调制比对磁控溅射Ti/TiN多层膜组织结构和结合力的影响

论文摘要

通过固定薄膜厚度与调制周期,改变Ti与TiN调制比(分别为1∶3、1∶5、1∶9和1∶11),采用反应磁控溅射法在硅片上制备Ti/TiN多层膜,研究调制比对薄膜微观组织结构及薄膜与基体结合力的影响。用X射线衍射仪(XRD)分析薄膜的晶体结构,用扫描电镜(SEM)观察薄膜的形貌,用纳米压痕仪测试薄膜的硬度,用纳米划痕仪测试薄膜与基体之间的结合力。结果表明:多层膜中TiN出现(220)晶面择优取向,Ti/TiN薄膜为柱状晶方式生长。柱状晶的细化程度随调制比的变化而发生周期性变化,柱状晶组织细化程度高的样品具有更高的硬度,但结合力更低。

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文章来源

类型: 期刊论文

作者: 刘闯,周晖,张凯锋,郑军,冯兴国,郑玉刚

关键词: 氮化物,多层膜,反应磁控溅射,调制比,结合力

来源: 电镀与涂饰 2019年05期

年度: 2019

分类: 工程科技Ⅰ辑

专业: 金属学及金属工艺

单位: 兰州空间技术物理研究所真空技术与物理国防科技重点实验室

分类号: TG174.4

DOI: 10.19289/j.1004-227x.2019.05.006

页码: 212-217

总页数: 6

文件大小: 4244K

下载量: 159

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