KrF激光刻蚀制备300 nm自支撑聚酰亚胺膜

KrF激光刻蚀制备300 nm自支撑聚酰亚胺膜

论文摘要

本工作探讨了微纳米量级聚酰亚胺(PI)自支撑薄膜的制备。以4,4’-二氨基二苯醚(ODA)和均苯四甲酸二酐(PMDA)为单体合成聚酰胺酸(PAA)溶液。经热亚胺化后脱膜得到厚度为900nm的自支撑PI薄膜。亚胺化程度用傅里叶变换红外光谱仪(FT-IR)测试,表面形貌用透射式显微镜观测。结果显示,在低于250℃下制备的ZnO薄膜适合作为脱膜剂;采用KrF准分子激光对薄膜刻蚀,当能量密度为45mJ/cm2时刻蚀110个脉冲,得到了表面平整且厚度为300nm的自支撑PI薄膜。

论文目录

  • 0 引言
  • 1 实验
  •   1.1 PI自支撑薄膜的制备
  •     1.1.1 Zn O脱膜剂的制备
  •     1.1.2 自支撑PI薄膜的制备
  •     1.1.3 248 nm准分子激光刻蚀过程
  •   1.2 测试仪器和测试方法
  • 2 结果与讨论
  •   2.1 Zn O脱膜剂的研究
  •   2.2 自支撑PI薄膜的红外光谱特性
  •   2.3 准分子激光刻蚀PI薄膜
  • 3 结论
  • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 刘仁臣,陆静

    关键词: 聚酰亚胺,自支撑,脱膜,激光刻蚀

    来源: 材料导报 2019年S2期

    年度: 2019

    分类: 工程科技Ⅰ辑

    专业: 材料科学

    单位: 吉林大学珠海学院物理教学中心

    基金: 广东省普通高校重点科研平台和科研项目(2018KTSCX306),吉林大学珠海学院创新培育工程重点项目(2018XJCQSQ047),高等教育教学研究与改革项目(ZLGC20191004,2019JZDJ034)~~

    分类号: TB306

    页码: 580-583

    总页数: 4

    文件大小: 5089K

    下载量: 53

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