Sb掺杂ZnO单晶薄膜的结构和光学性能研究

论文摘要

采用射频等离子体辅助分子束外延法制备高品质ZnO单晶薄膜,利用离子注入技术向ZnO单晶薄膜中注入不同注量的Sb离子,并对样品进行了氧气氛退火处理.利用高分辨双晶X射线衍射技术、RBS背散射/沟道技术以及低温光致发光光谱测试对注入Sb离子后样品的结构和光学性能进行了表征,结果表明:低注量下注入离子对ZnO薄膜结晶品质影响不大,带边发光稍有减弱;当掺杂注量达到1015cm-2时,离子注入产生了一定量的晶格损伤,同时带边发光被完全抑制.氧气氛下退火后ZnO薄膜发光恢复,带边发光峰主要为受主能级和锌空位发光,表明退火后在ZnO单晶薄膜中形成了(SbZn-2VZn)受主缺陷复合体,有望通过Sb掺杂实现ZnO的p型转化.

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文章来源

类型: 期刊论文

作者: 原苗苗,杨娅,英敏菊

关键词: 离子注入技术,薄膜,晶体结构,光致发光特性

来源: 北京师范大学学报(自然科学版) 2019年03期

年度: 2019

分类: 基础科学,工程科技Ⅰ辑,工程科技Ⅱ辑

专业: 无机化工,材料科学,工业通用技术及设备

单位: 北京师范大学核科学与技术学院,北京师范大学射线束技术教育部重点实验室

基金: 国家自然科学基金资助项目(111875088)

分类号: TQ132.41;TB383.2

DOI: 10.16360/j.cnki.jbnuns.2019.03.007

页码: 336-340

总页数: 5

文件大小: 1166K

下载量: 103

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