论文摘要
为了实现NA1.35投影光刻光学系统高质量成像,在设计过程中除了控制波像差,还需进一步优化光学系统的偏振像差。利用Jones光瞳和物理光瞳表达了NA1.35投影光刻光学系统的偏振像差,并用二向衰减量与延迟量分析了光学系统偏振像差的大小;根据光线入射到不同光学面上最大入射角度的不同,为每个光学面设计相应的膜系以优化光学系统的偏振像差。相比于采用常规膜系,膜系优化后NA1.35投影光刻光学系统的二向衰减量和延迟量分别减小到了0.021 8、0.057 2 rad,即减小了光学系统的偏振像差。利用Prolith光刻仿真软件,分别对采用常规膜系和优化膜系的NA1.35投影光刻光学系统进行曝光性能仿真,结果显示:膜系优化后光学系统的成像对比度提高了4.4%,证明了NA1.35投影光刻光学系统偏振像差优化方法的有效性。
论文目录
文章来源
类型: 期刊论文
作者: 李杰,林妩媚,廖志杰
关键词: 光学设计,偏振像差,薄膜光学,光瞳,成像对比度
来源: 应用光学 2019年04期
年度: 2019
分类: 基础科学,信息科技
专业: 物理学,无线电电子学
单位: 中国科学院光电技术研究所,中国科学院大学
基金: 02重大科技专项(2009ZX02204)
分类号: TN305.7;O436.3
页码: 575-582
总页数: 8
文件大小: 3506K
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