导读:本文包含了表面刻蚀论文开题报告文献综述、选题提纲参考文献及外文文献翻译,主要关键词:疏水,表面,激光,法拉第,石墨,金刚石,化学。
表面刻蚀论文文献综述
刘韬,底月兰,王海斗,刘莹,王乐[1](2019)在《化学刻蚀法制备金属超疏水表面的方法及机理研究》一文中研究指出超疏水表面应用广泛,价值巨大。构筑超疏水表面的方法众多,化学刻蚀具有方法简单、效果显着的特点。针对金属表面,研究刻蚀液成分、溶液配比及反应条件对材料疏水性能的影响以及低表面能修饰方法与机理。从Wenzel、Cassie基础理论模型展开,综述了不同的固-液接触状态及疏液机理,通过SEM图与关系曲线图,直观地展示了刻蚀方法与刻蚀反应条件对试样表面微观形貌与宏观疏水性能的影响。从理论分析的角度阐述了表面微结构形貌以及尺寸参数对于静态、动态疏水性能的影响。针对用于低表面修饰的修饰剂与官能团,对其修饰效果与修饰机理进行了说明。在此基础上,针对该方法目前存在的问题进行总结和梳理,并对刻蚀后表面疏水性能稳定性在不同情况下出现波动的原因进行深入分析。(本文来源于《表面技术》期刊2019年11期)
徐雷秋,万晓峰,董菁,宋德宝,韦科权[2](2019)在《盐酸-激光复合刻蚀+SA修饰制备镁合金表面超疏水结构的耐腐蚀性能》一文中研究指出采用盐酸-激光复合刻蚀+十八烷酸(SA)修饰工艺,在抛光态AZ91镁合金表面制备超疏水结构,研究了其表面形貌、润湿性能和耐腐蚀性能。结果表明:复合刻蚀后,镁合金表面形成了一种以微米尺度的点状凹坑以及紧密且有序排列的凸起结构为主的粗糙结构,再经SA修饰后,形成了微纳米级复合粗糙结构;复合刻蚀+SA修饰后的表面呈现超疏水性,且表现出良好的抗水滴黏附性能;与抛光态镁合金相比,复合刻蚀+SA修饰所得超疏水镁合金的自腐蚀电位提高,自腐蚀电流密度下降,显示出良好的耐腐蚀性能;在3.5%(质量分数)NaCl溶液中浸泡24h后,该超疏水表面未发现明显的腐蚀迹象。(本文来源于《机械工程材料》期刊2019年10期)
刘湘祁,尹建成,林正得[3](2019)在《铜箔表面化学刻蚀预处理对CVD法制备石墨烯的影响》一文中研究指出铜箔上的杂质在化学气相沉积法(CVD)制备石墨烯的过程中会形成氧化物颗粒,导致所制得的石墨烯质量降低。为解决这一问题,可以在CVD生长石墨烯之前对铜箔表面进行预处理来去除铜箔表面杂质并降低铜箔粗糙度。本研究使用过硫酸铵溶液和稀醋酸溶液分别对铜箔表面进行轻微刻蚀,以此作为预处理手段,研究其对CVD生长制备石墨烯的影响,并对铜箔和石墨烯使用拉曼光谱和霍尔效应测试等方法进行表征。研究发现这一化学预处理可以有效去除铜箔表面杂质,从而使制备得到的石墨烯电学性能得到改善,质量显着提高。(本文来源于《材料科学与工程学报》期刊2019年05期)
马玉平,魏超,张遥,李翔,陈雪辉[4](2019)在《飞秒激光刻蚀对纳米金刚石薄膜表面微观特性的影响》一文中研究指出利用飞秒激光对纳米金刚石涂层进行刻蚀试验,通过改变激光的重复频率,输出功率以及焦点扫描速度,研究不同的激光加工参数对金刚石涂层烧蚀结果的影响。利用白光干涉仪器、SEM、拉曼光谱仪研究了飞秒激光刻蚀后涂层表面微观粗糙度、微观形貌以及碳相结构变化。采用面积推算法计算出扫描速度1 mm/s,有效脉冲数为90时的烧蚀阈值。结果表明:金刚石涂层表面飞秒激光诱导的条纹状结构周期(LIPSS)接近飞秒激光波长,改变飞秒激光重复频率对涂层表面形貌修饰影响不大;由于烧蚀饱和作用,飞秒激光功率增加至80 mW过程中涂层表面微观粗糙度持续减小随后维持在325 nm左右;激光扫描速度的增大可使LIPSS特征消失,当扫描速度增加至1.4 mm/s后,涂层表面微观粗糙度不再继续降低而是随着速度的增大而增大。激光诱导的金刚石涂层表面石墨化程度越高,涂层表面微观粗糙度则越低;当有效脉冲数为90时纳米金刚石薄膜的飞秒激光烧蚀阈值为0.138 J/cm2。(本文来源于《中国表面工程》期刊2019年03期)
张宝花,张进涛[5](2019)在《氧化还原刻蚀铜表面对二氧化碳电催化还原性能的研究》一文中研究指出大规模化石燃料的使用排放了大量的二氧化碳(CO_2),导致环境中二氧化碳的含量急剧增加.为了降低大气中二氧化碳的含量,以电催化的方法将二氧化碳转化为有用的化工原料和燃料是解决能源和环境问题的重要途径.本文主要利用氧化还原刻蚀法,在铜表面形成复合纳米结构,用于二氧化碳的电催化还原反应研究.首先,作者通过一定浓度的叁氯化铁(FeCl_3)溶液与铜片的氧化还原反应,在刻蚀铜表面时形成具有立方体结构的氯化亚铜纳米材料,用于二氧化碳的电催化还原反应.为了研究反应时间对催化性能的影响,作者通过改变反应时间(1、2、3和4 h)合成了不同结构的铜基催化剂.研究发现,在反应3 h后,Cu-3h催化剂对二氧化碳的电催化还原具有较小的起始电压(-0.3 V vs. RHE)和较大的电流密度值,表现出了较强的还原能力.经检测,所得到主要还原产物为一氧化碳(CO)和甲烷(CH_4).在-0.6 V时,二氧化碳催化还原的法拉第效率可达到60%,表明以氧化还原法刻蚀铜表面具有较好的改善二氧化碳电催化还原的能力.(本文来源于《电化学》期刊2019年04期)
皇甫志杰,郝尚,张维[6](2019)在《复合无氟修饰与碱刻蚀协同制备涤纶织物超疏水表面》一文中研究指出基于荷叶超疏水仿生理念,通过碱刻蚀和无氟疏水剂复合修饰的方法制备超疏水涤纶织物表面,探讨碱刻蚀工艺参数和叁种无氟疏水剂的复合使用对织物超疏水效果的影响。结果表明:在碱质量浓度30 g/L、处理时间10 min、反应温度90℃的条件下,以十六烷基叁甲氧基硅烷和十二烷基叁甲氧基硅烷复合使用处理涤纶织物,可实现超疏水效果,其中静态接触角为152.45°,滑移角为5°,透气率为90.06 mm/s,透湿率为2 993.64 g/(m2·24 h),制备的织物具有良好的耐洗和耐污性能。(本文来源于《印染》期刊2019年11期)
章金兵[7](2019)在《多晶硅表面的酸刻蚀制绒及金刚石切割多晶硅片的表面预处理改性研究》一文中研究指出太阳能电池普遍采用表面化学刻蚀制绒以减少光反射。在现有的可规模化应用的多晶硅太阳电池制绒技术中,常规HF/HNO_3/H_2O酸刻蚀方法因其具有制绒成本低、绒面制备效果稳定的优势,是当前应用最广泛的制绒技术。但当该方法应用在金刚石线锯切割的多晶硅片制绒时却遭遇障碍,制绒后硅片表面反射率偏高且其显眼的切割纹也无法消除。金刚石线锯切割技术与传统的砂浆线锯切割相比,具有切割效率高、切割损耗少、节能环保及加工成本低等优势。为了推进金刚石切割多晶硅片的产业化进程,需考虑利用现有湿法酸制绒设备及工艺条件的基础上开发出新的低成本的配套制绒工艺,以期解决金刚石切割多晶硅片的制绒问题,从而使多晶硅片保持其应有的低成本、高效率的市场优势。本文系统地研究了多晶硅片在HF/HNO_3/H_2O溶液中的刻蚀反应过程,并在此基础上研究采用物理或机械等方法开发出针对金刚石切割多晶硅片的预处理技术,以改善金刚石切割多晶硅片的表面状态,使之达到酸制绒工艺的反应条件并制备出较佳的绒面结构。主要完成了以下几个方面的研究内容。1)研究了多晶硅片的刻蚀反应过程,分析探讨了HF/HNO_3/H_2O体系中溶液配比、刻蚀反应时间、传质速率及硅片表面状态对绒面结构形成的影响。实验结果显示,不同刻蚀液溶液配比会影响酸腐蚀反应过程的可控性及硅片表面的择优腐蚀作用;刻蚀反应过程中硅片表面绒面结构尺寸随时间呈现先增大后减少的趋势,需精确控制刻蚀反应时间使之形成深浅合适的绒面坑;刻蚀过程中溶液粘度等因素会影响反应物及生成物的传质过程,并进而影响硅片的腐蚀速率和蚀坑形貌;多晶硅片的表面损伤缺陷结构越多的区域具有更高的反应活性,更易发生刻蚀反应形成凹坑结构。2)金刚石切割多晶硅片表面呈现密集的划痕及不均匀的损伤结构分布,其表面光滑区为致密的非晶硅结构,具有耐酸腐蚀的特性。这些表面特征决定了其难以在HF/HNO_3/H_2O酸腐蚀体系中刻蚀出理想的绒面结构。3)研究采用超声砂磨方法预处理金刚石切割多晶硅片,可在硅片表面产生类似砂浆切割多晶硅片的表面损伤结构分布。预处理后的硅片经常规酸腐蚀液刻蚀的绒面形貌也与砂浆切割多晶硅片相似,其光反射率(600nm处)绝对值较未处理的金刚石切割多晶硅片降低了约3%。4)研究采用相变方法预处理金刚石切割多晶硅片,可实现金刚石切割多晶硅片表层光滑区的非晶相完全转变成晶体相。经相变预处理后,金刚石切割多晶硅片与HF/HNO_3/H_2O酸刻蚀溶液反应更为容易,且随后在刻蚀深度、绒面形态及光反射率等性能方面与原始未经处理的金刚石切割多晶硅片有显着差异。基于相变预处理的金刚石切割多晶硅片的太阳能电池平均效率可达到18.62%,接近砂浆切割多晶硅片的18.70%,比原始金刚石切割多晶硅片的18.47%高出约0.15%。该方法将有望为金刚石切割多晶硅片的酸刻蚀制绒提供一条具有应用前景的技术路线。(本文来源于《南昌大学》期刊2019-05-23)
冯光[8](2019)在《激光刻蚀制备超疏水声学超表面基础研究》一文中研究指出声学超表面具备平面、超薄等独特物理特性及对声波的灵活调控能力,在降噪隔振、隐身技术、非接触操控物体等诸多声学领域具有重要的应用前景。带有超疏水特性的声学超表面,其声学调控性能和机理尚无研究报道。本文基于激光刻蚀制备技术,设计并制备了一种十字型微沟槽的超疏水声学超表面,通过自主搭建平台测试了其水下声学传播性能。主要研究工作包括:1、利用紫外激光器在玻璃纤维增强塑料(GFRP)表面刻蚀十字沟槽图案,然后用叁甲氧基甲硅烷进行旋涂,在170°加热30分钟,得到声波超吸收的超疏水结构。测试结果表明,GFRP超疏水声学超表面在频率为50kHz到250kHz的范围内对声波的吸收系数达到88%以上,分析其物理机制主要是水与超疏水微观结构之间空气层诱导的多重界面散射效应。2、设计了一种由固定在铝板上的薄膜和附着在其上表面的铜质量块组成的膜共振结构声学超表面。采用不同的激光刻蚀间距后,经过化学改性得到具有不同超疏水/亲水的铜表面,产生不同的附着力表面。测试结果表明,铜表面的附着力越大,膜共振结构的透射系数越大。通过改变铜块的表面润湿性,可以实现对其水下振荡模式的进一步调制。本文研究成果展示了激光制备图形化超疏水声学超表面在水下声学领域的应用潜力,为水下声学超材料的工程应用提供一条新的技术途径。(本文来源于《温州大学》期刊2019-05-01)
苑国祥,姜绶祥,Domenico,Luzzi[9](2019)在《激光表面刻蚀处理在毛涤混纺织物上的应用》一文中研究指出激光表面刻蚀作为一种非接触的方式,激光光束可以融化、气化并刻蚀织物表面,而不用水和化学品。文中探讨激光表面刻蚀技术作为可持续的表面处理技术对羊毛和涤纶混纺纺织品进行表面处理,探讨激光处理条件(分辨率和处理时间)对织物性能的影响,并研究了激光刻蚀处理在织物表面设计中的应用。结果表明,随着激光处理能量的增加,毛涤混纺织物的克质量、透气性、撕裂强度均呈有规律的递减趋势;通过计算机辅助过程,经过激光处理后,毛涤混纺织物上可呈现出独特的具有深浅变化效果的图案和外观;激光表面处理是一种环保的、实用的并具有高质量的纺织品处理方式,可以作为一种设计工具对纺织品和织物进行处理。(本文来源于《针织工业》期刊2019年04期)
钟豪[10](2019)在《晶体硅表面的刻蚀与元素掺杂及其物理效应》一文中研究指出晶体硅(C-Si)具有来源丰富、成本低廉和工艺成熟等优点,在微电子和光电子行业被广泛使用。然而,受制于自身反射率高且禁带宽度大等局限,导致基于晶体硅的传统光电探测器存在光谱响应范围有限、灵敏度低、近红外探测能力不足的问题。S掺杂微纳结构硅是一种新型的人造硅材料,具有低反射、高吸收、宽光谱的特点,为突破传统硅基光电探测器性能瓶颈提供了可能。目前,采用有效、可控的手段对晶体硅表面进行刻蚀和元素掺杂,仍然是光学工程领域的研究热点之一。本文采用多种刻蚀与掺杂工艺,结合材料性能表征手段,对S掺杂微纳结构硅的表面形貌、光学特性、电学特性与表面态缺陷等,进行了深入的研究和相应的机理探索,并将优化后的S掺杂微纳结构硅材料应用于宽光谱高灵敏新型Si-PIN光电探测器的研制。具体内容及结果可概括如下:(1)采用先刻蚀后掺杂的二步法工艺制备S掺杂微纳结构硅,其中刻蚀方法为金属催化酸腐蚀(MCE)和深槽反应离子刻蚀(DRIE),掺杂方法为等离子体浸没离子注入(PIII)。结果表明,随着镀银时间和刻蚀时间的增加,MCE微纳结构硅表面结构的纵横比逐渐变大、电极接触特性逐渐变差;当镀银时间为60 s、刻蚀时间为45 min时,获得了均匀分布的纳米尖锥状结构,在400~2000 nm范围内平均吸收率达到80.3%。随着掩膜尺寸与工艺循环次数的增加,DRIE微纳结构硅表面结构的纵横比和吸收率逐渐增大,当掩膜直径为4μm、圆心距为10μm、工艺循环为100次时,能够得到柱体垂直光滑无毛刺的圆柱形周期阵列,在400~2000nm范围内平均吸收率达到69.1%,但与Ag/NiCr的接触特性变差。经过S元素离子注入后,上述两种微纳结构硅的峰值吸收红移,对近红外光(1100~2000 nm)的吸收明显增强。(2)采用飞秒激光烧蚀一步法工艺制备S掺杂微纳结构硅,研究了激光能量密度、激光扫描速度、加工气体氛围等对材料表面形貌和光电性能的影响。结果表明,只有在SF_6气氛条件下晶体硅表面才会形成均匀分布的尖锥状微结构,在2.41 kJ/m~2~7.22 kJ/m~2范围内,随着激光能量密度的增加,尖锥顶端直径、高度和间距都会逐渐变大,当激光能量密度为4.81 kJ/m~2时,平均吸收率在400~2000 nm范围内达到了94%,激光能量密度过低或者过高都会使微纳结构硅的光电性能变差;在4.0 mm/s~0.5 mm/s范围内,随着激光扫描速度的降低,微纳结构硅表面结构的纵横比逐渐变大、平均吸收率逐渐提高、电极接触特性逐渐变差,综合考虑采用1.0 mm/s的扫描速度具有最佳应用价值。(3)无论是采用二步法还是一步法工艺制备S掺杂微纳结构硅,都会在晶体硅表面引入缺陷和杂质,其中飞秒激光烧蚀工艺在晶体硅表面引入的缺陷最少,DRIE刻蚀结合PIII掺杂工艺次之,MCE腐蚀结合PIII掺杂工艺最多。通过采用多种薄膜钝化方案来调控晶体硅表面态缺陷,结果表明,SiO_x/SiN_x、SiO_x/Al_2O_3双层钝化薄膜能充分发挥各自优势,同时起到化学钝化和场效应钝化作用,降低晶体硅表面缺陷态密度,对于提高S掺杂微纳结构硅的少子寿命,效果明显。(4)在SF_6气氛下采用优化后的飞秒激光烧蚀工艺制备S掺杂微纳结构硅,结合SiO_x/SiN_x双层薄膜钝化工艺,基于4英寸wafer级产品线,进行了正照式和背照式两种新型Si-PIN光电探测器的研制。结果表明,两种新型Si-PIN光电探测器的光谱响应范围明显拓宽,峰值响应红移,在1060 nm波长处响应度分别达到0.53 A/W和0.57 A/W,近红外探测能力得到明显增强,同时具备暗电流低(<1 nA)、响应速度快(<30 ns)、工作温度范围宽(-25℃~+60℃)等特点,综合性能可与日本滨松公司硅基探测器同类产品媲美,打破了国外技术和产品封锁。(本文来源于《电子科技大学》期刊2019-04-01)
表面刻蚀论文开题报告
(1)论文研究背景及目的
此处内容要求:
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景,再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题,并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例:
采用盐酸-激光复合刻蚀+十八烷酸(SA)修饰工艺,在抛光态AZ91镁合金表面制备超疏水结构,研究了其表面形貌、润湿性能和耐腐蚀性能。结果表明:复合刻蚀后,镁合金表面形成了一种以微米尺度的点状凹坑以及紧密且有序排列的凸起结构为主的粗糙结构,再经SA修饰后,形成了微纳米级复合粗糙结构;复合刻蚀+SA修饰后的表面呈现超疏水性,且表现出良好的抗水滴黏附性能;与抛光态镁合金相比,复合刻蚀+SA修饰所得超疏水镁合金的自腐蚀电位提高,自腐蚀电流密度下降,显示出良好的耐腐蚀性能;在3.5%(质量分数)NaCl溶液中浸泡24h后,该超疏水表面未发现明显的腐蚀迹象。
(2)本文研究方法
调查法:该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法:用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法:通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法:通过调查文献来获得资料,从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法:依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法:对研究对象进行“质”的方面的研究,这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法:通过具体的数字,使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法:运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法:这是社会科学用来分析社会现象的一种方法,从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法:通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
表面刻蚀论文参考文献
[1].刘韬,底月兰,王海斗,刘莹,王乐.化学刻蚀法制备金属超疏水表面的方法及机理研究[J].表面技术.2019
[2].徐雷秋,万晓峰,董菁,宋德宝,韦科权.盐酸-激光复合刻蚀+SA修饰制备镁合金表面超疏水结构的耐腐蚀性能[J].机械工程材料.2019
[3].刘湘祁,尹建成,林正得.铜箔表面化学刻蚀预处理对CVD法制备石墨烯的影响[J].材料科学与工程学报.2019
[4].马玉平,魏超,张遥,李翔,陈雪辉.飞秒激光刻蚀对纳米金刚石薄膜表面微观特性的影响[J].中国表面工程.2019
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[7].章金兵.多晶硅表面的酸刻蚀制绒及金刚石切割多晶硅片的表面预处理改性研究[D].南昌大学.2019
[8].冯光.激光刻蚀制备超疏水声学超表面基础研究[D].温州大学.2019
[9].苑国祥,姜绶祥,Domenico,Luzzi.激光表面刻蚀处理在毛涤混纺织物上的应用[J].针织工业.2019
[10].钟豪.晶体硅表面的刻蚀与元素掺杂及其物理效应[D].电子科技大学.2019