衬底温度对CuCrO2薄膜结构及光电性能的影响

论文摘要

采用射频磁控溅射方法,在石英衬底上制备CuCrO2薄膜。通过X射线衍射（XRD）、X射线光电子能谱（XPS）、紫外吸收光谱以及电导率的测定,表征不同衬底温度沉积薄膜样品的结构与光电性能。结果表明:薄膜的结晶度、可见光透过率与室温电导率均随衬底温度的升高而增大。衬底温度升高至923 K后,薄膜由非晶转变为具有铜铁矿结构的单相CuCrO2。1023 K沉积的薄膜光电性能最佳,其平均可见光透过率为50%,室温电导率为0.33 S/cm。在近室温区（150～300 K）,1023 K沉积薄膜导电规律符合半导体热激活模式,激活能为0.04 eV。

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类型: 期刊论文

作者: 赵学平,张铭,白朴存,侯小虎,刘飞,严辉

关键词: 薄膜,衬底温度,结构,光电性能

来源: 中国有色金属学报 2019年02期

年度: 2019

分类: 工程科技Ⅰ辑,工程科技Ⅱ辑,信息科技

专业: 材料科学,工业通用技术及设备,无线电电子学

单位: 内蒙古工业大学材料科学与工程学院,北京工业大学材料科学与工程学院

基金: 国家自然科学基金资助项目(11762014),内蒙古工业大学校基金资助项目(ZD201710)~~

分类号: TB383.2;TN304

DOI: 10.19476/j.ysxb.1004.0609.2019.02.05

页码: 255-261

总页数: 7

文件大小: 584K

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标签：薄膜论文;  衬底温度论文;  结构论文;  光电性能论文;