导读:本文包含了薄膜制备技术论文开题报告文献综述、选题提纲参考文献及外文文献翻译，主要关键词:薄膜,技术,激光,原子,偏压,离子束,气相。
薄膜制备技术论文文献综述
涂溶,章嵩,后藤孝,张联盟[1]（2019）在《激光化学气相沉积技术制备功能陶瓷薄膜与涂层》一文中研究指出碳化硅(SiC)因其独特的物理和化学性质,例如宽禁带、高热导、高硬度和抗氧化性,而得到广泛应用。化学气相沉积(CVD)是制备SiC膜最重要且有效的方法之一,为了提高其沉积速率,我们将高功率连续激光引入CVD工艺,开发了一种新型激光CVD。使用六甲基乙硅烷(HMDS)和四氯硅烷(SiC14)等作为前驱体,采用冷壁式激光CVD法,将激光光斑直接照射到基板上制备SiC膜。激光功率和总压力分别为0～500 W和0.4～40 kPa,研究了各沉积条件对SiC膜的沉积速率、微观结构、晶相、择优取向和维氏硬度等的影响,最高沉积速率达到3.6 mm/h。本研究团队还采用激光CVD法制备了高温超导涂层、硬质涂层、生物陶瓷涂层、铁电薄膜及离子导体薄膜等。(本文来源于《第叁届粤港澳大湾区真空科技创新发展论坛暨2019年广东省真空学会学术年会论文集》期刊2019-11-28）
刘忠伟,张翔宇,田旭,王正铎,张海宝[2]（2019）在《化学气相沉积技术制备碳化镍与镍薄膜的研究》一文中研究指出过渡金属碳化物具有良好的机械和化学稳定性。并且由于其独特的电子结构和地球丰度,可作为价格高昂的贵金属电催化剂的替代物。原子层沉积技术(ALD)是一种新型的化学气相沉积制备技术,具有组分可控可调、厚度均匀精确、薄膜一致性好、保形性高、工艺可重复性好等特性。对于原子层沉积,如果以电能取代热能启动反应,即等离子体增强原子层沉积(PEALD),则除了保留热ALD的原有优势外,还增加了其它诸多性能,如改善材料性能(包括提升薄膜密度,降低杂质含量,以及更好地控制薄膜成分和结构组成),实现较低温度(或室温)沉积,大幅增加薄膜的生长速率等。利用自制的Ni(~(tBu2)AMD)_2前驱体,利用PEALD技术制备了碳化镍薄膜。研究了其生长曲线,考察了制备条件如等离子体作用时间、放电气体种类、沉积温度对薄膜表面形貌、组成成分的影响。研究表明Ni(~(tBu2)AMD)_2前驱体具有较宽的沉积温度窗口(75-250℃),沉积速率为0.039 nm/cycle。所制备的碳化镍薄膜表现出优异的电化学催化活性与超级电容性能,析氢反应中起始过电势仅有-77 mV(对应电流密度-0.1 mA cm-2);当电流密度为-10 mA cm~(-2)时,过电势仍然非常低,为-132 mV。当电流密度为2 mA cm~(-2)时,Ni_3C/碳纳米管的比电容达到1850 F g~(-1)。利用脉冲化学气相沉积技术,制备了镍薄膜。研究在沉积温度为140-250℃薄膜成分的变化。对比研究了在相同温度下引入氢等离子体对薄膜成分的影响。(本文来源于《TFC'19第十五届全国薄膜技术学术研讨会摘要集》期刊2019-11-15）
李金龙,张晶,周艳文,张开策,杜峰[3]（2019）在《利用磁控溅射技术在钛合金制备多层素CrN薄膜的性能》一文中研究指出目的提高钛合金表面硬度,改善其耐磨性,并优化CrN薄膜的制备方法。方法通过调控基体偏压,采用热丝增强等离子体磁控溅射技术制备CrN薄膜。采用扫描电子显微镜观察薄膜的表面及截面形并用附带能谱仪分析成分,利用X射线衍射仪测定薄膜的相组成,利用划痕仪及超景深显微镜测试膜基结合强度,利用显微硬度计及纳米压痕仪测量硬度,并利用ABAQUS软件模拟薄膜冲击响应,采用球-磨磨损试验机及台阶仪检测耐磨性。结果基体偏压为-50V时,薄膜表面呈现出较疏松的棱边和棱角;基体偏压为-100V和-50V/-100V周期性改变时,薄膜表面较致密,并且基体偏压为-50V/-100V时,截面呈现出明显的多层结构。随着基体偏压从-50V增加到-100V时,CrN薄膜的择优取向由(111)面向(200)面转变。基体偏压为-50V/-100V周期性改变制备的多层素CrN薄膜膜基结合强度最好,膜基结合力高达68.6N;硬度、弹性模量及耐磨性也优异,400nm处的纳米硬度高达23.7GPa,弹性模量为309.6 GPa,磨损率最低。结论基体偏压可影响CrN薄膜的择优取向、硬度及耐磨性等性能,在钛合金上制备CrN薄膜可明显提高其硬度及耐磨性,并且通过周期性调节基体偏压大小制备的多层素CrN薄膜性能优于单一基体偏压下制备的薄膜。(本文来源于《TFC'19第十五届全国薄膜技术学术研讨会摘要集》期刊2019-11-15）
张立新[4]（2019）在《高能激光薄膜损伤检测及其制备关键技术》一文中研究指出为了满足特定的光学性能,光学元件表面均需要涂覆薄膜。随着大功率、高能量激光系统的发展,传统光学薄膜的抗激光能力受到了挑战:一是薄膜在强激光作用下是否损伤的评判以及抗损伤能力的测试问题,二是高损伤阈值薄膜的制备问题,目前国内尚没有有效的检测手段和测试设备。西安工业大学研究了激光薄膜损伤阈值的测试标准及规范,发展和丰富了散射法、等离(本文来源于《西安工业大学学报》期刊2019年05期）
樊启鹏,胡玉莲,刘博文,田旭,江德荣[5]（2019）在《等离子体增强原子层沉积技术制备碳化钴薄膜》一文中研究指出报道了一种新型PE-ALD工艺用于沉积碳化钴薄膜。以脒基钴为前驱体,在氢等离子体作用下,成功制备了碳化钴薄膜。薄膜厚度与沉积循环关系显示薄膜生长为理想的逐层生长行为,100℃下薄膜生长速率为0.066 nm/cycle。利用XRD和TEM对所沉积的薄膜进行表征,结果表明薄膜是多晶的六方晶系Co_3C晶体结构。XPS的结果表明沉积的碳化钴膜具有高纯度。在深宽比高达20:1的硅基底沟槽中研究碳化钴薄膜的保型性,显示该PE-ALD工艺可以沉积厚度均匀、光滑且高度保形的碳化钴薄膜,这有利于在高深宽比的3D结构中的涂覆并且在负载催化剂领域具有潜在应用。(本文来源于《真空》期刊2019年05期）
倪佳苗,沈红成[6]（2019）在《高质量纳米ZnO薄膜的制备技术及应用现状》一文中研究指出纳米ZnO具有许多优异的光学性质和物理化学特性而受到广大科研者的广泛关注,而高质量纳米ZnO薄膜具有非常广泛的用途和应用前景。根据最新国内外研究现状,本文重点研究高质量纳米ZnO薄膜的制备方法:溶胶-凝胶法、化学气相沉积法、分子束外延法、激光脉冲沉积法和溅射法;并比较几种制备方法的优缺点,分析高质量纳米ZnO薄膜在太阳能电池、气敏元件、压电元件和压敏元件等方面的应用。(本文来源于《湖北第二师范学院学报》期刊2019年08期）
许伟,姚日晖,宁洪龙[7]（2019）在《喷墨打印技术制备柔性导电聚合物薄膜图案》一文中研究指出采用压电式喷墨打印技术在柔性衬底上制备导电聚合物薄膜图案,导电聚合物(PEDOT)为喷墨打印墨水材料,柔性聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜为柔性衬底材料。通过在疏水的PET衬底表面旋涂制备一层亲水的聚乙烯醇(PVA)薄膜,显着改变其表面的浸润特性,接触角由107°变为38°,改善了PEDOT液滴在其表面的铺展与干燥过程。调节喷墨打印参数以及PEDOT液滴间距,实现了喷墨打印PEDOT线型薄膜的线宽与厚度的精确可控。有助于学生理解喷墨打印原理,掌握喷墨打印技术制备电子器件的实验方法。(本文来源于《实验技术与管理》期刊2019年08期）
姜玉刚,刘华松,王利栓,陈丹,李士达[8]（2019）在《卫星激光防护薄膜窗口的设计与制备技术研究》一文中研究指出当前反卫星激光武器发展迅猛,迫切需要研究和发展卫星的激光防护技术,以增强卫星在空间的生存与防护能力。本文采用可见光-近红外透明和中波吸收的玻璃基底与线性激光防护薄膜相结合的设计方法,在玻璃基板一面设计分光膜,实现1. 315μm波长的反射和0. 5～0. 8μm、1. 55μm波段的增透,在玻璃基板另一面设计双波段减反射膜,实现0. 5～0. 8μm和1. 55μm波段的增透。采用离子束溅射沉积技术,实现了激光防护窗口薄膜的制备,在0. 5～0. 8μm的平均透过率大于96%,1. 55μm的透过率大于98%,1. 315μm的透过率小于0. 1%,在2. 7μm的透过率为30%,在3. 8μm的透过率为1. 1%。实验结果表明,该方法实现了可见光-近红外-中红外波段激光防护窗口的制备,对于卫星平台防护激光武器具有重要作用。(本文来源于《中国光学》期刊2019年04期）
帅垚,李宏亮,吴传贵,王韬,张万里[9]（2019）在《单晶铌酸锂薄膜的转移制备技术研究》一文中研究指出以苯并环丁烯(Benzocyclobutene,BCB)作为键合层,采用离子注入剥离技术制备了Y36切型的单晶铌酸锂薄膜材料。经过对BCB键合层的前烘时间和退火曲线进行系统的研究,克服了由于铌酸锂和BCB之间热膨胀系数不匹配所导致的铌酸锂薄膜开裂问题,获得了高质量的Y36切型单晶铌酸锂薄膜材料。此外,通过在晶圆键合之前预先制备图形化的金属层,获得了带有下电极功能层的单晶铌酸锂薄膜,可应用于薄膜体声波谐振器等具有金属-绝缘层-金属结构的器件。(本文来源于《电子元件与材料》期刊2019年07期）
降戎杰,张雅洁,郭强,赵春艳,白一鸣[10]（2019）在《钙钛矿薄膜制备技术及其在大面积太阳电池中的应用》一文中研究指出详细介绍了钙钛矿薄膜的各种制备方法,系统地探讨了各种制备工艺存在的优点和缺点。在此基础上,综述了大面积钙钛矿太阳电池的各种制备方法的国内外研究进展,并对钙钛矿太阳电池发展历程中的关键节点进行了总结。然后,结合当前的研究进展对钙钛矿太阳电池有待解决的关键性问题,如有毒金属的代替、电池的长期稳定性、大面积太阳电池制备的工艺难点等问题进行了逐一分析并提出了可能的解决方法。最后,对其发展前景进行了展望,希望进一步加深对钙钛矿太阳电池的了解,为今后研究高效、稳定的钙钛矿太阳电池打下坚实的基础。(本文来源于《微纳电子技术》期刊2019年08期）
薄膜制备技术论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
过渡金属碳化物具有良好的机械和化学稳定性。并且由于其独特的电子结构和地球丰度,可作为价格高昂的贵金属电催化剂的替代物。原子层沉积技术(ALD)是一种新型的化学气相沉积制备技术,具有组分可控可调、厚度均匀精确、薄膜一致性好、保形性高、工艺可重复性好等特性。对于原子层沉积,如果以电能取代热能启动反应,即等离子体增强原子层沉积(PEALD),则除了保留热ALD的原有优势外,还增加了其它诸多性能,如改善材料性能(包括提升薄膜密度,降低杂质含量,以及更好地控制薄膜成分和结构组成),实现较低温度(或室温)沉积,大幅增加薄膜的生长速率等。利用自制的Ni(~(tBu2)AMD)_2前驱体,利用PEALD技术制备了碳化镍薄膜。研究了其生长曲线,考察了制备条件如等离子体作用时间、放电气体种类、沉积温度对薄膜表面形貌、组成成分的影响。研究表明Ni(~(tBu2)AMD)_2前驱体具有较宽的沉积温度窗口(75-250℃),沉积速率为0.039 nm/cycle。所制备的碳化镍薄膜表现出优异的电化学催化活性与超级电容性能,析氢反应中起始过电势仅有-77 mV(对应电流密度-0.1 mA cm-2);当电流密度为-10 mA cm~(-2)时,过电势仍然非常低,为-132 mV。当电流密度为2 mA cm~(-2)时,Ni_3C/碳纳米管的比电容达到1850 F g~(-1)。利用脉冲化学气相沉积技术,制备了镍薄膜。研究在沉积温度为140-250℃薄膜成分的变化。对比研究了在相同温度下引入氢等离子体对薄膜成分的影响。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
薄膜制备技术论文参考文献
[1].涂溶,章嵩,后藤孝,张联盟.激光化学气相沉积技术制备功能陶瓷薄膜与涂层[C].第叁届粤港澳大湾区真空科技创新发展论坛暨2019年广东省真空学会学术年会论文集.2019
[2].刘忠伟,张翔宇,田旭,王正铎,张海宝.化学气相沉积技术制备碳化镍与镍薄膜的研究[C].TFC'19第十五届全国薄膜技术学术研讨会摘要集.2019
[3].李金龙,张晶,周艳文,张开策,杜峰.利用磁控溅射技术在钛合金制备多层素CrN薄膜的性能[C].TFC'19第十五届全国薄膜技术学术研讨会摘要集.2019
[4].张立新.高能激光薄膜损伤检测及其制备关键技术[J].西安工业大学学报.2019
[5].樊启鹏,胡玉莲,刘博文,田旭,江德荣.等离子体增强原子层沉积技术制备碳化钴薄膜[J].真空.2019
[6].倪佳苗,沈红成.高质量纳米ZnO薄膜的制备技术及应用现状[J].湖北第二师范学院学报.2019
[7].许伟,姚日晖,宁洪龙.喷墨打印技术制备柔性导电聚合物薄膜图案[J].实验技术与管理.2019
[8].姜玉刚,刘华松,王利栓,陈丹,李士达.卫星激光防护薄膜窗口的设计与制备技术研究[J].中国光学.2019
[9].帅垚,李宏亮,吴传贵,王韬,张万里.单晶铌酸锂薄膜的转移制备技术研究[J].电子元件与材料.2019
[10].降戎杰,张雅洁,郭强,赵春艳,白一鸣.钙钛矿薄膜制备技术及其在大面积太阳电池中的应用[J].微纳电子技术.2019
论文知识图
