Ge基底LaF3-ZnS-Ge高耐用中波红外增透膜

Ge基底LaF3-ZnS-Ge高耐用中波红外增透膜

论文摘要

研究了LaF3材料的蒸发特性及其在2.5~12μm红外波段的光学常数,并将LaF3晶体作为低折射率材料在Ge基底上制备了中波红外3.7~4.8μm波段高耐用性增透膜。SEM照片显示,基于LaF3材料的高耐用性增透膜表面纳米晶粒分布均匀致密,表面光洁度高。利用傅里叶变换红外光谱仪测试了其光谱特性,在3.7~4.8μm波段,峰值透射率达到99.4%,双面镀膜平均透射率由47.7%提高到98.8%。牢固度、耐久性等环境试验结果显示,膜层在保持高的光学性能的同时还可以在较为严苛的恶劣环境中使用

论文目录

  • 0 引言
  • 1 LaF3材料蒸发特性及红外波段光学常数
  •   1.1 蒸发特性
  •   1.2 光学常数
  • 2 高耐用性增透膜膜系设计与制备
  •   2.1 膜料的选择
  •   2.2 膜系设计
  •   2.3 膜层制备
  • 3 结果与讨论
  •   3.1 光谱特性
  •   3.2 表面光洁度
  •   3.3 膜层牢固度
  •     3.3.1 环境试验项目
  •     3.3.2 环境试验结果
  •   3.4 膜层耐久性测试
  • 4 结论
  • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 程海娟,于晓辉,彭浪,普群雁,蔡毅,李茂忠,杨伟声,白玉琢,赵劲松,王岭雪

    关键词: 高耐用性,增透膜,中波红外

    来源: 红外与激光工程 2019年11期

    年度: 2019

    分类: 信息科技,工程科技Ⅰ辑,工程科技Ⅱ辑

    专业: 材料科学,工业通用技术及设备,无线电电子学

    单位: 北京理工大学光电学院,北方夜视科技集团有限公司

    基金: 国家自然科学基金(61471044)

    分类号: TN304;TB383.2

    页码: 262-268

    总页数: 7

    文件大小: 2306K

    下载量: 71

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