导读:本文包含了多弧磁控溅射论文开题报告文献综述、选题提纲参考文献及外文文献翻译，主要关键词:磁控溅射,离子,纳米,涂层,氮化,中频,薄膜。
多弧磁控溅射论文文献综述
任鑫,赵瑞山,王玮,宋晓龙,张洋[1]（2018）在《多弧离子镀-磁控溅射复合技术制备TiCN薄膜的耐蚀性研究（英文）》一文中研究指出采用多弧离子镀-磁控溅射复合技术在AISI304不锈钢基体表面于Ar和N_2混合气氛下共溅射钛靶和石墨靶制备了TiCN薄膜,研究了占空比对TiCN薄膜结构和在3.5%NaCl(质量分数)中耐蚀性的影响规律。结果表明:所沉积的TiCN薄膜表面光滑、均匀致密,主要形成具有Ti-(C,N)键的fcc-TiN型结构和少量的α-CN_x化合物,并随着占空比的增加表现出(111)晶面择优取向。TiCN薄膜相比于基体表现出更好的耐蚀性能,且随着占空比的增大,薄膜的耐蚀性逐渐提高。当占空比为40%时,TiCN薄膜表现出最为优异的抗腐蚀性能,其自腐蚀电流密度(i_(corr))和极化电阻(R_p)分别为3.262×10~(-7)A·cm~(-2)和238.4kΩ·cm~2。薄膜的阻抗谱显示腐蚀离子的渗透行为和局部腐蚀过程是影响电极体系腐蚀反应过程中的主要动力学因素,这与极化曲线的分析结果相一致。(本文来源于《稀有金属材料与工程》期刊2018年07期）
黄鹤,邱长军,陈勇,胡良斌,刘艳红[2]（2018）在《锆合金表面磁控溅射与多弧离子镀Cr涂层的高温抗氧化性能》一文中研究指出为了研究磁控溅射(MS)和多弧离子镀(MAIP)技术制备Cr涂层的高温抗氧化性能,分别在锆合金表面制备厚度约5μm的Cr涂层。利用氧化动力学曲线对比研究800℃条件下涂层的高温抗氧化性能,利用SEM、XRD、EDS分析涂层表面形貌和相结构。结果表明:磁控溅射和多弧离子镀Cr涂层均能显着提高锆合金的高温抗氧化性能;磁控溅射Cr涂层表面光滑、致密,但涂层表面存在一定数量的孔洞,占涂层表面积0.40%,氧化7 h后涂层表面出现裂纹,单位面积氧化增重6.434 mg/cm2;与磁控溅射Cr涂层相比,多弧离子镀Cr涂层不再有(211)单一择优取向,Cr涂层厚度均匀,表面平整,膜/基界面分明,孔洞相对较少,占涂层表面积0.21%,氧化7 h后涂层表面依然致密,单位面积氧化增重5.616 mg/cm2,高温抗氧化性能优于磁控溅射Cr涂层。(本文来源于《中国表面工程》期刊2018年02期）
赵瑞山[3]（2017）在《多弧离子镀与磁控溅射共沉积TiAlCN薄膜的组织结构与性能研究》一文中研究指出利用多弧离子镀-磁控溅射复合技术在Ar与N2混合气氛下通过改变A1靶电流和脉冲负偏压在Si(100)片与SS304基体表面制备了一系列TiAlCN薄膜,还有相同工艺条件下的TiAlN与TiCN薄膜。采用SEM、EDS、XRD、XPS、纳米压痕仪及电化学工作站等分析检测手段研究了 A1靶电流和脉冲负偏压对TiAlCN薄膜组分、表面形貌、粗糙度、物相结构,力学及耐腐蚀性能的影响规律,对比分析了 TiAlN、TiCN与TiAlCN薄膜微观组织特征和性能之间的内在联系。研究结果表明:(1)不同A1靶电流及脉冲负偏压下所制备的TiAlCN薄膜各元素分布均匀,适当增大Al靶电流和脉冲负偏压,薄膜表面颗粒、针孔等缺陷减少且分布均匀,表面形貌得到改善,且膜层组织细化,致密度提高,促使薄膜的力学性能以及在3.5 wt.%NaCl中的抗腐蚀能力均提高。在靶电流和负偏压分别为60 A和-200 V时,薄膜表面缺陷少,平滑致密,晶粒细小,平均硬度与弹性模量取得最大值,并在NaCl中获得最为优异的耐腐蚀性能。(2)从TiAlN、TiCN和TiAlCN薄膜微观结构对比发现TiAlN薄膜表面液滴状颗粒污染较为严重,而TiCN和TiAlCN薄膜表面颗粒污染相对较轻,但表面仍存在一些凹坑和针孔类缺陷,XRD和XPS表明叁者均形成了 fcc-TiN型固溶体硬质相+晶体/非晶软相的复合结构,并出现(111)晶面生长织构,相比之下,TiAlCN薄膜择优取向较弱,呈多晶面生长取向,晶粒细小。(3)同一工艺条件下TiAlN、TiCN和TiAlCN薄膜的平均硬度和弹性模量分别为29 GPa 和 320 GPa(TiAlN)、21.6 GPa 和 300 GPa(TiCN)、36.8 GPa 和 410 GPa(TiAlCN),显着高于SS304基体(4.8GPa和150GPa)。(4)动电位极化曲线测试结果显示基体镀覆TiAlN、TiCN与TiAlCN薄膜后其自腐蚀电位发生正移,自腐蚀电流密度显着减小,与TiAlN与TiCN薄膜相比,TiAlCN薄膜自腐蚀电流密度和极化电阻分别为0.129 μA.cm-2和430.5 kΩ.cm2,具有更低的腐蚀速率,在3.5 wt.%NaCl中表现出更为优异的抗腐蚀性能。(5)薄膜在3.5 wt.%NaCl中的阻抗谱显示电极体系腐蚀反应过程中薄膜缺陷形成微观扩散通道引起腐蚀介质渗透行为和基体/薄膜界面层形成腐蚀电偶引起的局部腐蚀是腐蚀过程中的主要动力学因素。相对而言,TiAlCN薄膜表面缺陷少,晶粒细小,膜层致密度高,从而具有更高的Rpo和Rct值,表现出对基体更优异的防护效果。(本文来源于《辽宁工程技术大学》期刊2017-06-01）
朱元义,邓佩珊,朱常锋,朱文,史继富[4]（2015）在《多弧离子镀与磁控溅射联用镀制TiN/SiO_2复合装饰薄膜的研究》一文中研究指出本文结合多弧离子镀和磁控溅射两种镀膜方法的优点,制备了Ti N/Si O2复合薄膜。通过扫描电镜可以观察到,制备的复合膜比单纯的氮化钛薄膜更加致密和光滑,基本消除了大颗粒的影响。另外,可以通过控制溅射Si O2的时间实现对膜层色度的控制。在本文的试验条件下,当氧化硅溅射时间为30 min时,得到的膜层为咖啡色,当氧化硅溅射时间为1 h,膜层为玫瑰红色。采用两种镀膜手段联用的方法,可以得到高品质,颜色丰富的膜系。(本文来源于《真空》期刊2015年01期）
张桂如[5]（2014）在《多弧离子镀和磁控溅射复合制备（Ti,Al）N薄膜研究》一文中研究指出TiAlN作为一种新型的薄膜，因为其本身具有抗氧化温度高，导热效率低，高硬度，膜基结合力好，摩擦系数小等突出的优点，在高速切削钢，钛、铝合金等材料领域应用广泛。目前制备TiAlN薄膜的主流方法是多弧离子镀技术和磁控溅射技术。然而正确的控制TiAlN薄膜中Al和Ti的比例比较困难，采用合金靶或镶嵌靶等方法都面临着制备一系列靶材的问题。本论文采用多弧离子镀和磁控溅射相结合的方法在高速钢（W18Cr4V）基体上制备了(Ti,Al)N薄膜，实现了控制TiAlN薄膜中Al与Ti的比例目的，进而可望获得不同Al/Ti比例的(Ti,Al)N薄膜。探讨了不同工艺参数对TiAlN薄膜的表面形貌与成分，膜基结合力的影响规律。结果表明：1.N原子百分比为0，Fe原子百分比为50.65时，基体表面没有成膜。2.当Al+Ti/N>2.69时，基体表面没有形成TiAlN薄膜，在其表面形成的是金属或金属化合物。3.当0<Al+Ti/N<2.69时，可以形成TiAlN薄膜，并且当Fe含量小于等于10.69时膜层晶粒粗大，当Fe含量大于等于25.23时，膜层表面晶粒细小。4.当Al+Ti/N=0.69，Fe=21.75，Al/Ti=0.35时，可以形成TiAlN薄膜且晶粒粗大。5.当Al+Ti/N=1.10时，膜基结合力达到最大值为47.7N.(本文来源于《沈阳大学》期刊2014-12-23）
朱元义,邓佩珊,朱常锋,朱文[6]（2012）在《多弧离子镀与磁控溅射联用镀制TiN/SiO_2复合装饰薄膜的研究》一文中研究指出采用多弧离子镀法在金属表面制备氮化钛装饰层具有成膜速度快,膜层和基底结合力好的优点,因此被国内许多装饰镀膜相关的厂家所采用。但是这种镀膜方式也存在着(1)色度难控制和(2)"大颗粒"污染问题。而磁控溅射镀膜,膜厚容易控制且膜层致密。在本文,我们结合两种镀膜方法的优点,制备了TiN/SiO_2复合薄膜。通过扫描电镜可以观察到,制备的复合膜比单纯的氮化钛薄膜更加致密和光滑,基本消除了大颗粒的影响。另外,可以通过控制溅射SiO_2的时间实现对膜层色度的控制。在本文的试验条件下,当氧化硅溅射时间为30min时,得到的膜层为咖啡色,当氧化硅溅射时间为1h,膜层为玫瑰红色。采用两种镀膜手段联用的方法,可以得到高品质,颜色丰富的膜系。(本文来源于《第九届全国转化膜及表面精饰学术年会论文集》期刊2012-05-27）
刘传胜,杨种田,杨兵,田灿鑫,付德君[7]（2010）在《多弧-磁控溅射法制备Ti-Si-N纳米复合涂层及涂层的结构和力学性能》一文中研究指出用内外靶配置的多弧-磁控溅射技术在单晶硅和硬质合金上制备Ti-Si-N纳米复合涂层,研究衬底偏压和Si靶溅射电流对涂层结构和力学性能的影响,经过实验参数优化,在偏压为-150 V、Si靶电流为15 A的沉积条件下,得到Si的原子分数为6.3%的Ti-Si-N纳米复合涂层。X射线衍射、X射线光电子能谱和透射电镜分析表明,涂层中含有晶态TiN和非晶Si3N4,纳米尺寸的TiN颗粒镶嵌在非晶Si3N4基体结构中。纳米硬度计测试表明涂层的显微硬度为40 GPa,摩擦学实验表明其摩擦因数为0.89,可满足Ti-Si-N纳米复合涂层的工业化应用要求。(本文来源于《粉末冶金材料科学与工程》期刊2010年06期）
王晖[8]（2009）在《磁控溅射和多弧离子镀方法合成ZrB_2/AlN、CrN/AlN纳米多层膜的研究》一文中研究指出表面工程作为一门新兴的综合性学科,近年来,在国内外得到了迅速的发展。实践表明,表面工程的运用能有效改善材料的表面性能,提高生产力,节约资源。硬质薄膜因其可以显着改善工模具的切削性能、抗磨损性能、不仅延长了使用寿命还增加了产品的美观度而备受关注。近二十年来发展起来的纳米多层薄膜,由于在较小调制周期下表现出比单一薄膜更优异的综合力学性能而成为继单层硬质薄膜后另一类具有良好发展前景的硬质薄膜材料。本文利用超高真空射频磁控溅射技术在Si(100)基底上设计合成ZrB_2/AlN纳米多层膜,并且利用多弧离子镀技术在Si(100)和不锈钢基底上设计合成了CrN/AlN纳米多层膜。利用表面轮廓仪和纳米力学测试系统研究了薄膜的机械性能,包括表面硬度、弹性模量以及薄膜与基底的附着力等;通过X射线衍射(XRD)分析手段研究了薄膜的结构特征;利用摩擦磨损仪研究了薄膜的耐磨损性能。揭示了多层膜体系的结构、性能以及工艺参数之间的相互关系,找出了合成最佳多层膜的工艺,使多层膜体系的硬度和附着力优于单质薄膜材料。1.射频磁控溅射沉积ZrB_2/AlN纳米多层膜部分在ZrB_2/AlN纳米多层膜的研究中,我们分析和研究了调制周期、调制比例、工作气压和基底偏压对多层膜的结构和性能的影响。高角XRD证明AlN单层膜具有典型的六方结构,表现出强烈的(100)择优取向:ZrB_2也呈现出典型的六方结构,表现出较强的(001)、(100)面择优取向和较弱的(002)面择优取向。而多层薄膜显示了明显的AlN(100)和ZrB_2(100)织构,并且结晶呈现多元化,说明多层膜形成了很好的调制结构,晶体完整性得到了提高,这种强烈的多晶结构会对多层膜硬度和模量的增强有很大贡献。低角XRD证明了多层膜的层状结构,而且展示了明晰界面。纳米硬度和划痕测试则表明多层膜都具有比单质膜更高的硬度、弹性模量和膜基结合力。当调制周期为30nm,AlN和ZrB_2的调制比例为1:3,工作气压为0.4Pa,基底偏压为-60V时,薄膜具有最高的硬度(34.6 GPa)、弹性模量(488.7GPa)和临界载荷(40.1mN)。摩擦磨损实验表明,大多数ZrB_2/AlN纳米多层膜的耐磨损性能都优于AlN和ZrB_2单层膜,调制周期为20nm的多层膜摩擦系数最小,约为0.25。2.多弧离子镀沉积CrN/AlN纳米多层膜部分利用多弧离子镀沉积系统所制备的一系列不同调制周期和调制比的CrN/AlN纳米多层膜,其界面清晰,层状结构明显。X射线衍射仪、表面轮廓仪及纳米力学测试系统研究表明:大多数多层膜中出现AlN(111)、CrN(111)和CrN(200)晶相。在小调制周期下AlN会以立方结构存在,并与CrN层形成同结构共格外延生长,使纳米多层膜产生较大的晶格畸变。与此相应,CrN/AlN纳米多层膜硬度和弹性模量随着调制周期的减小呈现上升的趋势,当调制周期小于8nm时其增速明显增大,并在调制周期为3.8nm时达到最高硬度(35.0GPa)和最高弹性模量(405GPa)。CrN/AlN纳米多层膜的硬度和弹性模量在小调制周期时的升高与c-AlN的产生并和CrN形成的共格结构有关。同时在相同调制周期下,随着调制比t_(CrN):t_(AlN)的增加,CrN/AlN纳米多层膜的硬度以及模量均呈上升趋势。本文的结果表明,利用超高真空射频磁控溅射技术以及多弧离子镀技术,通过控制合适的工艺参数,合成具有高硬度、高模量、高膜基结合力和低应力的ZrB_2/AlN和CrN/AlN纳米多层膜是可以实现的。本研究可望应用于新的刀具涂层材料,对于探索新的超硬材料和扩大纳米多层膜的工业应用范围具有一定的意义。(本文来源于《天津师范大学》期刊2009-03-01）
杨种田,杨兵,周霖,刘传胜,叶明生[9]（2008）在《多弧-中频磁控溅射沉积Ti-Si-N结构与性能》一文中研究指出设计了一套多弧结合非平衡中频磁控溅射装置,磁控靶采用内外孪生对靶,并设计成矩形靶,在单晶硅和硬质合金衬底上沉积了Ti-Si-N纳米复合涂层,系统研究了衬底偏压和Si靶溅射电流对涂层的影响,在偏压150V、Si靶电流15A的优化条件下,得到了Si含量为6.3at%Ti-Si-N涂层,其结构为纳米TiN颗粒镶嵌于非晶Si_3N_4基体,涂层的显微硬度达到40GPa。(本文来源于《2008年全国荷电粒子源、粒子束学术会议暨中国电工技术学会第十二届电子束离子束学术年会、中国电子学会焊接专业委员会第九届全国电子束焊接学术交流会、粒子加速器学会第十一届全国离子源学术交流会、中国机械工程学会焊接分会2008年全国高能束加工技术研讨会、北京电机工程学会第十届粒子加速器学术交流会论文集》期刊2008-09-01）
赖起邦[10]（2008）在《射频、直流磁控溅射和多弧离子镀沉积类金刚石薄膜的拉曼光谱分析》一文中研究指出用射频、直流磁控溅射和多弧离子镀制备一系列类金刚石(DLC)薄膜样品,并测量了样品的拉曼光谱。通过数据分析发现叁种沉积方式中多弧离子镀沉积得到的薄膜含有更高的sp3含量。采用多弧离子镀设备,在不同的溅射负偏压下沉积了一系列的DLC薄膜样品,对样品进行拉曼光谱测试,通过对比分析发现随着沉积负偏压的提高,薄膜内sp3的含量不断提高。表明可以通过提高多弧离子镀的负偏压来提高DLC薄膜的质量。(本文来源于《光谱实验室》期刊2008年03期）
多弧磁控溅射论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
为了研究磁控溅射(MS)和多弧离子镀(MAIP)技术制备Cr涂层的高温抗氧化性能,分别在锆合金表面制备厚度约5μm的Cr涂层。利用氧化动力学曲线对比研究800℃条件下涂层的高温抗氧化性能,利用SEM、XRD、EDS分析涂层表面形貌和相结构。结果表明:磁控溅射和多弧离子镀Cr涂层均能显着提高锆合金的高温抗氧化性能;磁控溅射Cr涂层表面光滑、致密,但涂层表面存在一定数量的孔洞,占涂层表面积0.40%,氧化7 h后涂层表面出现裂纹,单位面积氧化增重6.434 mg/cm2;与磁控溅射Cr涂层相比,多弧离子镀Cr涂层不再有(211)单一择优取向,Cr涂层厚度均匀,表面平整,膜/基界面分明,孔洞相对较少,占涂层表面积0.21%,氧化7 h后涂层表面依然致密,单位面积氧化增重5.616 mg/cm2,高温抗氧化性能优于磁控溅射Cr涂层。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
多弧磁控溅射论文参考文献
[1].任鑫,赵瑞山,王玮,宋晓龙,张洋.多弧离子镀-磁控溅射复合技术制备TiCN薄膜的耐蚀性研究（英文）[J].稀有金属材料与工程.2018
[2].黄鹤,邱长军,陈勇,胡良斌,刘艳红.锆合金表面磁控溅射与多弧离子镀Cr涂层的高温抗氧化性能[J].中国表面工程.2018
[3].赵瑞山.多弧离子镀与磁控溅射共沉积TiAlCN薄膜的组织结构与性能研究[D].辽宁工程技术大学.2017
[4].朱元义,邓佩珊,朱常锋,朱文,史继富.多弧离子镀与磁控溅射联用镀制TiN/SiO_2复合装饰薄膜的研究[J].真空.2015
[5].张桂如.多弧离子镀和磁控溅射复合制备（Ti,Al）N薄膜研究[D].沈阳大学.2014
[6].朱元义,邓佩珊,朱常锋,朱文.多弧离子镀与磁控溅射联用镀制TiN/SiO_2复合装饰薄膜的研究[C].第九届全国转化膜及表面精饰学术年会论文集.2012
[7].刘传胜,杨种田,杨兵,田灿鑫,付德君.多弧-磁控溅射法制备Ti-Si-N纳米复合涂层及涂层的结构和力学性能[J].粉末冶金材料科学与工程.2010
[8].王晖.磁控溅射和多弧离子镀方法合成ZrB_2/AlN、CrN/AlN纳米多层膜的研究[D].天津师范大学.2009
[9].杨种田,杨兵,周霖,刘传胜,叶明生.多弧-中频磁控溅射沉积Ti-Si-N结构与性能[C].2008年全国荷电粒子源、粒子束学术会议暨中国电工技术学会第十二届电子束离子束学术年会、中国电子学会焊接专业委员会第九届全国电子束焊接学术交流会、粒子加速器学会第十一届全国离子源学术交流会、中国机械工程学会焊接分会2008年全国高能束加工技术研讨会、北京电机工程学会第十届粒子加速器学术交流会论文集.2008
[10].赖起邦.射频、直流磁控溅射和多弧离子镀沉积类金刚石薄膜的拉曼光谱分析[J].光谱实验室.2008
论文知识图
