导读:本文包含了磁流变抛光论文开题报告文献综述、选题提纲参考文献及外文文献翻译，主要关键词:磨损,抛光轮,磁场,机理,永磁,包络,组合。
磁流变抛光论文文献综述
高春甫,郑强,杨青形[1]（2019）在《圆柱型永磁体磁流变抛光头设计及其参数优化》一文中研究指出针对传统加工技术存在表面损伤、加工效率低的问题,将极具前景的面接触式超精密磁流变抛光技术应用到3C制造业中。对圆柱型永磁体磁流变抛光头在加工过程中的抛光垫的形貌进行了研究分析,发现圆柱型永磁体磁流变抛光头在加工过程中存在一种"环状效应",利用"环状效应"对圆柱型永磁体磁流变抛光头进行了结构设计,并对其进行了设计理念分析;对圆柱型永磁体抛光头在6061的铝合金工件上进行了单因素抛光实验,通过实验获得了最优参数。研究结果表明:该圆柱型永磁体磁流变抛光头能够实现环状加工区域的高效光滑平坦化加工,工件表面粗糙度达到52 nm,材料去除率达9.1μm/min,大大提高了磁流变抛光的效率,为面形精度在微米级的超光滑平面的制造提供了一种高效的加工方法。(本文来源于《机电工程》期刊2019年12期）
戴斌,周根荣,姜平[2]（2019）在《磁流变抛光控制系统的研究与设计》一文中研究指出提出一种面接触式磁流变抛光新方法并设计以西门子PLC和STM8S105单片机为核心的磁流变抛光设备智能控制系统,其中PLC实现对抛光速度、抛光间隙和抛光时间的控制;STM8S105单片机实现对磁极恒流控制。文中介绍了磁极控制系统的软硬件设计,并给出了实验的测试结果。曲线表明磁极电流可以快速稳定地达到设定值。通过对两款316L材质的金属粉末注射成型冷饮机配件进行抛光实验,验证系统的抛光效果,经过抛光后316L冷饮机配件的表面粗糙度都有明显下降,说明所研究的磁流变抛光机对于粉末冶金制品表面粗糙度具有较高的去除率。(本文来源于《电子器件》期刊2019年05期）
王嘉琪,肖强[3]（2019）在《磁流变抛光技术的研究进展》一文中研究指出磁流变抛光技术具有加工面形精度高、表面粗糙度小、加工过程易于控制、表面损伤小、加工过程中不产生新的损伤等优秀特点,因此多应用于加工要求高的精密和超精密领域,最常应用于光学加工方面。综述了磁流变抛光技术材料去除数学模型的建立进展,论证了该模型的正确性,总结出该基本模型具有通用性,模型能够适用于平面和凸球面等形面加工中,此外,对实现计算机控制抛光过程的准确性具有指导意义。概述了磁流变抛光工艺实验进展,总结磁流变抛光影响抛光效果的主要因素是磁场强度和磁场发生装置,在优化工艺参数组合下能够达到纳米级表面,能够消除亚表面损伤,还能够用以加工各种复杂形面等。就目前磁流变抛光技术的发展新方向作以总结,包括集群磁流变抛光技术、组合磁流变抛光技术以及磁流变-超声复合抛光技术,介绍这几种加工方法的工作原理以及能够达到的实验效果。最后对现阶段磁流变抛光技术中存在的问题做出总结,并针对各个问题提出相对应的思考和展望。(本文来源于《表面技术》期刊2019年10期）
张欢[4]（2019）在《基于磁流变抛光法的光学元件抛光专利技术综述》一文中研究指出磁流变抛光法是目前用于抛光光学元件的热点技术。文章从基于磁流变抛光法的光学元件抛光的基本概念出发,统计和归纳了该技术领域的国内外专利文献,梳理了该领域的技术发展脉络,最后结合具体案例阐述了技术综述在审查实践中的应用。(本文来源于《科技创新与应用》期刊2019年20期）
周涛,黄文,陈华,张云飞,郑永成[5]（2019）在《基于ICP的磁流变抛光方形工件精准定位方法》一文中研究指出为解决磁流变抛光中的定位关键问题,提高磁流变抛光的工件装夹效率与定位精度,结合迭代最近点(ICP)算法,提出适用于方形平面工件的叁面测点位姿精确定位方法。通过仿真计算,验证了该方法的定位误差小于0. 5μm,具有理论可行性;通过位姿求解及定位误差验证实验,验证了该方法在实际工况下的Z向定位误差小于10μm,具有实际应用可行性。(本文来源于《制造技术与机床》期刊2019年07期）
周琴琴,彭可,陈永福,赵卓,杨玉娥[6]（2019）在《基于环形磁场励磁的多工位磁流变抛光方法》一文中研究指出提出一种基于环形磁场励磁的商用磁流变抛光方法,可满足工业化大批量生产需求。通过设计环形磁场的电磁铁,进行叁维有限元仿真分析,配合既公转、自转又摇摆的多工位抛光头,搭建环形磁场磁流变抛光装置。利用该平台分别对表面粗糙度为0. 2μm的铝合金和不锈钢手表框曲面进行磁流变抛光试验,结果表明该方法可以同时对多个工件的曲面进行抛光,抛光后两者的表面粗糙度分别提高到0. 05μm和0. 025μm,从而验证该加工方法进行精密抛光的可行性。(本文来源于《制造技术与机床》期刊2019年07期）
李跃,何建国,黄文,张云飞,钱林弘[7]（2019）在《磁流变抛光轮磨损影响因素分析》一文中研究指出针对磁流变抛光轮长时间使用存在的严重磨损问题,分析磁流变抛光轮磨损原因,建立抛光轮半固着磨粒磨损模型,分析影响抛光轮磨损的主要因素。分析表明:磁流变抛光轮产生磨损的主要原因是回收器处形成的磁密封与抛光轮之间产生的半固着磨粒磨损,其磨损特征表现为介于二体磨损和叁体磨损之间;磁场和磁链的变化是磨损率改变的根本原因,影响抛光轮磨损的主要因素为回收器间隙、抛光轮转速、抛光颗粒的含量和尺度。通过实验研究3种主要因素对抛光轮磨损的影响规律。结果表明:磨损率随回收器间隙的增大而减小,随着抛光轮转速、抛光颗粒的尺度和含量的增大,先增大后减小。实验结果与理论分析结果相吻合,验证了建立的半固着磨粒磨损模型的正确性。(本文来源于《润滑与密封》期刊2019年06期）
肖晓兰[8]（2019）在《高精度陶瓷球高效低损伤全球面包络磁流变抛光加工研究》一文中研究指出高精度陶瓷球轴承是高端机床、高速列车、风电机组等重大装备的关键基础元件,由于其需在高温高压、高速重载及有腐蚀的条件下工作,陶瓷球表面层的任何缺陷都可能影响轴承的使用性能和寿命。为适应恶劣的工作环境,要求加工后的陶瓷球具有纳米级的表面粗糙度和亚微米级的球形误差,并且加工表面不出现微裂纹、划擦伤痕、微观组织变化以及残余应力等。由于目前我国相关加工及装备技术尚未完全解决陶瓷球抛光效率低、表面完整性差的难题,高精度陶瓷球的制造成本一直居高不下。本文在分析比较国内外高精度球的抛光方法和磁流变抛光技术的基础上,提出一种高精度陶瓷球高效低损伤全球面包络磁流变抛光方法。通过构造叁维结构的磁流变抛光垫,实现一种抛光力可控的全球面包络磁流变抛光球体模式,有效提高抛光加工效率和球体表面完整性。本文围绕全球面包络磁流变柔性可控化成球机理和材料塑性域去除机理展开研究,分析了加工过程中的磁流变抛光垫动态微观结构变化规律和抛光力阈值、磨粒运动轨迹及其切深等参数对抛光效果的影响规律,揭示了陶瓷球的几何精度变化机制和材料微观去除机制,建立了基于柔性可控加工过程的陶瓷球高效低损伤加工策略和磁流变抛光加工陶瓷球实验平台,优化了磁流变抛光工艺,实现了预设目标。主要研究工作概括如下:1)研究了材料塑性域去除微量控制机理,通过纳米力学模拟实验得到对氮化硅陶瓷球材料进行塑性域去除的临界载荷和临界切深,为高效低损伤抛光陶瓷球的工艺参数选择提供了理论指导。实验结果表明,氮化硅陶瓷材料在磨粒划擦和压入作用下会出现弹性变形、弹塑性变形及脆性断裂叁个阶段;在本文的实验条件下,当载荷到达9.8N附近或磨粒切深到达8.3μm附近时,将发生脆性去除方式的微裂纹萌生与扩展。2)提出一种高效低损伤全球面包络磁流变抛光高精度陶瓷球的新方法,通过全球面包络的磁场均匀性设计和抛光盘结构、驱动方式、以及抛光垫动态微观结构控制等新方案,形成叁维结构的磁流变抛光垫,对陶瓷球进行包覆、夹持和压力柔性传递,并实现磁流变抛光垫与陶瓷球面接触过程的作用力可控,快速降低球体表面粗糙度和球形误差,有效提高抛光效率和表面完整性。3)基于陶瓷球工件几何运动学和动力学分析得到球体各运动参数的影响关系,利用机械系统分析软件ADAMS对成球过程进行动态仿真,通过高速摄像机观测球坯在加工过程中的运动轨迹,对加工时陶瓷球的公转角速度、自转角速度以及自转角等运动参数进行了理论分析和实验验证。研究了高效低损伤磁流变抛光陶瓷球的柔性可控化成球机理,建立了球体运动模型,提出了抛光轨迹均匀性评价方法,并以抛光轨迹均匀程度为优化目标,采用正交实验仿真的方法找到最佳抛光工艺参数方案。4)分析了磨粒作用于陶瓷球表面的过程,对全球面包络磁流变抛光陶瓷球的抛光力进行了测试与分析,探讨了陶瓷球表面的磁流变效应压力和流体动压力,建立了全球面包络磁流变抛光方式下的抛光力数学模型和材料去除模型。5)系统分析了加工间隙、铁粉浓度和抛光盘转速变化对材料去除率的影响规律。随着加工间隙的增加,材料去除率逐渐降低:当加工间隙为0.4mm时,实验测得陶瓷球直径方向上的材料去除率为8.1μm/h;当加工间隙为1.2mm时,实验测得材料去除率为0.6μm/h。铁粉浓度的增加先让材料去除率增加,当铁粉浓度增加到20vol.%以后,材料去除率不再显着增加甚至有所下降。抛光盘转速的增加也会使材料去除率增加,但是在实验条件下,当抛光盘转速提高到40 r/min后,由于抛光力的增幅变小,材料去除率趋于稳定,大约为3.8μm/h左右。6)利用自行研制的陶瓷球全球面包络磁流变抛光装置对直径为Φ9.525mm的氮化硅陶瓷球进行抛光加工实验。根据仿真结果,采用单因素实验法对加工过程的主要参数进行系统分析,确定工艺参数范围;再采用正交实验方法,综合考虑各因素的交互作用,进一步对主要加工参数进行优化;以表面粗糙度、球形误差、表面形貌、表面损伤等作为抛光加工效果的评价指标,获得最佳工艺参数。经过2小时的抛光加工,使球坯的表面粗糙度Ra从63nm下降到4.35nm,球形误差△Sph从0.18μm下降到0.11μm,批量加工平均直径变动量VDWL0.11μm,达到了陶瓷球轴承氮化硅球的国家标准G5水平。(本文来源于《广东工业大学》期刊2019-06-01）
罗斌,阎秋生[9]（2019）在《磁流变抛光非球柱面镜的新工艺》一文中研究指出高精密的柱面镜光学元件,不但要求其具有极低的表面粗糙度、无表面/亚表面损伤和低的残余应力等,而且需要保证其柱面母线的平行度与垂直度。通过分析传统磨研抛技术和计算机控制的光学表面成型技术(CCOS) 2种技术对柱面镜加工后的表面粗糙度、面形精度和母线误差的影响,归纳2种加工方法的优缺点,针对现有加工方法存在的低效率、高粗糙度、表面/亚表面损伤等问题提出一种具有对称结构的非球柱面镜磁流变抛光新工艺,并通过时间参数实验验证了新工艺的可行性。该工艺降低了柱面镜的表面粗糙度,提高了面型精度,在抛光时间为40 min时,表面粗糙度R_a从1.84μm降低至0.36μm,局部面型精度RMS_1从1.91μm降低到0.24μm,母线截面面型精度RMS_2从4.1μm下降到0.68μm。(本文来源于《金刚石与磨料磨具工程》期刊2019年02期）
李跃[10]（2019）在《磁流变抛光轮磨损机制与抑制方法研究》一文中研究指出磁流变抛光过程中,磁流变抛光轮作为抛光液缎带的承载工具,在加工和抛光液循环系统中都起到了至关重要的作用。当长时间使用后,抛光轮表面会存在一定的磨损,产生深浅不一、分布不均的沟槽,磨损过程中还会导致抛光液出现不同程度的氧化,对抛光质量、抛光液循环、抛光工具使用寿命都有一定的影响。目前,国内外尚未有效解决磁流变抛光轮的磨损问题。为此,针对磁流变抛光轮磨损问题,本文通过磨损特征辨识和检测、磨损过程产生氧化、磨损机理、磨损抑制四个主要方面对磁流变抛光轮磨损问题展开研究,主要工作分为以下几个方面:(1)结合磁流变抛光轮表面磨损特征,明确了抛光轮磨损失效模式和表征方法。提出了基于色散共聚焦原理的抛光轮表面形貌在位检测方法,搭建了抛光轮磨损轮廓检测平台,验证了磁流变抛光轮免拆卸在位检测轮廓的可行性。(2)基于XPS能谱仪检测分析,证实了磁流变抛光轮表面氧化物的主要成分是氧化铁。通过分析抛光轮磨损过程中可能产生氧化物的途径,发现氧化铁主要是由回收器处磁密封中的铁粉与抛光轮之间在高速摩擦过程中产生的。结合实验,阐明了氧化物的生成机制,掌握了氧化物在抛光轮表面的附着规律。初步研究表明,影响氧化铁在抛光轮表面附着情况的主要因素是抛光粉尺度和涂层表面微观形貌。(3)针对磁流变抛光轮磨损问题,阐明了产生磨损的原理,分析了抛光轮半固着磨粒磨损机理,明确了导致抛光轮产生磨损的主要因素。研究了回收器间隙、抛光轮转速、抛光颗粒的尺度和浓度四个因素对抛光轮磨损率的影响规律,并采用扫描电镜和轮廓仪分析磨损后抛光轮表面形貌和表面粗糙度。实验结果表明:磁流变抛光轮产生磨损的主要原因是回收器处形成的磁密封与抛光轮之间产生的半固着磨粒磨损,其磨损特征表现为介于二体磨损和叁体磨损之间。各因素主要通过磁场和磁链的畸变程度对磨损率产生影响,磨损率随回收器间隙的增大而减小,随着抛光轮转速、抛光颗粒的尺度和浓度的增大,先增大后减小,变化趋势与理论分析相吻合。(4)从耐磨涂层和回收器原理两个角度,研究了抛光轮磨损的抑制方法。通过对比现有涂层与高硬度涂层的耐磨性,发现涂层耐磨性能与涂层硬度并不正相关。根据抛光轮的磨损机理,提出了基于抛光粉隔离的抛光轮磨损抑制方法,并通过实验验证了可行性。(本文来源于《中国工程物理研究院》期刊2019-04-01）
磁流变抛光论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
提出一种面接触式磁流变抛光新方法并设计以西门子PLC和STM8S105单片机为核心的磁流变抛光设备智能控制系统,其中PLC实现对抛光速度、抛光间隙和抛光时间的控制;STM8S105单片机实现对磁极恒流控制。文中介绍了磁极控制系统的软硬件设计,并给出了实验的测试结果。曲线表明磁极电流可以快速稳定地达到设定值。通过对两款316L材质的金属粉末注射成型冷饮机配件进行抛光实验,验证系统的抛光效果,经过抛光后316L冷饮机配件的表面粗糙度都有明显下降,说明所研究的磁流变抛光机对于粉末冶金制品表面粗糙度具有较高的去除率。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
磁流变抛光论文参考文献
[1].高春甫,郑强,杨青形.圆柱型永磁体磁流变抛光头设计及其参数优化[J].机电工程.2019
[2].戴斌,周根荣,姜平.磁流变抛光控制系统的研究与设计[J].电子器件.2019
[3].王嘉琪,肖强.磁流变抛光技术的研究进展[J].表面技术.2019
[4].张欢.基于磁流变抛光法的光学元件抛光专利技术综述[J].科技创新与应用.2019
[5].周涛,黄文,陈华,张云飞,郑永成.基于ICP的磁流变抛光方形工件精准定位方法[J].制造技术与机床.2019
[6].周琴琴,彭可,陈永福,赵卓,杨玉娥.基于环形磁场励磁的多工位磁流变抛光方法[J].制造技术与机床.2019
[7].李跃,何建国,黄文,张云飞,钱林弘.磁流变抛光轮磨损影响因素分析[J].润滑与密封.2019
[8].肖晓兰.高精度陶瓷球高效低损伤全球面包络磁流变抛光加工研究[D].广东工业大学.2019
[9].罗斌,阎秋生.磁流变抛光非球柱面镜的新工艺[J].金刚石与磨料磨具工程.2019
[10].李跃.磁流变抛光轮磨损机制与抑制方法研究[D].中国工程物理研究院.2019
论文知识图
