论文摘要
带电粒子束成像检测技术是一种可以提供纳米级测量精度的技术,广泛应用于半导体检测中。在进行硅片检测时,要求待测硅片在扫描检测过程中一直处于电子束的焦深范围(DoF)内。本文提出一种毫米级控制范围、纳米级控制精度、高度测量时间在亚毫秒量级的粗精结合的闭环硅片高度控制技术。它的核心子系统是一套光学硅片高度测量系统,在进行粗控制时,数字相机的成像面作为一个光栅图像接收面,硅片的高度信息通过测量光栅线条在成像面上的位移获得。在接近目标高度时,数字相机的成像面作为一个虚拟的数字光栅使用。它与光学光栅图像存在一定周期差,两者构成类似机械游标卡尺的结构,本文称为光学游标卡尺,实验表明该技术可以在成像面上细分像素尺寸10×以上。当用其测量硅片高度时,粗测范围达毫米量级,粗测时间小于0. 38 ms,精测分辨率小于80 nm,精测时间小于0. 09 ms。利用该硅片高度测量系统进行硅片高度的初步闭环反馈控制,控制精度达到15 nm,在电子束硅片图形检测系统中具有广阔的应用前景。
论文目录
文章来源
类型: 期刊论文
作者: 郭杰,李世光,赵焱,宗明成
关键词: 对焦控制,高度测量,高度控制,带电粒子束检测,电子束检测,光学游标卡尺,焦深
来源: 中国光学 2019年02期
年度: 2019
分类: 基础科学,工程科技Ⅱ辑,信息科技
专业: 仪器仪表工业,计算机软件及计算机应用
单位: 中国科学院微电子研究所,中国科学院大学
基金: 极大规模集成电路制造装备及成套工艺(国家02专项)资助项目(No.2012ZX02701004)~~
分类号: TP391.41;TH74
页码: 242-255
总页数: 14
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标签：对焦控制论文; 高度测量论文; 高度控制论文; 带电粒子束检测论文; 电子束检测论文; 光学游标卡尺论文; 焦深论文;