论文摘要
研究了一种基于数字微镜器件(DMD)的数字掩模投影光刻(DMPL)技术,以400 nm飞秒激光作为光源,结合高缩放比投影系统,来缩小光刻胶与光子束的反应区域,通过调控不同DMD像素投影光场强度分布,将投影光刻的线宽分辨率推进至亚微米尺度,实现了具有跨尺度加工能力(单次曝光面积在百微米以上,曝光精度在百纳米)的DMPL技术,同时详细对比分析了DMPL中存在的几何和物理光学模型,阐明了像素个数与加工结构尺寸的关系,并进一步基于物理光学模型分析了DMPL中极限分辨率的关键科学问题。
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文章来源
类型: 期刊论文
作者: 刘玉环,赵圆圆,董贤子,郑美玲,段宣明,赵震声
关键词: 激光技术,仪器数字掩模投影光刻,数字微镜器件,跨尺度,飞秒激光,分辨率
来源: 量子电子学报 2019年03期
年度: 2019
分类: 信息科技,基础科学,工程科技Ⅱ辑
专业: 物理学,仪器仪表工业,无线电电子学
单位: 中国科学院理化技术研究所仿生智能界面科学中心,中国科学院大学未来技术学院,中国科学院重庆绿色智能技术研究院
基金: 科技部国家重点研发纳米科技重点专项,2016YFA0200501~~
分类号: TH741.5;TN249
页码: 354-359
总页数: 6
文件大小: 887K
下载量: 148
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