论文摘要
采用原子层沉积法分别在Si片和玻璃片上制备了Al2O3薄膜,并用SEM、XRD、XPS、椭偏测厚仪、紫外可见分光光度计和HP4284A精密LCR测试仪对Al2O3薄膜的表面形貌、微观结构、组成成分、薄膜厚度、光学特性和电学特性进行了分析。得出了以下结论:Al2O3薄膜的表面粗糙度随沉积温度的增大而减小,随TMA脉冲时间的增大而增大;在可见光区拥有高透射比;满足化学成分配比,即Al:O=2:3;介电常数K在7～10之间;在沉积温度为300℃,TMA脉冲时间为0.1s制备的性能最为优异。
论文目录
文章来源
类型: 期刊论文
作者: 廖荣,刘慧君,柯嘉聪,李涌春,廖鸿韬,罗志勇
关键词: 薄膜,原子层沉积,介电常数
来源: 功能材料与器件学报 2019年02期
年度: 2019
分类: 工程科技Ⅰ辑,工程科技Ⅱ辑
专业: 无机化工,材料科学,工业通用技术及设备
单位: 华南理工大学电子与信息学院
基金: 2018年华南理工大学第五批“探索性实验”项目(Y9180400),2018年华南理工大学“国家级大学生创新创业训练计划”(Y9180210),2019年华南理工大学“学生研究计划”项目
分类号: TQ133.1;TB383.2
页码: 94-98
总页数: 5
文件大小: 1566K
下载量: 376
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