论文摘要
综述了二氧化硅（SiO2）薄膜的制备方法和研究进展,介绍了磁控溅射、溶胶凝胶法和真空镀等SiO2薄膜制备方法及其优缺点,论述SiO2薄膜在光学、电学和光电等性能研究方面的新进展,最后对SiO2薄膜的应用和发展进行了展望.
论文目录
文章来源
类型: 期刊论文
作者: 俞立宸,季鑫,高磊,顾雁豪,周晟吉
关键词: 薄膜,制备方法,磁控溅射,光学性能
来源: 上海工程技术大学学报 2019年03期
年度: 2019
分类: 工程科技Ⅱ辑,工程科技Ⅰ辑
专业: 无机化工,材料科学,工业通用技术及设备
单位: 上海工程技术大学数理与统计学院
基金: 上海工程技术大学大学生创新资助项目(cx1821007)
分类号: TB383.2;TQ127.2
页码: 215-218+277
总页数: 5
文件大小: 126K
下载量: 444
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