运动系统嵌入到实验室已有的URE-2000/35光刻机中进行曝光测试,实验结果显示,该运动平台基本达到预期的要求;最后对本文进行总结,并对下一步需要进行的工作进行展望。(本文来源于《中国科学院大学(中国科学院光电技术研究所)》期刊2017-05-17）
廖风茂[4]（2017）在《EUV光刻污染控制技术研究及实验平台设计》一文中研究指出集成电路的快速发展促进了光刻机的更新换代,极紫外光刻技术在下一代光刻技术的竞争中逐渐脱引而出。污染隔离与控制是EUV技术的核心,本文围绕动态气体锁污染抑制性能展开研究,研究了动态气体锁污染抑制的一般规律,验证了动态气体锁污染控制的可行性。本文主要工作与结论如下:本文通过分析EUV光刻机对污染的要求,提取出了实验平台的污染控制需求,并完成了原理方案设计。采用模块化设计方法,将实验平台划分为污染及曝光模块、硅片传输模块和大气模块,完成了结构设计。在实验平台设计中,采用两种抽真空方式,实现真空度要求,提高了结构紧凑性。根据仿真结果,优化设计了动态气体锁,提高了其污染抑制效果。基于分子假设,采用蒙特卡洛方法,研究了动态气体锁污染抑制特性。分析了氢气、氦气、氩气和氮气这四种清洁气体对污染气体的抑制效果,氩气为最优清洁气体,清洁气体流量与动态气体锁污染抑制率满足对数关系,并随着流量的增加污染抑制率也随之增加,但抑制率增长趋势减缓,清洁气体注入位置靠近动态气体锁下出口能有效提高动态气体锁污染抑制率,也可有效提高腔室内部流场的稳定性。通过仿真分析,验证了动态气体锁真空污染控制的可行性,给出动态气体锁具体设计参数,为结构设计提供理论依据。本文所设计的EUV光刻实验平台设计,可基于此进行EUV污染抑制等多种相关实验,达到了设计要求。该实验平台能够为EUV提供良好的工作环境,填补了国内EUV装备的设计及研究空白,可为其他EUV设备提供设计及研究基础。(本文来源于《华中科技大学》期刊2017-05-01）
万勇利[5]（2016）在《闭环迭代学习策略及其在光刻机精密运动平台中的应用》一文中研究指出光刻机精密运动平台系统是工件台控制系统的核心部分,大体包括晶圆的步进扫描曝光和旋转换台两个部分。对这两部分的系统控制将极大地决定了光刻机的刻制精度和刻制效率。因此,本文围绕精密运动平台系统展开研究工作,对步进扫描曝光和旋转换台两个运动过程展开分析。首先,简单分析了光刻机的整体结构,对工件台系统的结构以及宏动电机的分布情况有一个大体的把握。对步进扫描运动和换台运动进行了详细地分析,弄清了两个过程的动作要点和运动流程。其次,提出对步进扫描运动和旋转换台运动两个控制过程进行迭代学习控制(即Iterative learning Control,简称ILC)。对闭环PID型ILC系统的控制律和结构进行了介绍分析,仿真得出这种控制策略对控制目标的跟踪特性有很好的改善。为了提高ILC系统的收敛速度,提出应用高阶闭环迭代做控制,仿真可得这种控制策略具有不错的收敛速度。然后,对高阶闭环迭代学习控制进行了扰动抑制仿真,得出系统对周期性干扰有很好抑制作用,对非周期性干扰抑制能力不强。再次,根据前面的ILC系统对非周期性扰动抑制能力不强的特点,提出应用带遗忘因子的高阶闭环迭代系统。针对α系数的调整,设计不断修整初始修正项U0的控制方法。搭建SIMULINK进行仿真,得出这种方案仍有很好的跟踪特性与学习收敛速度。对系统进行非周期性力的扰动和测量信号的扰动的抑制仿真,得出:遗忘因子高阶闭环迭代系统对非周期性扰动有很好的抑制能力。分析系统扰动后的恢复速度,提出采用闭环PID迭代学习对扰动进行抑制过渡的方法,仿真可得:改进后的控制策略较之前的系统相比提高了系统受扰动后的恢复能力。最后,将迭代学习控制应用于步进扫描运动中X向电机的步进运动和Y向电机的同步控制中,设计系统的控制程序流程图,编写控制程序。同样,对旋转换台运动中的公转电机应用ILC系统,设计控制流程图并编写控制程序。在光刻机实验平台进行了迭代学习控制实验,采集实验数据,分析实验结果,验证了迭代学习控制对系统性能的改善。(本文来源于《哈尔滨工业大学》期刊2016-06-01）
焦庆斌[6]（2015）在《小顶角平台硅中阶梯光栅光刻胶掩模制备工艺研究》一文中研究指出为降低硅中阶梯光栅制作工艺中顶角平台对光栅衍射效率的影响,提出了"紫外曝光-倒置热熔"结合法用于制备具有小占宽比的光刻胶掩模,对中阶梯光栅设计、硅基片准备以及光刻胶掩模制备等环节进行了研究。AFM测试结果表明,可以制备占宽比为1∶5的光刻胶掩模,远远超出光栅理论设计中对顶角平台尺寸的要求。(本文来源于《长春工业大学学报》期刊2015年03期）
范文超,陈兴林,王斌,魏凯[7]（2015）在《光刻机运动平台系统的模型辨识》一文中研究指出针对机械谐振对超精密光刻系统的影响,对包含有机械谐振的光刻机宏微运动平台进行辨识来抑制机械谐振。首先建立单自由度宏微耦合运动模型和谐振模型,然后基于递阶辨识原理对机械谐振模型进行分段辨识,最后基于谐振模型设计陷波器,抑制机械谐振。试验结果证明,该方法有效抑制了宏微平台的机械谐振,大幅提高了系统的动态响应性能。(本文来源于《自动化仪表》期刊2015年05期）
齐克奇[8]（2012）在《光刻物镜波像差检测平台针孔对准装置的研制》一文中研究指出针对光刻物镜波像差检测平台上的针孔定位的需求,设计了一种并联式二维微定位机构,并对该装置的结构特点进行了讨论。该结构具有良好的自解耦功能和较低温度敏感度。并通过有限元方法对针孔定位装置在受力状态下的变形情况进行了模拟,并进行了模态分析,证实了该针孔定位装置具有的特性能够很好地满足光刻物镜波像差检测的针孔定位需求。(本文来源于《长春理工大学学报(自然科学版)》期刊2012年04期）
齐克奇,向阳[9]（2012）在《光刻物镜波像差检测平台移相装置的研制》一文中研究指出针对基于剪切干涉原理的光刻投影物镜波像差检测设备中相移测量的需求,设计了一种移相装置.该装置采用了桥式放大机构,获得了较大放大比和相对紧凑的结构.从原理上对桥式放大机构进行了分析和讨论,得到了输入位移与其放大比之间的函数关系,并得到了其关系曲线.经过非线性有限元分析,对该装置的变形、受力和模态特性进行了验证.验证结果满足检测平台移相要求.(本文来源于《光子学报》期刊2012年12期）
闫华星[10]（2012）在《双工件台光刻机虚拟现实叁维仿真平台设计》一文中研究指出光刻技术与半导体集成电路地位的日益突出，而仿真对光刻机新型样机的研发与集成电路的生产意义重大，高质量的仿真技术可以缩短开发周期降低研究成本提高光刻机性能进而增强集成电路的生产质量为了克服传统半物理仿真平台可视化的局限性，本文以国家科技专项ǎ光刻机样机研发为背景，开发了高真实感双工件台光刻机虚拟现实三维仿真平台首先，针对双工件台光刻机虚拟现实仿真平台所需实体建模问题，重点分析了基于图像空间基于离散矢量与直接实体造型算法，使用结合B-rep与CSG的HybridModeling直接实体混合造型算法对光刻机掩模台系统双工件台系统的运动参考部件叁维实体进行创建，在此基础上，通过实验研究了系统零件的简化建模方法，对比分析了其模型建立效果，采用布尔运算法，实现了零件实体建模讨论了系统零部件的装配方案，在Pro/ENGINEERING Wildlife中完成了掩模台双工件台系统的零件与运动参考部件相对空间位置的装配其次，详细分析了虚拟现实场景仿真过程中光刻机掩模台双工件台系统宏动微动运动状态与其各个执行机构之间的耦合关系，基于现实的运动关系并结合叁维模型结构对空间中运动的掩模台工件台微动台各个自由度与各个执行电机之间运动关系进行了探讨研究了光刻机虚拟现实叁维仿真平台场景的设计方案，在OpenInventor系统中实现了叁维场景的创建，零件与定位部件实体逻辑位置的装配，并利用光刻机系统运动关系的分析结果，完成了运动控制与交互接口以及仿真平台本地数据文件读取与存储功能设计，分析了在线实时仿真通信模块的开发方案最后，综合使用光刻机掩模台双工件台系统叁维实体模型各零件宏动微动运动关系分析结果仿真平台及其在线离线连接设计方案，实现了双工件台光刻机虚拟现实叁维仿真平台及其本地文件读写的开发，使用基于消息机制的异步套接字模式设计了仿真平台自身的客户端网络通信模块网络通信模块，并对该叁维仿真平台做了部分优化(本文来源于《哈尔滨工业大学》期刊2012-07-01）
光刻平台论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
目前我国高校开展的光刻教学课程主要集中在加工原理方面,普遍缺乏配合理论知识学习的实际工艺操作实验。大连理工大学国家级示范性微电子学院自主设计、搭建了光刻实验平台以满足学生学习实践的需要。介绍了光刻实验平台系统的设备模块构成以及知识体系,开展实验的前期准备、课堂组织、注意事项。此外,给出了部分结果,分析了课程实施的主要困难与解决方案。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
光刻平台论文参考文献
[1].梁明尧.基于线性CCD自适应成像的光刻机平台调平方法研究[D].电子科技大学.2019
[2].王奇,刘勐,汪家奇.光刻系统实验教学平台搭建及课程开展[J].实验室科学.2017
[3].姚靖威.泰伯光刻机Z向运动平台控制系统研究[D].中国科学院大学(中国科学院光电技术研究所).2017
[4].廖风茂.EUV光刻污染控制技术研究及实验平台设计[D].华中科技大学.2017
[5].万勇利.闭环迭代学习策略及其在光刻机精密运动平台中的应用[D].哈尔滨工业大学.2016
[6].焦庆斌.小顶角平台硅中阶梯光栅光刻胶掩模制备工艺研究[J].长春工业大学学报.2015
[7].范文超,陈兴林,王斌,魏凯.光刻机运动平台系统的模型辨识[J].自动化仪表.2015
[8].齐克奇.光刻物镜波像差检测平台针孔对准装置的研制[J].长春理工大学学报(自然科学版).2012
[9].齐克奇,向阳.光刻物镜波像差检测平台移相装置的研制[J].光子学报.2012
[10].闫华星.双工件台光刻机虚拟现实叁维仿真平台设计[D].哈尔滨工业大学.2012
论文知识图
