论文摘要
以铜为催化剂,采用聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）和甲烷为碳源的化学气相沉积两步法,在SiO2/Si衬底上制备了石墨烯薄膜。利用拉曼光谱分析了薄膜的层数和质量,利用光学显微镜（OM）和扫描电子显微镜（SEM）分析了薄膜的尺寸与表面形貌。实验探究了生长时间、氢气流量和气体总压强等工艺参数对石墨烯薄膜层数和质量的影响,最终在优化条件下制得10μm级质量较高的多层石墨烯薄膜。
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文章来源
类型: 期刊论文
作者: 刘喜锋,张鹏博,方小红,陈小源
关键词: 石墨烯,化学气相沉积
来源: 半导体光电 2019年04期
年度: 2019
分类: 信息科技,工程科技Ⅰ辑,工程科技Ⅱ辑
专业: 无机化工,材料科学,工业通用技术及设备
单位: 中国科学院上海高等研究院薄膜光电工程技术研究中心,中国科学院大学,上海科技大学物质科学与技术学院
基金: 中国科学院,国家外国专家局创新团队国际合作伙伴计划项目
分类号: TQ127.11;TB383.2
DOI: 10.16818/j.issn1001-5868.2019.04.013
页码: 513-516+522
总页数: 5
文件大小: 1146K
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