退火工艺对磁控溅射LiCoO2薄膜形貌与力学性能的影响

退火工艺对磁控溅射LiCoO2薄膜形貌与力学性能的影响

论文摘要

采用磁控溅射方法在单晶Si(100)上制备LiCoO2薄膜并选择不同退火温度、保温时间和退火气氛对薄膜进行热处理,研究不同退火条件对LiCoO2薄膜形貌、组成、晶体结构和力学性能的影响。结果表明:退火过程将LiCoO2薄膜表面粗糙度从11.63 nm降低至6.13 nm,且退火气氛对LiCoO2薄膜表面形貌影响最大;LiCoO2薄膜退火产生Li2O、CoO、Co3O4等副产物,薄膜组成被破坏;任一退火条件均能使LiCoO2薄膜结晶,平均晶粒尺寸约为30 nm,退火温度对LiCoO2薄膜晶粒尺寸和残余应力影响最大;LiCoO2薄膜退火后,其硬度H、杨氏模量Er增大一个数量级,最优退火工艺下(600℃,60 min,纯O2气氛),H3/Er2比例为0.03 GPa,抵抗塑性变形能力好。

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文章来源

类型: 期刊论文

作者: 马一博,陈牧,颜悦,张晓锋,刘伟明,李佳明,张旋

关键词: 薄膜,表面形貌,硬度,杨氏模量,摩擦因数

来源: 航空材料学报 2019年06期

年度: 2019

分类: 工程科技Ⅱ辑,工程科技Ⅰ辑

专业: 材料科学,工业通用技术及设备,电力工业

单位: 中国航发北京航空材料研究院透明件研究所,北京市先进运载系统结构透明件工程技术研究中心

基金: 国家自然科学基金项目(21603204,51702305)

分类号: TM912;TB383.2

页码: 90-98

总页数: 9

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退火工艺对磁控溅射LiCoO2薄膜形貌与力学性能的影响
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