膜厚对超薄四面体非晶碳膜应力和结构的影响（英文）

论文摘要

利用自主研制的45°双弯曲磁过滤阴极真空电弧技术制备超薄四面体非晶碳膜,研究了膜厚变化对超薄四面体非晶碳膜残余应力和微观结构的影响。结果表明:膜厚从7.6 nm增加到50 nm时,残余应力和sp3含量先减小后增加;当膜厚为29 nm时,可以得到最小的残余应力为3.9 GPa。制备的薄膜表面粗糙度都小于纯硅片表面粗糙度(0.412 nm),表明沉积的碳粒子可以减少基体表面的缺陷;基于磁过滤阴极真空电弧技术的优势,制备的超薄四面体非晶碳膜在较大区域内表面无大颗粒等物质。

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文章来源

类型: 期刊论文

作者: 许世鹏,李晓伟,陈仁德,李玉宏,汪爱英

关键词: 四面体非晶碳膜,膜厚,残余应力,薄膜结构

来源: 硅酸盐学报 2019年01期

年度: 2019

分类: 工程科技Ⅰ辑,工程科技Ⅱ辑

专业: 材料科学,工业通用技术及设备

单位: 甘肃省太阳能发电系统工程重点实验室酒泉新能源研究院,酒泉职业技术学院,中国科学院海洋新材料与应用技术重点实验室浙江省海洋材料与防护技术重点实验室中国科学院宁波材料技术与工程研究所

基金: the support of this research by the National Natural Science Foundation of China (51371187,51522106),Gansu Province Science and Technology Innovation Platform Program (1505JTCF039),Scientific Research Project of Gansu Institutions of Higher Learning (2017A-273),New Energy School of Lanzhou University of Technology key program (LUT-XNY-2017009)~~

分类号: TB383.2

DOI: 10.14062/j.issn.0454-5648.2019.01.10

页码: 71-76

总页数: 6

文件大小: 930K

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