导读:本文包含了等离子体辅助镀膜论文开题报告文献综述、选题提纲参考文献及外文文献翻译，主要关键词:等离子体,离子束,光学,薄膜,离子,方法,论文。
等离子体辅助镀膜论文文献综述
尤大伟,李安杰,江建国,武建军,黄小刚[1]（2002）在《走向光学工业应用的辅助镀膜霍尔等离子体源》一文中研究指出论述了霍尔等离子体源的工作原理 ,讨论并测试了该源最佳的磁场及分布。本设计采用永久磁铁并利用极靴产生发散磁场 ,及沿轴向有较大梯度的磁场 ,还给出了束流均匀区实测结果及工业应用初步结果(本文来源于《核技术》期刊2002年09期）
尤大伟,黄小刚,武建军[2]（2001）在《用于辅助镀膜的霍尔等离子体源》一文中研究指出论述了该源的工作原理 ,讨论并测试了该源最佳的磁场及分布。设计采用了永久磁铁并利用极靴产生发散磁 ,沿轴向有较大梯度的磁场 ,又称该源为端部霍尔加速器。最后给出了束流及均匀区实测结果(本文来源于《光学仪器》期刊2001年Z1期）
尤大伟,黄小刚,武建军[3]（2001）在《用于辅助镀膜的霍尔等离子体源》一文中研究指出上个世纪八十年代以来,人们在制造高质量的光学薄膜时,更加重视等离子体离子的动量传递的辅助作用,它对改进膜的附着力、致密度、吸收度、折射率、结晶结构都大有益处。 目前普遍使用的有栅考夫曼或射频离子源,无栅的APS源均具有控制精确、能量单色性好及束发散角小的优点。但又具有结构复杂、体积庞大的缺点。在电推进技术地面应用的发展过程中考夫曼发展了无栅霍尔源技术,它很适合辅助镀膜工艺,其特出的特点是小型化,结构紧凑、易于拆装;只需二个简单的电源就可以产生满足辅助镀膜所需要的低能(平均能量40-150ev)、大束流(200-1000ma)、大均匀区(40cm)。为了满足光学辅助镀膜的需要,我们设计制造了6cm霍尔等离子体离子源。该源主要性能如下: 源尺寸(直径×长度)φ14cm×14cm;真空室直径φ50-100cm;照射距离30-50cm;离子束平均能量40-120ev;离子束流可到 400ma;工作压力<3×10~(-4)Torr;磁场:永久磁铁;气体流量5-10 Sccm。 该源具有较大的能散度及较大的发散角,此外工作的稳定性要受工作气压的影响。 本文论述了该源的工作原理,讨论并测试了该源最佳的磁场及分布。本设计拟采用永久磁铁并利用极靴产生发散,沿轴向有较大梯度的磁场。由于在磁场的平行及垂直方向的电导率差别有几十倍,造成了电位分布类似于磁力线的分布。离子在该电位分布造成的电场作用下向轴中心加速。又由于沿轴向存在较强的磁场梯度,在环状的霍尔电流作用下,造成了沿轴向的电场,会造成离子沿轴向加速。这就是称该源为端部霍尔加速器的由来。 本文最后给出束流及均匀区实测结果。(本文来源于《'2001全国荷电粒子源、粒子束学术会议论文集》期刊2001-11-01）
范卫星,郝尧,卢玉村,陈建国[4]（1994）在《等离子体辅助镀膜》一文中研究指出本文介绍了等离子体辅助镀膜技术以及相应的高真空等离子体源。这种新型等离子体源属于空心冷阴极结构，工作气压在１×１０￣（－３）ｐａ～１０￣（－１）ｐａ，它的最大优点在于能够直接电离氧化性气体而不烧毁阴极。采用探针法测定了氩等离子体中辅助离子的能量范围在５０～８０ｅＶ之间，并在氩气、氧气的等离子体中分别沉积了单层ＺｎＳ薄膜和ＳｉＯ＿２薄膜。实验结果表明，生成的薄膜具有良好的光学和机械性能。(本文来源于《激光技术》期刊1994年01期）
等离子体辅助镀膜论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
论述了该源的工作原理 ,讨论并测试了该源最佳的磁场及分布。设计采用了永久磁铁并利用极靴产生发散磁 ,沿轴向有较大梯度的磁场 ,又称该源为端部霍尔加速器。最后给出了束流及均匀区实测结果
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
等离子体辅助镀膜论文参考文献
[1].尤大伟,李安杰,江建国,武建军,黄小刚.走向光学工业应用的辅助镀膜霍尔等离子体源[J].核技术.2002
[2].尤大伟,黄小刚,武建军.用于辅助镀膜的霍尔等离子体源[J].光学仪器.2001
[3].尤大伟,黄小刚,武建军.用于辅助镀膜的霍尔等离子体源[C].'2001全国荷电粒子源、粒子束学术会议论文集.2001
[4].范卫星,郝尧,卢玉村,陈建国.等离子体辅助镀膜[J].激光技术.1994
论文知识图
