一阶不连续光学元件MRF流体动力学分析方法

一阶不连续光学元件MRF流体动力学分析方法

论文摘要

一阶不连续光学元件的磁流变抛光问题是制约我国高精高效光学制造领域发展的难题之一,其涉及锥形、矩形等几何形貌元件的光学元件加工问题以及常见光学元件的边缘效应控制问题。提出了基于一阶不连续光学元件的磁流变抛光流体动力学方法,建立了该类元件抛光区域流体动力分析的理论方法和数值手段。首先,对磁流变抛光工况下的流场进行了合理假设,其次,从微元流体动力方程出发,建立了适用于一阶不连续面形的流场分析方法,最后,基于有限差分法和数值迭代方法建立了流场控制方程的数值计算方法。通过对切入距离为1~18mm的抛光过程进行数值仿真,发现该方法所获取的一阶不连续面形的压力分布形态是正确的,产生的不连续压降与实验观测一致。

论文目录

  • 1 一阶不连续光学元件MRF工艺特性分析
  • 2 MRF流体动力学分析方法
  •   2.1 MRF流场流体动力分析方法的建立
  •     2.1.1参数定义
  •     2.1.2分析假设
  •     2.1.3分析方法的建立
  •   2.2基于有限差分法的流体动力数值分析方法
  • 3 数值仿真与实验研究
  • 4 结论
  • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 杨航,刘小雍,马登秋,张云飞,黄文,何建国

    关键词: 一阶不连续光学元件,边缘效应,磁流变抛光,流体动力学分析,超精密加工

    来源: 强激光与粒子束 2019年02期

    年度: 2019

    分类: 基础科学,工程科技Ⅱ辑

    专业: 仪器仪表工业

    单位: 遵义师范学院工学院,中国工程物理研究院机械制造工艺研究所,中国工程物理研究院超精密加工技术重点实验室

    基金: 贵州省科技计划项目(黔科合LH字[2017]7081,黔科合基础[2018]1179),贵州省教育厅青年科技人才成长项目(黔教合KY字[2017]249,黔教合KY字[2018]319,黔教合KY字[2016]254),教育部重点实验室开放基金课题项目(黔教合KY字[2017]385)

    分类号: TH74

    页码: 29-35

    总页数: 7

    文件大小: 958K

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