导读:本文包含了并行激光直写论文开题报告文献综述及选题提纲参考文献，主要关键词:激光直写,装置,多路并行,光机所
并行激光直写论文文献综述
[1]（2011）在《上海光机所研制成功多路并行激光直写系统》一文中研究指出2010年11月,上海光机所周常河研究员课题组成功研制出多路激光直写装置。该装置采用405nm的蓝光激光光源,尼康0.9数值孔径的透镜,以及自动聚焦系统,实现了25路高精度并行激光直写,刻写光斑的线宽小于(本文来源于《光机电信息》期刊2011年01期）
单明广,郭黎利,钟志[2]（2009）在《用于并行激光直写的连续深浮雕衍射透镜阵列研究》一文中研究指出研究了一种用于并行激光直写的连续深浮雕衍射透镜阵列方法.该方法采用连续浮雕衍射透镜阵列替换传统并行激光直写中的物镜阵列,在兼顾系统分辨力基础上,克服了波带片等衍射透镜阵列衍射效率低的缺点;同时因采用深浮雕结构优化环带宽度,可降低阵列的制作难度.针对并行激光直写系统阵列F/#小的特点,在建立连续深浮雕衍射透镜阵列非旁轴近似聚焦模型基础上,设计、制作和测试了波长为441.6nm,F/#为7.5的连续深浮雕衍射透镜阵阵列.测试结果表明:该阵列的衍射效率优于70%,远高于波带片阵列的40%.(本文来源于《光子学报》期刊2009年11期）
单明广[3]（2008）在《用于并行激光直写的连续深浮雕谐衍射透镜阵列技术》一文中研究指出激光直写是制作衍射微结构光学元件的重要技术手段之一。随着微结构衍射光学大口径以及阵列化的需求发展,对激光直写写入效率和精度提出了更高的要求。传统激光直写技术采用单点曝光模式,无法实现较高的写入效率,而近年兴起的多点曝光并行激光直写,被认为最有潜力解决上述问题,但目前该技术存在写入分辨力和衍射效率不能兼顾、微透镜阵列聚焦模型不精确、写入光路和检焦光路分离而不能实时同步调焦写入等亟需解决的科学问题和关键技术问题,制约和影响了多点曝光并行激光直写技术的发展。本课题“用于并行激光直写的连续深浮雕谐衍射透镜阵列技术”研究的主要目的是解决多点曝光并行激光直写写入分辨力和衍射效率不能兼顾、微透镜阵列聚焦模型不精确、写入光路和检焦光路分离而不能实时同步调焦写入等问题,着重以连续深浮雕谐衍射透镜阵列为对象,开展理论描述、建模和实验研究工作,为高效、高分辨力多点曝光并行激光直写方法的研究提供理论依据和先期准备工作。该研究内容在光学传感、光通信、光计算、数据存储、激光医学以及多波段成像和聚焦系统等领域亦具有较高的应用价值。本课题研究的主要内容如下:为确定微透镜阵列对并行激光直写写入质量的影响规律,基于瑞利-索莫菲衍射理论,首先分析单微透镜非傍轴近似衍射聚焦特性,进而考虑相邻微透镜衍射聚焦的相互影响,建立了微透镜阵列非傍轴近似衍射聚焦模型,在此基础上分析了写入激光垂直入射时微透镜F/#以及中心距对微透镜阵列衍射聚焦的影响规律,为并行激光直写微透镜阵列的设计提供了理论指导。基于对并行激光直写系统中传统波带片阵列和折射微透镜阵列分辨力与衍射效率固有矛盾的分析,提出了基于连续深浮雕衍射透镜阵列的并行激光直写方法,采用连续浮雕衍射透镜阵列作为并行激光直写的物镜阵列,以兼顾分辨力与衍射效率,同时采用深浮雕结构降低阵列的制作难度,为并行激光直写阵列和系统设计提供一种新的设计方法。基于对激光直写制作连续浮雕衍射透镜的深度制作误差和卷积效应的分析,建立了由激光直写制作的连续浮雕衍射透镜非傍轴近似衍射聚焦模型,分析了透镜结构参数、写入光斑尺寸和扫描间距以及深度制作误差对透镜衍射聚焦特性的影响,为制作的连续浮雕衍射透镜阵列在并行激光直写中的应用提供了理论依据。为了实现写入激光和检焦激光同步、同点聚焦,提出了基于谐衍射原理的并行激光直写检焦系统设计方法,对聚焦写入透镜阵列在检焦波长处进行谐衍射设计,使聚焦写入和检焦由同一个衍射透镜阵列实现,并构建了衍射透镜阵列非傍轴近似谐振聚焦模型,进而分析了检焦波长偏差对衍射透镜阵列谐振聚焦特性的影响,为并行直写检焦系统的构建并最终实现实时同步调焦写入提供了有效手段和奠定了理论基础。最后,利用激光直写分别制作了F/7.5和F/4的连续浮雕衍射透镜阵列,并搭建了衍射透镜阵列聚焦特性测试系统,分别测试了写入激光(波长441.6nm)和检焦激光(波长670nm)入射时制作的透镜阵列的聚焦性能。实验表明,透镜阵列的聚焦特性与理论分析吻合,焦斑直径接近衍射极限值,衍射效率均优于70%,远高于波带片阵列的41%,实现了衍射效率和分辨力兼顾;同时,透镜阵列实现了写入激光和检焦激光同步、同点聚焦。(本文来源于《哈尔滨工业大学》期刊2008-06-01）
颜树华,戴一帆,吕海宝,李圣怡[4]（2002）在《亚微米并行激光直写系统的建模及仿真研究》一文中研究指出提出了一种基于强度调制型空间光调制器 (SL M)的并行激光直写系统 ,建立了该系统的数学模型。并以闪耀光栅的制作为例 ,给出了该并行激光直写系统的仿真分析结果。研究表明 ,该系统可实现的最小特征尺寸达到亚 μm级 ,采用逐个图形进行曝光的方式使其具有内在的并行特性 ,可大大提高激光直写的速度 ;该系统所制作的二元光学器件类似连续轮廓器件 ,理论上可达到 80 %以上的衍射效率(本文来源于《光电子·激光》期刊2002年12期）
颜树华,戴一帆,吕海宝,李圣怡[5]（2002）在《灰度掩模并行激光直写系统的总体设计》一文中研究指出灰度掩模法是一种新的二元光学器件制做方法。研究了并行激光直写高性能灰度掩模的工作原理 ,对空间光调制器 (SML )、精缩投影物镜和二维气浮平台等关键单元进行了分析 ,给出了并行激光直写系统的主要技术指标和初步实验结果。(本文来源于《光电子·激光》期刊2002年06期）
并行激光直写论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
研究了一种用于并行激光直写的连续深浮雕衍射透镜阵列方法.该方法采用连续浮雕衍射透镜阵列替换传统并行激光直写中的物镜阵列,在兼顾系统分辨力基础上,克服了波带片等衍射透镜阵列衍射效率低的缺点;同时因采用深浮雕结构优化环带宽度,可降低阵列的制作难度.针对并行激光直写系统阵列F/#小的特点,在建立连续深浮雕衍射透镜阵列非旁轴近似聚焦模型基础上,设计、制作和测试了波长为441.6nm,F/#为7.5的连续深浮雕衍射透镜阵阵列.测试结果表明:该阵列的衍射效率优于70%,远高于波带片阵列的40%.
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
并行激光直写论文参考文献
[1]..上海光机所研制成功多路并行激光直写系统[J].光机电信息.2011
[2].单明广,郭黎利,钟志.用于并行激光直写的连续深浮雕衍射透镜阵列研究[J].光子学报.2009
[3].单明广.用于并行激光直写的连续深浮雕谐衍射透镜阵列技术[D].哈尔滨工业大学.2008
[4].颜树华,戴一帆,吕海宝,李圣怡.亚微米并行激光直写系统的建模及仿真研究[J].光电子·激光.2002
[5].颜树华,戴一帆,吕海宝,李圣怡.灰度掩模并行激光直写系统的总体设计[J].光电子·激光.2002