论文摘要
超精密平面光栅编码器位移测量技术是32～7nm节点浸没式光刻机的核心技术。通过分析浸没式光刻机平面光栅位置系统的需求和布局,提出了光刻机专用超精密平面光栅编码器的基本需求。针对现有的光栅编码器,开展了基本测量光路方案、相位探测方案、分辨率增强光路方案、离轴/转角允差光路方案、死程误差抑制光路方案的综述分析,提出了现有设计方案面向光刻机应用所需要解决的关键问题。面向亚纳米级测量精度的需求,针对光栅编码器的仪器误差,对周期非线性误差、死程误差、热漂移误差和波前畸变误差进行了综述分析,提出了平面光栅编码器实现亚纳米精度所需要解决的关键问题。本综述为光刻机专用超精密平面光栅编码器的研制提供了参考。
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文章来源
类型: 期刊论文
作者: 王磊杰,张鸣,朱煜,叶伟楠,杨富中
关键词: 浸没式光刻机,光学干涉式光栅编码器,位移测量
来源: 光学精密工程 2019年09期
年度: 2019
分类: 工程科技Ⅱ辑,信息科技
专业: 仪器仪表工业,无线电电子学
单位: 清华大学机械工程系摩擦学国家重点实验室&精密超精密制造装备及控制北京市重点实验室
基金: 国家重大科技专项(02专项)资助项目(No.2017ZX02102004,No.2018ZX02101003)
分类号: TH74;TN305.7
页码: 1909-1918
总页数: 10
文件大小: 222K
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标签：浸没式光刻机论文; 光学干涉式光栅编码器论文; 位移测量论文;