电子级磷酸研发现状及芯片级磷酸展望

电子级磷酸研发现状及芯片级磷酸展望

论文摘要

由于液晶显示器(LCD)工业和半导体芯片工业在中国迅速普及,用于清洗和蚀刻的电子级磷酸的需求正在日益增加,对磷酸中金属离子含量的要求也越来越高,为满足中国对电子级磷酸的需求,此方向成为许多研究学者研究的重点。本文介绍了近年来电子级磷酸的研发现状,以及在LCD工业和半导体芯片工业的应用,并对芯片级磷酸进行了展望。

论文目录

  • 1 高纯电子级磷酸的产品标准以及检测方法
  •   1.1 电子级磷酸的标准
  •   1.2 检测方法[5]
  • 2 电子级磷酸的制备
  •   2.1 热法制备
  •     2.1.1 高纯磷氧化法[5]
  •     2.1.2 五氧化二磷水合法[6]
  •     2.1.3 POCl3水解法[7]
  •   2.2 湿法制备[8]
  •   2.3 磷酸的净化精制
  •     2.3.1 冷却结晶法[12]
  •     2.3.2 熔融结晶法[13-14]
  •     2.3.3 电渗析法[15]
  • 3 电子级磷酸的主要应用
  •   3.1 在TFT-LCD产业的应用
  •   3.2 在IC行业中的应用
  •     3.2.1 氮化硅层 (Si3N4) 蚀刻[17]
  •     3.2.2 铝导线蚀刻[18-19]
  • 4 未来展望
  • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 范相虎,周聪,袁军,郭嘉

    关键词: 电子级磷酸,制备,应用,芯片级

    来源: 粘接 2019年05期

    年度: 2019

    分类: 工程科技Ⅰ辑,信息科技

    专业: 无机化工,无线电电子学

    单位: 武汉工程大学绿色化工过程教育部重点实验室

    分类号: TN405;TQ126.35

    页码: 61-64

    总页数: 4

    文件大小: 1496K

    下载量: 180

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