论文摘要
嵌段共聚物纳米刻蚀技术因具有易大批量生产的优点,在集成电路硅片、生物芯片等技术领域引起了广泛的关注。本研究进一步改进了该技术,通过旋涂得到嵌段共聚物自组装模板,然后通过湿式腐蚀在硅表面上形成相应的点阵状SiHx纳米坑,进而生成聚合物刷的纳米点阵结构。用原子力显微镜对每一步的形貌进行了拍摄,用多次透射-反射红外光谱对每一步的表面分子结构进行了表征。此外,根据所观察到的树突状结构,提出了聚合物刷树突状生长和扩散受限聚集的生长机理。
论文目录
文章来源
类型: 期刊论文
作者: 路小彬
关键词: 嵌段共聚物自组装,湿式腐蚀,纳米坑,聚合物刷点阵
来源: 材料导报 2019年S1期
年度: 2019
分类: 工程科技Ⅰ辑
专业: 有机化工
单位: 黔南民族师范学院化学化工学院
基金: 贵州省普通高等学校科技拨尖人才支持计划(黔教合KY字[2016]109),黔南州科技局工业科技计划(黔南科合工字(2016)1号),黔南民族师范学院引进高层次人才研究专项项目(qnsyrc201616),黔南民族师范学院校企合作成果转化培育基金(QNSY2018CG007)~~
分类号: TQ317
页码: 505-509
总页数: 5
文件大小: 4681K
下载量: 35
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标签:嵌段共聚物自组装论文; 湿式腐蚀论文; 纳米坑论文; 聚合物刷点阵论文;