胡容[1]2004年在《光学薄膜折射率和厚度测试技术及研究》文中研究说明论文在综合了国际上光学薄膜折射率和厚度不同测试方法的基础上，采用可变角椭圆偏振法来实现和建立国防系统的光学薄膜折射率和厚度最高标准。 可变角度的光谱椭偏仪(VASE)是一种测量光学薄膜折射率和厚度的仪器，它对于新材料和新过程的研究是一种强有力的技术手段。大多数研究应用需要复杂的设备和软件来采集和分析VASE数据，然而只使用软件也可实现用VASE进行常规测量。本文简述了可变角椭圆偏振法的基本原理及各种测量方法的比较，说明可变角光谱椭偏仪(VASE)可测定什么、数据分析的理论以及VASE分析的重点，详细给出了VASE在工业中的一些典型应用以及测量的不确定度及重复性分析和实例。 这一最高标准的建立，实现了光学薄膜折射率和厚度测试仪的计量检定和量值统一，大大提高了我国光学薄膜折射率和厚度的测试和计量水平，是我国的光学薄膜折射率和厚度计量达到国际先进水平。
王学华[2]2003年在《TiO_2薄膜的结构、特性及生长模式的研究》文中进行了进一步梳理作为特殊形态材料的薄膜，具有特殊的光、机、电、磁等性能，已经成为微电子学、光电子学、磁电子学、刀具超硬化、传感器和太阳能利用等新型应用领域的材料基础。TiO_2作为一种极具前景的介质材料被应用到薄膜技术中来，引起了国内外研究者的极大兴趣。作为光学膜，TiO_2薄膜在可见光区透射率高，折射率大，化学稳定性高、强度大、硬度高，是非常重要的光学膜，已被广泛地应用于抗反射涂层、干涉滤波片、电致变色窗和薄膜光波导。作为电学膜，TiO_2薄膜的绝缘性能好，可作为大规模集成电路的保护层。TiO_2的介电常数很高，可用于半导体器件MEMS、MOS等的栅介质。作为气敏膜，用它制备的传感器可用于汽车尾气及大气中氧含量的检测，氢气的泄露检测等，而且使用寿命长，不易中毒。作为光催化膜，可以被广泛的应用到光催化洁净和水、气的处理，杀菌和抗癌方面。 随着薄膜科学与技术的发展，各种薄膜制备方法得到了迅速发展，传统的所谓镀膜，已从单一的真空蒸发发展到包括蒸镀、离子镀、溅射镀膜、化学气相沉积(CVD)、PECVD、MOCVD、分子束外延(MBE)、液相生长、微波法及微波电子共旋(MWECR)等在内的成膜技术。其中电子束蒸发技术是一种常用的薄膜制备技术，它具有成膜质量高，速率可控性好，通用性强等优点。本文采用SEM、TEM、XPS、XRD、椭圆偏振仪(SE)、UV-VIS分光光度计等分析手段系统地研究了电子束反应蒸发方法在K9玻璃上制备TiO_2薄膜的成分、结构和光学性能以及TiO_2薄膜在光学多层膜中应用，并开发了膜系设计软件。文中还从动力学和热力学角度分析了TiO_2超薄膜的形核生长过程，得出了TiO_2薄膜的组织结构模型。 文中首先以TiO_2薄膜的折射率和消光系数为研究对象，采用L9正交试验法研究了在K9玻璃上制备高光学质量TiO_2薄膜的最佳工艺条件。椭圆偏振仪的测试结果表明，制备TiO_2薄膜的最佳工艺条件为：基片温度300℃，工作真空2×10~(-2)Pa，沉积速率0.2nm·s~(-1)，其中基片温度对薄膜光学常数的影响最大，该结果具有较好的可重现性。 TiO_2薄膜的化学计量和晶体结构直接影响薄膜的性能，本文采用XPS、XRD、SEM和UV-VIS分光光度计研究了热处理前后不同的基片温度条件(120℃、200℃和300℃)对薄膜成分、结构和光学性能影响的规律及其机制。研究结果表明，(a)热处理前，随着基片温度的增加，薄膜中的低价氧化钛含量逐渐减少，化学计量比趋于O／Ti=2；薄膜具有非晶态不致密的柱状纤维结构，柱状纤维的尺寸随基片温度的升高而增加;薄膜在可见光范围内透明，在波长为35Onzn时严重吸收，利用干涉级次法分析了薄膜的光学常数，结果表明，薄膜的折射率随基片温度的升高而增加，根据计算结果得到了TIOZ薄膜在不同基片温度下的折射率色散曲线。(b)经过400℃，1小时的热处理后，薄膜中的低价氧化钦消失，薄膜具有很好的化学计量比O/Ti=2;薄膜发生了由非晶态向晶态的转变，转变为具有A(004)晶面择优取向的锐铁矿结构，锐钦矿的晶粒尺寸在3.6一snrn之间，但转变是不完全的;薄膜的致密度比热处理前的也得到提高;薄膜在可见光区域同样具有很好的光透过性，但是紫外截止波长发生了红移，薄膜的折射率比热处理前的得到提高，同样也获得了热处理后薄膜的折射率色散曲线。 薄膜的形核与生长过程直接影响薄膜的结构，文中采用HRTEM研究了透明无机物基底上TIO:薄膜成核生长过程，从热力学和动力学的角度分析了这一过程。研究结果表明，在该无机物薄膜衬底上制备的Ti02薄膜厚度在SOnln时己经形成了连续薄膜，但仍然可以看到岛状薄膜的雏形，岛与岛之间存在一定尺寸的空隙，并且随着厚度的增加，薄膜中岛的尺寸增加。在该无机物晶体解理面上制备的Tiq薄膜其生长方式为层状生长，每层的厚度大约在巧nIn左右。薄膜是由尺寸很小的TIOZ纳米颗粒构成，选区电子衍射的结果表明薄膜为非晶态。根据研究的结果，提出了一个与蒸发制备金属膜组织结构稍有不同的TIO:薄膜组织结构模型，该模型直观地表述了基片温度与薄膜结构之间的关系。 采用Visual Basic为软件平台，开发出了膜系设计软件，建立了常用薄膜材料数据库。该软件具有单层弱吸收膜的光谱性能计算、多层无吸收膜的光谱性能计算，薄膜光学常数的计算、多层膜膜系优化设计等功能。该软件具有操作简单、界面友好、功能完备等功能。采用该软件己经设计了可见光宽带增透膜系、反射红膜膜系、反射率膜膜系、截止滤光膜、分光膜、高反膜等膜系，得到了较好的优化结果。
唐昊龙[3]2014年在《混合型波分复用系统中薄膜滤光片的研究》文中研究表明混合型波分复用技术通过对传统稀疏波分复用技术与宽光谱掺铒光纤放大技术的结合使用,具备了数据传输距离远、通信效率高、抗干扰和保密性能好、结构简单、可快速组建等特点,一经问世就引起了光纤通信领域的广泛关注。但该技术对所使用的复用／解复用滤光片和增益平坦滤光片技术要求特别严格,以目前的光学薄膜制备技术研制两种滤光片难度很大,这也成为了限制混合型波分复用技术发展的主要因素。为此,本文针对混合型波分复用系统中复用／解复用滤光片和增益平坦滤光片的使用要求,通过对合金靶溅射特性、复合薄膜沉积工艺、膜系设计、制备技术、测试技术进行了详尽的理论分析和实验研究,简化了实验步骤,并利用更少的膜层研制出了低损耗CWDM(Coarse Wavelength Division Multiplexing)滤光片和高增益平坦度GFF(Gain Flattering Filter)滤光片,具体研究内容如下。首先采用Ta-Nb合金作为溅射靶材,02为反应气体,采用离子束反应溅射技术制备了一种新型复合薄膜。分别利用分光光度计、X射线衍射仪、X射线光电子能谱仪、扫描电镜和原子力显微镜对制备的复合薄膜的光学特性、结晶状态、成份配比、薄膜表面微结构和表面形貌进行了表征与分析,实验结果显示：相比于Ta2Oj和Nb2O5薄膜,复合薄膜更适用于研制薄膜层数多、薄膜吸收损耗低的滤光片,因此可替代Ta205或Nb2O5作为研制混合型波分复用系统中薄膜器件的薄膜材料。其次对不同离子束工艺参量下制备的复合薄膜、Si0：薄膜的特性进行了深入研究,系统的分析了氧气充入方式对复合薄膜特性产生的影响,并对膜厚均匀性进行修正,为研制低损耗CWDM滤光片与GFF滤光片提供了必要的条件。通过正交矩阵法进行离子源工艺参量优化实验,与传统实验方法进行对比可知,正交矩阵法需要更少的实验次数即可获取较理想的工艺参量,这对简化实验步骤、缩短滤光片的研发周期有较大帮助。另外,还建立了一套完善的膜系寻优设计方法,并对膜堆迭加、匹配层优化等技术进行了深入研究,选用复合薄膜与SiO2作为高低折射率薄膜材料,以WMS-13作为基底玻璃,利用较少的膜层数设计出了满足混合型波分复用系统使用要求的低损耗CWDM滤光片和高增益平坦度的GFF滤光片膜系。根据膜系的结构,研究并制定了采用双离子束溅射法制备CWDM滤光片、GFF滤光片的膜厚监控方案。在低损耗CWDM滤光片研制过程中,采用光电极值法控制各腔内的规整膜层厚度,采用平均时间法控制耦合层厚度。在GFF滤光片研制过程中,采用时间监控法控制膜层厚度。并分别对两种薄膜进行多次沉积,将其结果进行最小二乘拟合得到复合薄膜、SiO2薄膜的沉积速率。实验结果显示：采用上述方法可一定程度上提高离子束溅射系统的膜厚控制精确度,保证低损耗CWDM滤光片和GFF滤光片制备工作可顺利完成,并为高精密薄膜器件的制备提供了更好的膜厚控制方案。研制的低损耗CWDM滤光片和GFF滤光片经过光谱特性测试系统检测,具体数据为低损耗CWDM滤光片的通带中心波长为1551.1nm,通带峰值最大插入损耗-0.09dB,通带波纹在0.04dB范围内变化,在-0.5dB处通带宽17.1nm,在-35dB处带宽24.2nm,通带矩形度为0.707,截止区域的截止度均高于-40dB;GFF滤光片的波长独立损失WIL=0.063dB,误差函数EF的极大值与极小值之差为EFp-p=0.198dB；经过测试所研制的滤光片均可满足混合型波分复用系统的使用要求,本文的相关研究均取得了较满意的实验结果。
王松[4]2016年在《应用于空间光学的聚合物薄膜性能研究》文中研究说明为了解决未来航天技术对超大口径空间光学望远镜的需求,轻量化薄膜衍射光学技术将应用于空间光学成像系统中。传统的无机光学材料因其笨重易碎的特性,难以实现大口径薄膜衍射光学元件的制备。未来轻量化光学薄膜材料将以有机聚合物为主,但作为光学精密元件需长期暴露在空间环境下,除了能长期适应恶劣的空间环境外,还要满足光学应用需求。一般地,聚合物薄膜在空间环境下易发生降解,很难长期适应空间环境,光学性能、机械性能等也会逐渐退化。由此可见,薄膜材料是空间衍射光学系统关键技术之一,亟需解决。能完全满足上述要求的光学薄膜材料是难找的,只能通过对主要性能的比较分析,并对部分尚不满足性能采取改善或改性措施。本文围绕优选出的聚酰亚胺薄膜材料展开研究,在其优异的综合性能及潜在的改性空间的基础上,研究在空间环境下满足光学应用需求的聚酰亚胺薄膜,研究的最终目的是获得空间光学聚酰亚胺薄膜的分子设计知识,并在相关性能研究的基础上,制备出满足空间光学成像要求的聚酰亚胺薄膜。论文的主要研究工作包括以下几个部分:1.优选出聚酰亚胺并分析了光学性能及热力学性能参数要求。在对比了多种可能应用于空间光学系统的有机光学薄膜材料的基础上,优选聚酰亚胺为空间光学薄膜材料的改性对象,并分析了空间光学聚酰亚胺薄膜受真空环境、热循环环境、原子氧等空间因素的影响,研究得出光学聚酰亚胺薄膜光学均匀性要求以瑞利判据为主,需满足四分之一波长原则;另外,理论上热膨胀系数指标应接近零,但可通过光学离焦补偿来降低对薄膜材料热膨胀系数指标要求。2.通过分子设计合成了一系列聚酰亚胺薄膜并对其性能进行了表征与研究。结合空间光学聚酰亚胺薄膜的性能参数分析,通过分子设计理论,合成了刚性与柔性、含氟与不含氟、含氢键作用与无氢键作用的一系列光学聚酰亚胺薄膜,主要包括PAAF、PAI、PAAA叁种架构的聚酰亚胺薄膜,采用激光干涉仪、应力双折射仪、分光光度计、红外光谱仪(FTIR)、热失重分析仪(TGA)、热机械分析仪(TMA)、动态机械性能分析仪(DMA)、凝胶渗透色谱仪(GPC)、电子万能试验机等对其性能进行了表征及对比分析。从结构与性能关系上得出了含氟与氢键作用的光学聚酰亚胺薄膜分子设计结论,讨论了刚性结构、含氟基团、氢键作用对光学聚酰亚胺薄膜性能的影响机理。3.通过叁甲基氯硅烷活化机理合成了TMAC+TFBZ型聚酰亚胺,运用FTIR、DMA、TMA等测试方法对其进行了表征,获得了一种可溶的、低热膨胀系数(11.4ppm/℃)、高模量(4.0GPa)、无色透明(优于90%)的高性能聚酰亚胺薄膜,讨论了氢键作用的重要影响,分析了合成路线中的活化机理。4.在机械性能及热力学性能方面,通过引入强氢键相互作用,制备获得了高强高模(强度为295MPa,模量为10.6GPa)的聚酰亚胺薄膜材料,并且通过共聚方法可调节聚酰亚胺薄膜热膨胀系数接近于零,非常有利于满足空间热交变环境下的尺寸稳定性。5.对柔性光学聚酰亚胺薄膜作为光学媒介的相关参数进行了测试研究与分析,包括基于透射光谱法的薄膜光学常数测试研究、柔性薄膜折射率均匀性测试研究、薄膜表面粗糙度的测试分析。6.探索研究了图案转印法制备菲涅尔聚酰亚胺薄膜透镜,克服了柔性聚酰亚胺薄膜表面刻蚀工艺的难点,在聚酰亚胺薄膜表面获得了台阶结构清晰的菲涅尔图案,同时分析了聚酰亚胺薄膜弹性模量和氢键作用对表面菲涅尔结构轮廓精度的重要意义。7.为了获得更高光学均匀性的聚酰亚胺薄膜,在经典的二步法制备聚酰亚胺薄膜的工艺基础上,设计了近红外辐照均匀加热工艺和柔性拉伸高温处理工艺,有利于改善聚酰亚胺薄膜的光学性能、机械性能及热力学性能。本论文对空间光学聚酰亚胺薄膜的性能研究将不仅获得光学成像级聚酰亚胺薄膜分子设计与材料设计的大量知识,还将为空间超大口径薄膜光学系统的研制提供重要的材料储备。
康桂珍[5]2009年在《微小距离测量的方法研究和实现》文中研究指明液晶盒厚即液晶层的厚度。在生产过程中,由于工作人员的操作不当造成液晶盒厚度不均匀,从而无法达到特定的显示模式。所以,精确的测量液晶盒厚度至关重要。当然,不只是因为要计算液晶盒的厚度而需要实际测量PI层和ITO的膜厚。实际上精确测量这些薄膜厚度不仅对工艺控制、材料分析有重要作用,对了解器件与材料等关系也非常重要。本论文研究了一种新型的LCD厚度/薄膜厚度以及折射率测量技术。不同与多数的激光光源,该方法入射光源为白光。现有的光谱仪主要用于测试反射光谱、反射率等特性曲线。计算过程中,通过对反射光谱的分析研究,最终得出被测液晶盒厚度、薄膜厚度和薄膜折射率。不同与以往的区域均匀度测量,本方法可以做到单点测量,测量过程简单,测量时间短暂。在薄膜折射率未知的情况下,测量薄膜厚度和折射率要求光线能够斜入射到薄膜表面。而现有的光纤光谱仪只能实现光线垂直入射。本论文完成了光谱仪硬件电路的制作,为以后薄膜厚度测量和折射率测量奠定了基础。系统重点是基于ARM的线阵CCD数据采集系统的电路设计,也包括支持系统运行所需的软件。首先提出了系统的总体设计方案。整个系统分为叁个模块:CCD驱动模块,对微处理器进行编程产生CCD的驱动脉冲及同步控制信号;输出信号经差分预处理后,由高精度模数转换模块进行采样,将CCD输出的模拟信号转换成数字量;最后,将数据送入ARM处理系统中进行后续处理。在系统硬件电路调试通过的基础上,编写了系统运行所需的软件,并进行了软件测试。
杨照金, 王雷, 侯西旗, 解琪, 杨冶平[6]2010年在《光学材料参数计量测试技术研究》文中进行了进一步梳理随着光学材料技术的发展,对光学材料计量测试提出了新的更高的要求,光学材料参数计量测试面临新的挑战,常规条件下普通光学参数的计量测试已经满足不了需要,需要从紫外到红外全波段的计量测试。国防科技工业光学一级计量站多年来研制并建立了多台光学材料参数计量测试装置。本文简要介绍光学一级计量站在光学材料方面所做的主要工作,分析光学材料计量测试的发
李香波, 高劲松, 王彤彤, 王笑夷, 陈红[7]2009年在《SiO_2单层膜的反常色散研究》文中研究说明利用等效折射率概念分析了SiO2单层膜反常色散出现的原因,并在1.1m镀膜机上证明了理论分析的合理性.结果表明,理论分析与实验结果一致,沿薄膜厚度方向折射率的对称周期变化使薄膜的等效折射率变化在可见光波段与致密膜层的变化不一致,表现出反常色散的现象.膜厚方向折射率变化周期越大,等效折射率随波长增加的趋势就越大,薄膜表现出的反常色散特性越明显.沿膜厚方向折射率变化幅度的对色散特性影响次之.
王晓玲[8]2014年在《大功率半导体激光器腔面膜的研究》文中提出大功率半导体激光器是以半导体材料作为激光工作物质的激光器，具有体积小、效率高、结构简单、价格便宜的优点，因而得到了广泛的发展。由于大功率半导体激光器有着很高的输出激光密度，会导致激光器的腔面遭受光学灾变性损伤。通常为了提高大功率半导体激光器的激光损伤阈值、输出光功率密度与电光转换效率，在其前后解理面上镀介质保护膜。腔面保护膜还可以阻止激光器腔面遭受氧化、腐蚀，也对延长激光器的寿命有重要作用。所以研究腔面镀膜对半导体激光器有非常重要的意义。本论文围绕大功率半导体激光器腔面镀膜技术，从光学薄膜入手，介绍了薄膜的生长原理、腔面镀膜所用的离子辅助电子束蒸发技术、光学薄膜的各种性质，以及半导体激光器常用的一些腔面膜材料。并根据增透膜、高反膜理论，应用膜系设计软件对腔面膜进行了模拟与优化设计。利用实验室的真空镀膜设备，结合设计的腔面膜系，对实验片以及大功率半导体激光器腔面进行薄膜的制备。测试并分析实验片薄膜的反射率，以及大功率半导体激光器的器件性能。主要研究内容如下：(1)从增透膜及高反膜的理论出发，选择适当的镀膜材料，分别设计了应用于808nm及980nm半导体激光器腔面的几种膜系，包括单层增透膜、多层增透膜、特定反射率增透膜以及多层高反膜。为了使制备的大功率半导体激光器适合在更大的电流下工作，利用最佳工作点随着和端面反射率相关的阈值电流等参数的变化规律，进一步优化设计980nm半导体激光器的腔面膜系。(2)利用离子辅助电子束蒸发真空镀膜机，通过单层膜实验，分析了镀膜设备的工艺条件对薄膜质量的影响，研究的工艺条件包括真空度、离子辅助、蒸发速率及衬底温度。(3)应用实验片对设计的膜系进行镀膜实验，测试反射率并分析。为了验证腔面镀膜对半导体激光器器件性能的影响，进行腔长为4mm、激射波长为980nm的InGaAs/GaAs/AlGaAs大功率半导体激光器的制备，并利用优化选取的腔面膜系在激光器腔面进行薄膜制备。测试并分析腔面镀膜及优化选取的膜系对半导体激光器的斜率效率、转换效率及光学灾变损伤(COD)阈值的影响。
杨芳[9]2005年在《光子嫩肤用滤光片的研究》文中研究指明强脉冲光子嫩肤技术是继激光美容技术之后新兴发展起来的一种美容技术,其原理是强脉冲氙灯发出宽光谱光,通过采用特定的滤光片滤除紫外光并选择用于治疗范围的标准谱段,作用于人的皮肤组织,达到美容治疗的效果。其相关滤光片的膜系设计与制备工艺的难点在于此类滤光片的高通带透射率、宽截止带、高陡度的要求。本文主要从以下几个方面展开研究。本文采用规整膜系和自动优化两种方法进行设计。在规整膜系设计中,以长波通膜系为主膜系,除了采用等效折射率方法外,又提出了一种基于自动优化的新方法-非规整膜层匹配方法。将两种方法进行比较,突出了非规整膜层匹配方法的优越性,证明是一种很好的设计方法,并可用于其他膜系的设计。在自动优化设计中将传统的局部优化方法和Needle法及Tunneling法相结合,并将膜厚容差和膜厚限制作为参数考虑到膜系设计中,构造了新的评价函数; 分析了初始膜厚度及初始膜材料对优化结果的影响,确定了较优的初始参数; 通过比较不同膜系的膜厚灵敏度因子,得到了具有实际镀制特性的最优理论解,具有实际的指导意义。采用正交实验法来分析薄膜制备中的工艺因素(基片温度、蒸发速率、离子束流密度和屏极电压)对薄膜表面质量、附着力和光谱特性的影响,确定了最佳的离子辅助镀膜(IAD)工艺参数,同时分析了薄膜制备后期的空气退火烘烤处理对其性能的影响,通过多次实验得到了较佳的退火温度和时间。积累了一些对于今后研究工作具有指导意义的结果。研究了IAD 工艺与常规电子束蒸发镀制的滤光片在光学性质和理化性质方面的差别,分析结果表明IAD 技术提高了聚集密度,显着改善了薄膜的结构和光学特性。完成了大量薄膜淀积实验,最后镀制了满足实际使用要求的光子嫩肤用滤光片,已用于光子嫩肤仪的使用中,效果良好。
薛晖[10]2009年在《光学薄膜光学特性检测中若干关键问题的研究》文中认为要制备高性能的光学薄膜器件,其光学特性测试的重要性是毋庸置疑的。随着光学薄膜设计与制备技术的发展,各种复杂结构薄膜器件的制备成为可能。设计出来的各种复杂的光学薄膜必须经过一系列特性检测才能最终用于生产实践;对各种光学特性的了解反过来又能指导和修正现有的设计。本课题在传统光学薄膜光学特性检测技术的基础上,对其中的若干关键问题加以讨论,设计了一整套针对光学薄膜光度特性、光学常数以及位相特性检测和反演的方案。论文主要涉及以下几个方面:1、光学薄膜光度特性检测系统的研究。在深入研究国内外各种光学薄膜光学特性检测技术的基础上,针对其局限性,设计了新型光谱透反射率测试系统,并从总体设计、元器件选择、硬件电路设计以及上位机软件编写四个方面对整个系统的设计方案加以阐述。重点介绍了几个关键功能的具体实现,包括倾斜光入射的处理、多角度反射率的测量、温度漂移特性的测量、偏振特性的测试及校准以及高精度数据采集系统的设计等等,且均给出了相应的实验结果,从而对其可行性与正确性加以验证。最后,将测试得到的数据与国外高档的商用分光光度计相比较,对该光谱测试系统进行了精度分析,详细分析了误差的主要来源,同时提出了相应的解决方法。2、光学薄膜光学常数反演方法的研究。主要研究了反演光学薄膜光学常数的几种方法,包括极值法、包络线法和光谱拟合算法,重点分析了基于优化算法的光谱拟合法的实现原理,将现今流行的优化算法,如单纯形法、模拟退火法和遗传算法等应用于光学薄膜光学常数的反演中,通过模拟和实验两方面加以验证,并分析了各种优化算法的优缺点以及各自的适用场合。此外,考虑到实际透射率的测试必定存在误差,对如何降低其对光学常数反演结果的影响作了详细的讨论和分析,提出并从理论上证明了可以借助透射(或反射)光谱对光学常数的偏导数来筛选反演计算的波段,从而抑制光学常数反演结果的误差。3、光学薄膜位相特性检测方法的研究。通过对国内外光学薄膜位相检测技术的研究,提出了包括傅立叶变换法、干涉强度拟合法、包络线法、节点拟合法以及小波变换法在内的多种位相提取算法。为了验证上述算法的正确性,搭建了用于位相测量的光谱型白光干涉系统,对制备的不同薄膜样品进行了位相信息(包括群延迟和群延迟色散)的测量,并将实验测得的位相值与理论值进行了对比,结果表明两者具有很好的一致性。考虑到位相测试(尤其是群延迟色散)中的噪声水平,采用窗口平滑的方法对其加以改善,并分析了窗口尺寸的选择对测试结果的影响。此外,进一步讨论了影响位相以及群延迟测试精度的几点因素,并提出了克服和解决的方法。
参考文献：
[1]. 光学薄膜折射率和厚度测试技术及研究[D]. 胡容. 南京理工大学. 2004
[2]. TiO_2薄膜的结构、特性及生长模式的研究[D]. 王学华. 武汉理工大学. 2003
[3]. 混合型波分复用系统中薄膜滤光片的研究[D]. 唐昊龙. 长春理工大学. 2014
[4]. 应用于空间光学的聚合物薄膜性能研究[D]. 王松. 中国科学院研究生院(光电技术研究所). 2016
[5]. 微小距离测量的方法研究和实现[D]. 康桂珍. 电子科技大学. 2009
[6]. 光学材料参数计量测试技术研究[C]. 杨照金, 王雷, 侯西旗, 解琪, 杨冶平. 第十叁届全国光学测试学术讨论会论文（摘要集）. 2010
[7]. SiO_2单层膜的反常色散研究[J]. 李香波, 高劲松, 王彤彤, 王笑夷, 陈红. 光子学报. 2009
[8]. 大功率半导体激光器腔面膜的研究[D]. 王晓玲. 北京工业大学. 2014
[9]. 光子嫩肤用滤光片的研究[D]. 杨芳. 华中科技大学. 2005
[10]. 光学薄膜光学特性检测中若干关键问题的研究[D]. 薛晖. 浙江大学. 2009
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