论文摘要
在聚二甲基硅氧烷(PDMS)微纳米器件的制造过程中,经常需要在PDMS基片表面进行光刻胶的图形化。建立了一种PDMS基片表面的光刻胶图形化工艺。通过对PDMS基片表面进行氧等离子体改性处理,提高了PDMS的表面润湿性,使得光刻胶可以均匀地旋涂在PDMS基片表面;提出利用室温下长时间静置代替常规的光刻胶前烘工艺,有效避免了光刻胶在前烘过程中裂纹的产生。最后,作为工艺验证,在PDMS基片表面成功制作出了复杂的光刻胶微阵列图案。
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文章来源
类型: 期刊论文
作者: 杨淑凌,郭洪吉,刘泽汉,刘军山
关键词: 氧等离子体,聚二甲基硅氧烷,光刻胶,裂纹
来源: 机电工程技术 2019年11期
年度: 2019
分类: 工程科技Ⅱ辑,工程科技Ⅰ辑
专业: 有机化工
单位: 大连理工大学辽宁省微纳米技术及系统重点实验室
基金: 国家自然科学基金资助项目（编号：51875083,51621064）
分类号: TQ333.93
页码: 70-72+197
总页数: 4
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