一、钼材在玻璃工业中的应用（论文文献综述）
张驰[1]（2019）在《钼钴合金的选区激光熔化工艺及氧化性能研究》文中提出随着船舶技术的不断发展,工件的服役环境发生变化,对材料以及其制备工艺提出了更高的要求。一些传统的结构材料已经难以满足船舶的实际工况要求,新材料的开发及其制备工艺的研究成为亟待解决的关键问题。钼基合金由于其在高温环境下显现出较高的强度和稳定的力学性能,有望代替镍基及铝基合金,成为船舶发展的前瞻性结构材料。采用传统方法制备会引来杂质元素,制备工艺繁琐,且成形件的形状受到限制。本论文所研究的选区激光熔化Mo-6Co合金,组织致密,抗氧化性良好。本实验以球形纯金属粉末为原材料,研究了激光功率、扫描策略、铺粉厚度、扫描速度和扫描间距对成形件显微组织的影响,确定最优工艺参数。为了提高钼材的抗氧化性,本实验通过向钼材中加入钴元素的方式来达到这一目的。在研究了粉末的混合工艺后,通过改变钼材中钴元素的添加量,制备出含钴量不同的成形件,研究钴元素对钼材显微组织及力学性能的影响。利用相关表征仪器,研究钴元素对钼材高温氧化性能的影响,挑选出综合性能较好的钼钴合金进行热处理工艺的研究。激光功率和扫描速度会严重影响成形质量。本文通过对比不同工艺参数下成形件的致密度及内部孔洞,得出了成形件的最优制备工艺:激光功率为325W,扫描速度为400mm/s,铺粉厚度为30μm,扫描间距为40μm,此时成形出的工件具有最大的致密度,可达到94.92%。通过对比本实验所设计的不同钼钴合金后,可以发现:钴元素固溶于钼基体中,具有细化钼材内部晶粒、提高材料硬度和压缩强度的作用,但会促进内部裂纹的产生。选区激光熔化成形出的金属组织具有各向异性,在垂直方向的硬度要比水平方向的硬度更高,压缩强度也更大,此时压缩曲线更符合脆性断裂的特征,通过观察材料的断口,判断出本实验设计的四种钼基合金的断裂方式均为准解理断裂。系统地分析了纯钼试样、Mo-3Co合金试样、Mo-6Co合金试样以及Mo-9Co合金试样在400℃、600℃、800℃和1000℃,氧化1h后的失重情况。观察氧化层表面和截面的形貌,可以发现Mo-6Co合金试样在800℃～100℃下剧烈氧化,生成具有挥发性的MoO3.热处理实验结果表明,随着热处理温度的提高,试样内部的晶粒有变大倾向。
曹欣[2]（2019）在《薄膜太阳能电池用关键基础材料制备技术研究》文中提出近年来,太阳能的开发和利用成为人类发展的热点问题之一,作为核心器件的薄膜太阳能电池产业发展迅速。薄膜太阳能电池主要由玻璃材料、透明导电膜、窗口层、光吸收层等构成,其中玻璃及透明导电膜作为核心材料占总成本30%以上。本文主要针对薄膜太阳能电池中所使用的玻璃基板及透明导电膜,开展应用基础研究,包括:（1）研究了 A1203及MgO/CaO对Si02-RO-R20系玻璃结构及性能的影响、芒硝的澄清机理及效果、硅砂粒度对熔化质量的影响规律。实验证明:Al203为6 wt.%,MgO/CaO为1,芒硝含量2.5wt.%,硅砂粒度100～150目时,玻璃基板应变点>580℃,工艺难度适中,成果量产了 CIGS薄膜太阳能电池高应变点玻璃基板。（2）研究了 R20-Al203-SiO2系玻璃硅酸盐反应过程,Al2O3含量的增加将导致玻璃力学、化学及工艺性能大幅度上升。B2O3含量会对结构产生直接影响,在4.0 wt.%时性能及澄清效果达到较佳水平。针对性的开发了化学强化工艺,样品表面压应力>840 MPa,成果运用于我国第一条高强R20-Al203-SiO2玻璃生产线。（3）研究了碱土金属比例、Ge02、Zr02对B203-Al203-Si02系玻璃力学、光学等物化性能,黏度、热膨胀系数等工艺性能的影响规律,确定了规模化生产的氧化物体系;探索了硅砂粒度上、下限对熔化质量的影响规律,在采用粒度范围150～200目的国产硅砂1#,各项指标均优于进口硅砂;系统研究了 SnO、SnO2等单一和硫氧系、氯氧系等复合澄清剂对玻璃澄清性能的影响规律,在SrSO4 0.05 wt.%+SnO2 0.15wt.%时,气泡直径0.52 mm,熔占比18.3%时,效果最佳,技术成果正在产业转化。（4）研究了衬底温度、高温热处理过程、功率等对ITO薄膜结构和性能的影响规律,分析了工艺参数对ITO导电膜性能的影响机理,在功率85 W,410℃条件下,制备了电阻率为1.6×10-4 Ω·cm的导电薄膜,工艺与性能实现平衡;研究表明随氧分压的增大,氧空位浓度逐渐降低,氧空位散射中心也随之减少。（5）研究了室温状态下靶基距、工作压强等对AZO薄膜结构和性能的影响规律,探寻了氧负离子对薄膜结构损伤的影响机理。采用刻蚀法对AZO薄膜进行绒面制备,获得了电阻率为3.7×10-4Ω·cm,可见光透过率为89.59%,雾度达24.7%的AZO导电膜,技术成果用于实际生产。（6）研究了直流溅射功率、直流射频耦合功率占比及工作气压等工艺参数对GZO薄膜结构、光学、电学等性能的影响规律,在工作气压0.2Pa,射频占比80%时,制备出电阻率为2.47×10-4Ω·cm,透过率为84.2%高质量的GZO薄膜,技术成果可用于工业化实践。
代禹[3]（2018）在《氧化物颗粒弥散强化Pt-Rh合金及其焊接接头高温性能研究》文中指出铂及其合金凭借其优良的耐腐蚀性、高温稳定性、抗蠕变性等性能,在电气工业、化学工业、玻璃纤维、平板显示等工业中用于制造精密电接触材料、电阻温度计、催化剂、拉丝漏板、玻璃液通道等部件。常规的铂及其合金长时间处于高温应力环境时,容易出现晶粒严重长大、性能大幅下降等问题,难于满足日益严苛的服役性能要求。国内外研究及工程实践表明,固溶强化、弥散强化等手段可有效改善铂合金的室温性能及高温性能。本论文以玻璃纤维工业中拉丝漏板的常用材料——铂合金为研究对象,研究采用固溶强化、弥散强化的方法提高漏板的服役性能,重点探究Pt-20Rh-0.015Y-xZr（x=0,0.4）合金及其焊接接头的微观组织、室温力学性能、高温抗蠕变性、高温润湿性等,主要工作和研究结果如下:（1）采用粉末冶金、内氧化-烧结、高温锻造、轧制、退火等工艺,制备出1mm厚的Pt-20Rh-0.015Y-xZr合金薄片,采用手工氩弧焊制备出焊接接头试样。（2）采用金相显微镜观察分析合金及其焊接接头微观组织特点,结果表明轧制态Pt-20Rh-0.015Y-xZr合金TD-RD面晶粒呈纵横比较大的细长纤维状,Pt-20Rh-0.015Y-0.4Zr合金晶粒纵横比大于Pt-20Rh-0.015Y合金。Pt-20Rh-0.015Y-xZr合金焊接接头焊缝宏观表面平整、致密。焊缝表面强化相颗粒富集,Pt-20Rh-0.015Y-0.4Zr合金焊接接头浮出物显着多余Pt-20Rh-0.015Y合金焊接接头。焊接接头中焊核区晶粒尺寸较大为柱状晶,Pt-20Rh-0.015Y合金焊接接头焊核区晶粒明显大于Pt-20Rh-0.015Y-0.4Zr。熔合区内侧主要为粗大的柱状晶,外侧主要为等轴晶。热影响区发生了回复再结晶,Pt-20Rh-0.015Y-0.4Zr合金焊接接头热影响区晶粒尺寸大约4.9μm,显着小于Pt-20Rh-0.015Y合金焊接接头热影响区晶粒尺寸13.2μm。（3）测试了合金及其焊接接头室温力学性能,结果表明Pt-20Rh-0.015Y-0.4Zr合金的抗拉强度589MPa、屈服强度310MPa,分别高出Pt-20Rh-0.015Y合金43.0%、116.8%。Pt-20Rh-0.015Y-xZr合金焊接接头力学性能低于母材,Pt-20Rh-0.015Y-0.4Zr合金焊接接头的抗拉强度483MPa、屈服强度297MPa,分别高出Pt-20Rh-0.015Y合金焊接接头21.1%、77.8%。母材室温拉伸断口有大量韧窝,为塑性断裂,Pt-20Rh-0.015Y-0.4Zr合金断口韧窝中存在强化相颗粒,EDS能谱分析表明颗粒主要成分为ZrO2,焊接接头断口中韧窝数量明显低于母材断口,塑性断裂特征较母材弱。（4）测试了合金及其焊接接头1400℃、20MPa下的抗蠕变性能,结果表明Pt-20Rh-0.015Y-0.4Zr合金及其焊接接头的蠕变持久时间分别为11.7、0.46小时,分别是Pt-20Rh-0.015Y合金及其焊接接头的21倍、2倍。Pt-20Rh-0.015Y合金和Pt-20Rh-0.015Y-0.4Zr合金在高温高载荷下回复再结晶明显。Pt-20Rh-0.015Y-xZr合金及其焊接接头蠕变断口表面韧窝甚少,在Pt-20Rh-0.015Y-0.4Zr合金及其焊接接头蠕变断口中存在强化相颗粒,EDS能谱分析表明颗粒主要成分为ZrO2,在Pt-20Rh-0.015Y-0.4Zr合金及焊接接头断口中出现疑似位错环的条纹。（5）采用座滴法测试了1000-1550℃下Pt-20Rh-0.015Y-xZr合金与TM+玻璃熔滴的润湿性。在此温度区间,随着温度升高,润湿角总体呈现出下降趋势。在1050℃时,Pt-20Rh-0.015Y-0.4Zr合金和Pt-20Rh-0.015Y合金的润湿角分别为148.6°、142.0°,不润湿;在1550℃时,润湿角分别为63.5°、67.3°,润湿性较好。
吕建先[4]（2016）在《基于热匹配性的Mo-W-Si-N系涂层钼材的研制》文中指出金属钼具有极高的熔点（2617℃）以及较好的耐磨性、抗腐蚀性和电热导性,常被用于宇航工业、高温炉工业、玻璃制造工业和电子元件工业等领域的高温发热元件,但其在600℃发生表面氧化形成易挥发的三氧化钼而失效的特性限制了应用,因而钼基高温发热元件仅能使用于真空或保护气氛。因此,研究并提高钼及其合金的高温抗氧化性能具有重要意义。表面涂层方法可在保持钼及其合金性能的同时,提高其高温抗氧化性能。钼及其合金的表面高温抗氧化涂层体系包括:耐热合金涂层、氧化物涂层、铝化物涂层和硅化物涂层四大体系。基于抗氧化性和高温结构强度考虑,二硅化钼（MoSi2）涂层体系已成为提高钼及其合金高温抗氧化性能的研究重点。研究表明,Mo Si2复合涂层可改善钼及其合金的高温抗氧化性能,其使用温度和服役寿命强烈依赖于Si的扩散,W的合金化作用能明显提高Mo Si2涂层体系的使用温度和服役寿命。Mo Si2涂层与钼基体的热膨胀系数（分别为8.5×10-6/℃和5.8×10-6/℃）的匹配性也是影响复合涂层使用寿命的关键因素,N元素的添加能改变涂层材料的微观结构,提高基体与涂层的热匹配性;但W合金化Mo Si2涂层与钼基体间的热匹配性有待深入研究。本文在W合金化Mo Si2涂层高温抗氧化性能的研究基础上,通过真空烧结法和等离子快速烧结法制备不同WSi2含量和不同Si3N4含量的Mo-W-Si-N涂层材料,通过测定不同配比的涂层材料的热膨胀系数,着重探索WSi2和Si3N4的加入对钼基体与涂层材料的热匹配性的影响,得出了以下研究结论:1采用真空烧结法制备Mo-W-Si-N系涂层材料的最佳制备工艺为:球磨时间为4h,粘结剂的添加量为4%,生坯压力为180MPa,烧结温度1500℃,保温2h。采用等离子快速烧结法的最佳制备工艺为:烧结温度为1550℃,保压10min,轴向压力为25MPa。2加入少量的WSi2/Si3N4能降低Mo-W-Si-N系涂层材料的热膨胀系数,当WSi2体积分数为6%时和Si3N4的体积分数为30%时复合涂层材料的热膨胀系数最接近于纯钼。3基于WSi2和Si3N4对Mo-W-Si-N复合材料的热膨胀系数的影响,制备了WSi2体积分数为6%,Si3N4的体积分数分别为4%、20%、30%和40%的钼基复合材料。含6%WSi2+30%Si3N4体积分数的复合材料具有最好的热震性能,证明该配比的复合材料与纯钼基体具有很好的热匹配性。
黄羽[5]（2016）在《基于Si高温扩散的Mo-W-Si-N系涂层钼材的研制》文中指出金属钼因高熔点、高的高温强度、良好的耐热和耐磨性、高的导电导热率和良好的耐蚀性等性能,常作为汽车玻璃生产的熔融电极。但钼电极在高温氧化环境下易生成挥发性的氧化物,导致钼的脆化和结构失效,严重影响了钼电极的使用寿命。MoSi2涂层是一种提高钼电极高温抗氧化性的有效措施,然而,在使用过程中,MoSi2涂层与钼基体会发生Si的扩散,降低了涂层钼电极的高温服役效果。因此,研究钼基体与MoSi2涂层间Si的扩散规律,探寻阻碍Si向钼基体扩散的有效方法,对于促进涂层钼电极的应用具有重要的理论意义和实用价值。本研究针对钼基MoSi2涂层在高温下,Si元素向钼基体扩散而导致涂层寿命降低的问题,通过放电等离子快速烧结法（SPS）制备了MoSi2-Si3N4/Mo和MoSi2-WSi2-Si3N4/Mo扩散副,在高温管式炉对扩散副进行等温时效扩散实验,利用X射线衍射（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）和能谱分析（EDS）等技术,探讨了Si在MoSi2-Si3N4/Mo和MoSi2-WSi2-Si3N4/Mo扩散副中的扩散规律,计算出Si在MoSi2-Si3N4/Mo和MoSi2-WSi2-Si3N4/Mo扩散副中的扩散系数和扩散激活能,分析了复合涂层中Si3N4相及W元素对Si扩散的阻碍作用,得出如下研究结果:球磨3h获得混合均匀的MoSi2-Si3N4和MoSi2-WSi2-Si3N4复合粉末,用SPS烧结MoSi2-Si3N4/Mo和MoSi2-WSi2-Si3N4/Mo扩散副的合理真空烧结工艺为升温速率60℃/min,1550℃保温10min,烧结压力25MPa,此烧结工艺制得的扩散副致密度范围在9395%之间,且无裂纹。运用菲克第一定律、抛物线生长定律和物质守恒定律研究了在1200-1500℃温度区间内,不同Si3N4和WSi2含量MoSi2-Si3N4/Mo和MoSi2-WSi2-Si3N4/Mo扩散副中间层Mo5Si3的生长动力学行为。WSi2的体积质量分数为5.0%时,MoSi2-WSi2-Si3N4/Mo扩散副中间层的生长速率常数kp值最小;Si3N4的体积质量分数3.5%时,MoSi2-Si3N4/Mo扩散副中间层的kp值最小。中间层Mo5Si3的形成机制有两种:（1）MoSi2相退化为富钼相Mo5Si3;（2）游离的Si与钼基体反应生成Mo5Si3。基于扩散理论计算出1200-1500℃温度区间内Si在MoSi2-3.5%vol.Si3N4/Mo和MoSi2-5.0%vol.WSi2-3.5%vol.Si3N4/Mo扩散副中的扩散激活能Q和扩散系数D,其扩散激活能分别为278±19 kJ/mol和316±23 kJ/mol,扩散系数可分别表达为1.28exp[（-278±19）/RT]cm2/s和5.64exp[（-316±23）/RT]cm2/s。Si在MoSi2-5.0%vol.WSi2-3.5%vol.Si3N4/Mo扩散副中的Q值比在MoSi2-3.5%vol.Si3N4/Mo扩散副中的Q值大38kJ/mol,且相同温度下D值更小,表明Si在添加有WSi2的扩散副中更难向钼基体扩散,W元素对钼基硅化物涂层中Si的扩散起到了阻碍作用。对比了纯MoSi2材料、MoSi2-3.5%vol.Si3N4复合材料和MoSi2-5.0%vol.WSi2-3.5%vol.Si3N4复合材料在1450℃大气环境下的高温抗氧化性能,三种材料在此环境氧化384h后的氧化速率K分别为0.065 g/（m2·h）、0.025 g/（m2·h）和0.017g/（m2·h）,都表现出优异的高温抗氧化性能。MoSi2-5.0%vol.WSi2-3.5%vol.Si3N4复合材料的高温抗氧化性能最优异,其次是MoSi2-3.5%vol.Si3N4复合材料,二者的高温抗氧化性能均优于纯MoSi2材料,表明Si3N4和WSi2相的引入有助于提高MoSi2基复合材料的高温抗氧化性能,且W元素的引入能达到更好的效果。
汤德志[6]（2014）在《钼合金表面涂层的制备及性能研究》文中研究表明摘要：钼作为一种难熔金属,在点光源、电子、发热元件以及玻璃加工工业等领域得到了广泛的应用。但金属钼抗氧化性能差的缺点,严重影响了其使用性能,限制了钼合金的应用范围。为提高钼制品的高温抗氧化性能,本文采用了两种不同的制备方法制备钼基体表面涂层。首先,本文采用磁控溅射技术在钼合金基表面涂覆不锈钢涂层,研究了原始表面粗糙度、负偏压与涂层成分、结构、结合强度及抗氧化性能的关系。其次,利用包渗法在钼基表面制备硅铝化物、硅化物与铝化物涂层。对涂层样品进行了750～1050℃静态氧化实验。探究包渗温度和包渗时间对涂层的厚度、横截面元素含量及其分布、显微形貌、物相及抗氧化性能的影响,着重研究硅铝化合物涂层高温氧化行为,初步建立了硅铝化物涂层在1000℃下静态氧化反应模型,得出以下结论：（1）采用磁控溅射技术在钼合金基体表面涂覆不锈钢涂层,研究发现在粗糙度为0.005μm的钼基体表面,基体负偏压-75V条件下,溅射半小时,可获得表面光滑、结合强度较高的不锈钢涂层。涂层在800℃下涂层样品单位氧化失重小于1.23mg/（cm2*h）,可有效防护玻璃窑炉钼电极的氧化。（2）选用包渗法在钼基体上涂覆硅铝系、硅系和铝系涂层。研究表明,包渗温度1000℃保温5小时的制备条件下,各系涂层厚度较大、组织致密、成分均匀、结合强度较好、抗氧化性能优良。在750～1050℃的静态氧化实验中,包渗温度1000℃保温5小时涂层具有相对较好的抗氧化性能。硅铝系涂层表面生成熔融态的Si02氧化膜和非熔融态的A1203氧化膜,具有较好的抗氧化性能；硅系涂层表面生成熔融态的Si02氧化膜,但低温（750～850℃）下硅系涂层表面由于Mo03挥发严重,破坏了8i02膜的完整性,导致硅系涂层低温（750-850℃）抗氧化性能差；铝系涂层在750～950℃的范围内具有较好的抗氧化性能,但在1050℃下涂层逐渐失效。（3）在1000℃、4h的静态抗氧化实验中,硅铝系涂层氧化增重曲线符合抛物线关系,4h后涂层增重0.524mg/（cm2*h）,涂层氧化性能良好。硅系涂层为氧化失重曲线,4h后涂层氧化失重值0.051mg/（cm2*h）；硅系涂层在1000℃下拥有较好的高温防护功能；铝系涂层在氧化开始阶段不断增重,4h后涂层失重,逐渐失效。（4）硅铝系涂层克服了低温（750～850℃）氧化环境下硅系涂层易“粉化”破坏的缺点,同时与铝系涂层相比,硅铝系涂层高温氧化寿命更长,抗氧化性能更好。图49幅,表10个,参考文献88篇。
张晓辉,宁远涛[7]（2013）在《玻璃工业用铂合金与复合材料》文中认为评述了各种铂材在玻璃工业中的应用和它们的主要特性。基于铂的高温化学性能和力学性能稳定性以及高的抗熔融玻璃浸润性,铂合金、铂复合材料和涂层材料成为制造高级玻璃和玻璃纤维的最佳高温结构材料。介绍和评述了玻璃工业用各种铂材,包括Pt、Pt固溶体合金（Pt-Rh、Pt-Rh-Au、Pt-Pd-Rh）、铂复合材料（颗粒弥散复合材料、层状复合材料和包覆复合材料）和先进铂涂层材料的特性和在玻璃工业中的具体应用。
杨芙蓉[8]（2011）在《钼合金及产品漫谈》文中研究说明金属钼自发现以来,其优良性能一直倍受青睐,经过200多年的不懈研究,被广泛应用于各个领域。钼的合金化采用固溶强化和弥散强化的途径来达到消除钼的室温脆性,提高高温强度的目的。目前常用的钼合金有Mo-Re、Mo-W系列,Mo-Ti-Zr-C、Mo-Hf-C、Mo-Hf-Zr-C系列,处于研究开发阶段的有Mo-W-Hf-C、Mo-W-Hf-Zr-C系列。稀土元素在钼中的添加应用异常活跃,也是目前开发研究的热点。同时,随着科技的进步,钼在航空航天、核工业等国防军工领域的广泛应用,使钼这一重要战略物资的价值更为突出,也因此被戏称为"战争金属"。在当前世界经济形式下,我国出台了钼资源开采限制政策,提高深加工产品比重,提升钼行业的附加值,使钼的新产品研究和工艺技术的加速发展成为必由之路。
谢能平[9]（2011）在《钼表面原位合成硅化物涂层的制备工艺与性能研究》文中进行了进一步梳理金属钼具有极高的熔点（2622℃）以及较好的耐磨性、抗腐蚀性和电热导性,常作为高温发热元件,但其在高温大气环境中表面形成易挥发的三氧化钼,因而钼仅能作为真空或保护气氛中的高温发热元件。二硅化钼因较高的熔点、抗热冲击性、良好的导热性和优异的高温抗氧化性能可作为难熔金属钼及其合金高温抗氧化涂层。但是,MoSi2的热膨胀系数(8.1×10-6K-1)与Mo的(5.8×10-6K-1)相差较大,MoSi2涂层与钼基体热膨胀系数不匹配易产生裂纹导致MoSi2涂层的高温循环氧化性能下降。N元素的引入可以改变硅化钼涂层的微观结构,提高涂层与基体的热匹配性能。含B的硅化物由于形成保护性的硼硅玻璃而具有很好的抗氧化性。因此,本文采用氨解法渗氮、熔盐法渗硅、渗硼制备了Mo-Si-N-B系硅化物涂层。探讨了熔盐成份、温度和保温时间等主要参数对Mo-Si-N-B系硅化物涂层的微观结构、物相组成及高温氧化性能的影响,并揭示其抗氧化机理,得出如下研究结果:1.熔盐法可制备钼基Mo-Si涂层。涂层微观结构从外至内分别为MoSi2、Mo5Si3和基体。活化剂对涂层厚度的影响较大,熔盐中Na2SiF6和NaF共存时,其活化作用更加明显。涂层厚度均随温度和保温时间的延长而增加,但温度比保温时间对涂层厚度的影响更显着。1000℃保温10小时制备的硅化钼涂层高温抗氧化性能较好,1200℃时循环氧化可持续100小时以上。2.采用氨解法渗氮、熔盐法渗硅可制备钼基Mo-Si-N涂层。涂层表层有MoSi2相和Si3N4相生成。钼基Mo-Si-N涂层的高温循环氧化性能优于钼基Mo-Si涂层的。渗氮1000℃保温2小时、流量200ml/min,再渗硅1000℃保温2小时制备的钼基Mo-Si-N涂层具有优异的高温抗氧化性能,1450℃循环氧化可持续78小时以上,高温1600℃循环氧化可持续48小时以上。3.采用熔盐法在钼基Mo-Si-N涂层上渗硼可制备钼基Mo-Si-N-B涂层。涂层表层生成了MoSi2相、Mo2B5相和Si3N4相。Mo-Si-N-B涂层高温1450℃时的氧化性能优异,氧化时间达100小时。4.钼基Mo-Si-N-B系涂层高温时生成的SiO2膜提高了涂层的高温抗氧化性能。钼基Mo-Si涂层中引入N元素提高了其致密性、引入B元素氧化生成了流动性较强的硼硅玻璃相。涂层氧化失效主要归因于温度升高,扩散反应加快,Mo5Si3厚度增加,高温抗氧化性降低,促进了MoO3等挥发物的生成,当氧化一定时间后,挥发物破坏了SiO2膜的致密性,导致涂层失效。
王智勇[10]（2010）在《钼基体表面氧化锆—玻璃抗氧化涂层的研究》文中进行了进一步梳理钼作为难熔金属,因具有熔点高,导电、导热性能优良,热膨胀系数低,耐玻璃液侵蚀能力强,易于进行机械加工等特性,因此在玻璃加工行业,钼是电熔炉中不可缺少的电极材料。但钼电极高温极易氧化,当温度大于600℃时,剧烈氧化生成极易挥发的MoO3,这使得钼电极在窑炉中的使用大大受到了限制。为提高钼电极的使用寿命,采用涂层保护技术能够有效防止其高温氧化。本文制备了一种ZrO2-Glass抗氧化涂层,能较好地防止钼电极在使用过程中氧化。该涂层是以钡硅酸盐玻璃为连续相,ZrO2为难熔填料,加入粘结剂和松油醇,配置成料浆,然后涂覆在钼基体表面,再经过烘干后制得。该方法具有制备工艺简单、成本低廉、保护效果显着等优点。本文在分析文献资料的基础上,从抗氧化涂层的基本要求和设计原则出发,根据氧化物的标准生成自由能与温度的关系,采用热力学计算多种氧化物在使用温度范围内的标准生成自由能,通过与MoO2生成的自由能比较,确定涂层玻璃粉料的组分。采用高温固相反应法制备基釉。在基釉制备过程中,探讨了材料组分、高温熔炼速度、熔体冷却速度、球磨时间等诸多因素的影响。根据涂层釉浆制备及涂覆工艺,确定了涂层制备工艺过程。试验研究发现,涂层在使用过程中受到主要成份及含量、热膨胀系数、铺展性、涂层制备升温过程等多种因素影响。通过DTA测试,该基釉组份的软化点低,能够在钼剧烈氧化前软化,高温致密性较高。根据SEM分析,发现该涂层的表面铺展性和与基体的粘结性均较好。但涂层与钼基体的热膨胀系数匹配性差导致涂层在冷却后发生裂纹和脱落,对涂层抗氧化效果影响最为严重。可通过加入适量具有良好抗高温氧化和稳定性的难熔物ZrO2,解决涂层与基体热膨胀系数匹配性问题。第四章研究了ZrO2的添加量对涂层的抗氧化效果的影响。通过添加10%,20%和30%的ZrO2,经过1000℃,2h抗氧化测试后,观察其表面形貌,结果发现:添加20%ZrO2的涂层,表面铺展平滑,浸润性较好,与基体结合紧密,气孔率低。根据热膨胀系数计算,该涂层的热膨胀系数值为7.4×10-6/℃,与钼基体(CTE为6.7×10-6/℃)的热膨胀系数失配值仅为4.34%。通过抗氧化测试分析得知,经过1000℃,2h抗氧化后,该试样的失重为31.13mg/cm2,比另两种涂层氧化失重均较少且保护效果显着。第五章重点研究了预烧工艺过程中影响涂层的抗氧化效果的两个重要因素:预烧时间和预烧温度。根据SEM和不同温度的抗氧化测试分析,在高温下通过有效控制预烧时间和预烧温度,可得到致密性更高,抗氧化效果更好的涂层。在1300℃,20min预烧后,涂层表面玻璃相连续,有效封闭了涂层的孔隙,阻止了氧气的进入。再经过1200℃,20h抗氧化测试后,试样氧化失重为83.89mg/cm2,说明涂层的长时间抗氧化性良好。采用本研究制备的抗氧化涂层可有效保护高温下钼基体的氧化,降低了钼的损失,具有重要的的实用意义。
二、钼材在玻璃工业中的应用（论文开题报告）
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
本文主要提出一款精简64位RISC处理器存储管理单元结构并详细分析其设计过程。在该MMU结构中,TLB采用叁个分离的TLB,TLB采用基于内容查找的相联存储器并行查找,支持粗粒度为64KB和细粒度为4KB两种页面大小,采用多级分层页表结构映射地址空间,并详细论述了四级页表转换过程,TLB结构组织等。该MMU结构将作为该处理器存储系统实现的一个重要组成部分。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
三、钼材在玻璃工业中的应用（论文提纲范文）
（1）钼钴合金的选区激光熔化工艺及氧化性能研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 选题的目的与意义 |
| 1.2 金属铝概述 |
| 1.2.1 钼的物理性质 |
| 1.2.2 铝的化学性质 |
| 1.2.3 钼资源分布 |
| 1.3 钼合金的分类与应用 |
| 1.3.1 钼合金的分类 |
| 1.3.2 钼合金的制备 |
| 1.3.3 钼合金的氧化 |
| 1.3.4 钼合金的应用 |
| 1.4 选区激光熔化技术概述 |
| 1.4.1 选区激光熔化技术原理 |
| 1.4.2 选区激光熔化成形设备 |
| 1.4.3 选区激光熔化成形的优势 |
| 1.5 选区激光熔化成形国内外研究现状 |
| 1.5.1 球化行为 |
| 1.5.2 成形缺陷 |
| 1.5.3 成形件的尺寸精度 |
| 1.5.4 组织演变规律 |
| 1.6 本文主要研究内容 |
| 第2章 实验材料及研究方法 |
| 2.1 实验材料及成分 |
| 2.1.1 成形金属粉末 |
| 2.1.2 成形基板材料 |
| 2.2 实验流程 |
| 2.3 实验设备 |
| 2.3.1 选区激光熔化成形设备 |
| 2.3.2 成形件测试设备及辅助设备 |
| 2.4 实验研究方法 |
| 2.4.1 材料组织测试 |
| 2.4.2 材料性能测试 |
| 2.5 本章小结 |
| 第3章 纯钼选区激光熔化成形工艺的优化 |
| 3.1 激光功率对成形过程的影响 |
| 3.2 扫描策略对成形过程的影响 |
| 3.3 铺粉厚度对成形过程的影响 |
| 3.4 扫描速度对成形过程的影响 |
| 3.5 扫描间距对成形过程的影响 |
| 3.6 本章小结 |
| 第4章 钼钴合金的组织及力学性能研究 |
| 4.1 金属粉末的混合 |
| 4.2 金相组织及X射线衍射分析 |
| 4.2.1 金相组织分析 |
| 4.2.2 成形件致密度分析 |
| 4.2.3 成形件硬度测试 |
| 4.2.4 X射线衍射分析 |
| 4.3 成形件压缩性能分析 |
| 4.3.1 压缩应力-应变曲线 |
| 4.3.2 压缩断口的显微形貌 |
| 4.4 本章小结 |
| 第5章 钼钴合金的高温氧化性能研究与热处理工艺 |
| 5.1 钴元素对钼基合金氧化性能的影响 |
| 5.1.1 钼基合金的高温氧化动力学 |
| 5.1.2 氧化层表面X射线衍射分析 |
| 5.1.3 氧化层表面形貌分析 |
| 5.1.4 氧化层截面形貌分析 |
| 5.2 Mo-6Co合金的热处理工艺 |
| 5.2.1 加热温度对合金材料组织的影响 |
| 5.2.2 热处理前后试样的X射线衍射分析 |
| 5.2.3 热处理后试样的EDS分析 |
| 5.2.4 热处理后试样的硬度变化 |
| 5.2.5 热处理后试样的压缩应力-应变曲线 |
| 5.3 本章小结 |
| 结论 |
| 参考文献 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文和取得的科研成果 |
| 致谢 |
（2）薄膜太阳能电池用关键基础材料制备技术研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 第一章 薄膜太阳能电池及其关键材料发展现状 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 薄膜太阳能电池发展历程及现状 |
| 1.2.1 非晶硅薄膜太阳能电池研究现状 |
| 1.2.2 CdTe薄膜太阳能电池研究现状 |
| 1.2.3 CIGS薄膜太阳能电池研究现状 |
| 1.3 薄膜太阳能电池用基板材料制备技术研究 |
| 1.3.1 薄膜太阳能电池玻璃的特性 |
| 1.3.2 薄膜太阳能电池玻璃基板的发展趋势 |
| 1.3.3 SiO_2-RO-R_2O系薄膜太阳能电池玻璃基板发展现状 |
| 1.3.4 R_2O-Al_2O_3-SiO_2系薄膜太阳能电池玻璃发展现状 |
| 1.3.5 B_2O_3-Al_2O_3-SiO_2系薄膜太阳能电池玻璃发展现状 |
| 1.4 薄膜太阳能电池用透明导电薄膜制备技术研究 |
| 1.4.1 氧化铟锡导电薄膜制备技术研究 |
| 1.4.2 氧化锌铝导电薄膜制备技术研究 |
| 1.4.3 氧化锌镓导电薄膜制备技术研究 |
| 1.5 本课题提出的意义 |
| 第二章 实验及实验方法 |
| 2.1 实验流程简介 |
| 2.1.1 玻璃基板实验室制备流程 |
| 2.1.2 玻璃基板工程化实验流程 |
| 2.1.3 透明导电膜实验制备流程 |
| 2.2 实验原料 |
| 2.2.1 实验原料来源 |
| 2.2.2 氧化物在玻璃基板中的作用 |
| 2.2.3 氧化物在导电薄膜中的作用 |
| 2.3 实验测试参数定义、测试方法及遵循标准 |
| 2.3.1 热学性能 |
| 2.3.2 力学性能 |
| 2.3.3 光学性能 |
| 2.3.4 电学性能 |
| 2.3.5 结构性能 |
| 2.3.6 化学稳定性测试 |
| 2.3.7 玻璃及薄膜组成测试 |
| 第三章 薄膜太阳能电池用玻璃基板制备及性能研究 |
| 3.1 SiO_2-RO-R_2O系高应变点玻璃基板熔制技术研究 |
| 3.1.1 SiO_2-RO-R_2O高应变点玻璃基板定义 |
| 3.1.2 实验思路 |
| 3.1.3 氧化物对SiO_2-RO-R_2O高应变点玻璃结构及性能影响 |
| 3.1.4 SiO_2-RO-R_2O系玻璃澄清过程及行为研究 |
| 3.1.5 主要工业原料对玻璃液熔化效果影响研究 |
| 3.1.6 小结 |
| 3.2 R_2O-Al_2O_3-SiO_2系玻璃制备技术研究 |
| 3.2.1 Al_2O_3对R_2O-Al_2O_3-SiO_2玻璃结构和性能的影响 |
| 3.2.2 B_2O_3对R_2O-Al_2O_3-SiO_2玻璃结构和性能的影响 |
| 3.2.3 R_2O-Al_2O_3-SiO_2系玻璃基板化学强化性能研究 |
| 3.2.4 小结 |
| 3.3 B_2O_3-Al_2O_3-SiO_2系玻璃熔制技术研究 |
| 3.3.1 碱土金属对B_2O_3-Al_2O_3-SiO_2玻璃性能的影响 |
| 3.3.2 GeO_2对B_2O_3-Al_2O_3-SiO_2玻璃性能的影响 |
| 3.3.3 ZrO_2对B_2O_3-Al_2O_3-SiO_2玻璃性能的影响研究 |
| 3.3.4 主要工业原料对玻璃熔化及物化性能影响研究 |
| 3.3.5 B_2O_3-Al_2O_3-SiO_2系玻璃基板澄清行为研究 |
| 3.3.6 小结 |
| 第四章 薄膜太阳能电池用透明导电膜制备及性能研究 |
| 4.1 氧化铟锡(ITO)透明导电薄膜制备工艺技术研究 |
| 4.1.1 衬底温度对ITO薄膜光电性能的影响 |
| 4.1.2 退火对ITO薄膜光电性能的影响 |
| 4.1.3 溅射功率对ITO薄膜光电性能的影响 |
| 4.1.4 氧分压对ITO薄膜光电性能的影响 |
| 4.1.5 小结 |
| 4.2 氧化锌铝(AZO)导电薄膜制备技术研究 |
| 4.2.1 AZO薄膜制备工艺实验设想 |
| 4.2.2 靶基距对直流射频耦合磁控溅射制备AZO薄膜性能影响 |
| 4.2.3 压强对直流射频耦合磁控溅射制备AZO薄膜性能影响 |
| 4.2.4 AZO导电薄膜损伤因素研究 |
| 4.2.5 绒面AZO导电薄膜制备技术研究 |
| 4.2.6 小结 |
| 4.3 氧化锌镓(GZO)导电薄膜制备技术研究 |
| 4.3.1 实验思路 |
| 4.3.2 直流磁控溅射功率对GZO薄膜结构和性能影响 |
| 4.3.3 直流射频耦合磁控溅射功率占比对GZO薄膜结构和性能影响 |
| 4.3.4 直流射频耦合磁控溅射压强对GZO薄膜结构和性能影响 |
| 4.3.5 小结 |
| 第五章 薄膜太阳能电池关键基础材料工业化实践与开发 |
| 5.1 SiO_2-RO-R_2O系玻璃基板工业化实践 |
| 5.1.1 SiO_2-RO-R_2O系玻璃规模化生产技术开发 |
| 5.1.2 成果技术水平及意义 |
| 5.2 R_2O-Al_2O_3-SiO_2系玻璃基板的工业化实践 |
| 5.2.1 R_2O-Al_2O_3-SiO_2系玻璃规模化生产技术开发 |
| 5.2.2 成果技术水平及意义 |
| 5.3 B_2O_3-Al_2O_3-SiO_2系玻璃的工业化设计 |
| 5.3.1 B_2O_3-Al_2O_3-SiO_2系玻璃的工业化熔窑设计简述 |
| 5.3.2 B_2O_3-Al_2O_3-SiO_2系玻璃生产线建设情况 |
| 5.4 ITO导电膜玻璃的工业化放大与实践 |
| 5.4.1 ITO导电膜市场现状 |
| 5.4.2 技术成果的工业化实践 |
| 5.4.3 ITO导电膜运用前景 |
| 5.5 AZO导电薄膜的工业化放大与实践 |
| 5.5.1 项目成果与既有工艺比较 |
| 5.5.2 实际使用情况 |
| 5.6 GZO透明导电膜工业化运用前景 |
| 结论 |
| 本文创新点 |
| 参考文献 |
| 攻读博士学位期间发表的论文 |
| 致谢 |
（3）氧化物颗粒弥散强化Pt-Rh合金及其焊接接头高温性能研究（论文提纲范文）
| 中文摘要 |
| 英文摘要 |
| 1 绪论 |
| 1.1 铂及其合金概述 |
| 1.1.1 铂的性质 |
| 1.1.2 铂及其合金的应用 |
| 1.2 铂合金的强化方式 |
| 1.2.1 固溶强化 |
| 1.2.2 弥散强化 |
| 1.3 铂合金的焊接技术及其应用 |
| 1.3.1 铂合金钎焊 |
| 1.3.2 铂合金熔化焊 |
| 1.3.3 铂合金激光焊 |
| 1.3.4 铂合金电阻焊 |
| 1.3.5 铂合金焊接技术的应用 |
| 1.4 课题研究的意义、内容及创新 |
| 1.4.1 课题研究的意义 |
| 1.4.2 课题研究的内容 |
| 1.4.3 课题研究创新 |
| 2 研究方法 |
| 2.1 研究技术路线 |
| 2.2 合金材料成分设计 |
| 2.3 合金试样制备 |
| 2.3.1 原材料 |
| 2.3.2 合金熔炼 |
| 2.3.3 合金粉末制备 |
| 2.3.4 内氧化-烧结及压制成形 |
| 2.3.5 氩弧焊接 |
| 2.4 合金服役性能测试方法 |
| 2.4.1 常温力学性能测试 |
| 2.4.2 高温蠕变性能测试 |
| 2.4.3 高温润湿性测试 |
| 2.5 合金表征方法 |
| 2.5.1 金相制备及显微观察 |
| 2.5.2 SEM观察及EDS分析 |
| 2.6 本章小结 |
| 3 Pt-20Rh-0.015Y-xZr合金及其焊接接头微观组织、室温力学性能 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 Pt-20Rh-0.015Y-xZr合金微观组织及力学性能 |
| 3.2.1 Pt-20Rh-0.015Y-xZr合金微观组织 |
| 3.2.2 Pt-20Rh-0.015Y-xZr合金室温力学性能 |
| 3.2.3 Pt-20Rh-0.015Y-xZr合金室温拉伸断口形貌 |
| 3.3 Pt-20Rh-0.015Y-xZr合金焊接接头微观组织及室温力学性能 |
| 3.3.1 Pt-20Rh-0.015Y-xZr合金焊接接头宏观形貌 |
| 3.3.2 Pt-20Rh-0.015Y-xZr合金焊接接头微观形貌 |
| 3.3.3 Pt-20Rh-0.015Y-xZr合金焊接接头室温力学性能 |
| 3.3.4 Pt-20Rh-0.015Y-xZr合金焊接接头室温拉伸断口形貌 |
| 3.4 本章小结 |
| 4 Pt-20Rh-0.015Y-xZr合金及其焊接接头高温蠕变性能 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 Pt-20Rh-0.015Y-xZr合金及其焊接接头高温蠕变持久时间 |
| 4.3 Pt-20Rh-0.015Y-xZr合金及其焊接接头高温蠕变断口形貌 |
| 4.3.1 Pt-20Rh-0.015Y-xZr合金高温蠕变断口形貌 |
| 4.3.2 Pt-20Rh-0.015Y-xZr合金焊接接头高温蠕变断口形貌 |
| 4.4 本章小结 |
| 5 Pt-20Rh-0.015Y-xZr合金高温高真空润湿性 |
| 5.1 引言 |
| 5.1.1 润湿性的表征及分类 |
| 5.1.2 润湿角的测量方法 |
| 5.2 Pt-20Rh-0.015Y-xZr合金高温高真空润湿性表征 |
| 5.3 本章小结 |
| 6 结论 |
| 致谢 |
| 参考文献 |
| 附录 |
| A 作者在攻读硕士学位期间发表的论文目录 |
（4）基于热匹配性的Mo-W-Si-N系涂层钼材的研制（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 金属钼的物理性质 |
| 1.3 钼的化学性质 |
| 1.4 钼的主要氧化物的性质 |
| 1.5 钼及其合金在高温环境下的应用 |
| 1.6 提高钼及其合金高温抗氧化性 |
| 1.6.1 钼的合金化技术 |
| 1.6.2 钼及合金的表面涂层技术 |
| 1.7 钼及钼合金高温抗氧化涂层的制备方法 |
| 1.7.1 化学气相沉积法 |
| 1.7.2 粉末包渗法 |
| 1.7.3 料浆烧结法 |
| 1.7.4 热喷涂法 |
| 1.7.5 熔盐法 |
| 1.8 本课题来源及研究意义 |
| 第二章 试验方案与设计 |
| 2.1 引言 |
| 2.2 实验总体方案设计 |
| 2.3 实验材料 |
| 2.4 实验主要设备 |
| 2.5 涂层材料的制备 |
| 2.5.1 原料的制备 |
| 2.5.2 涂层材料的制备 |
| 2.6 性能测试 |
| 2.6.1 烧结体致密度测试 |
| 2.6.2 热膨胀系数的测定 |
| 2.7 高温氧化实验 |
| 2.8 试样的组织结构表征 |
| 2.8.1 X射线衍射分析 |
| 2.8.2 扫描电子显微镜观察 |
| 第三章 Mo-W-Si-N涂层材料的制备 |
| 3.1 引言 |
| 3.1.1 Mo Si_2的制备 |
| 3.1.2 WSi_2的制备 |
| 3.2 Mo-W-Si-N涂层材料的制备 |
| 3.2.1 粒度对Mo-W-Si-N涂层材料的致密度的影响 |
| 3.2.2 粘结剂与压力对致密度的影响 |
| 3.2.3 烧结温度对致密度的影响 |
| 3.3 等离子烧结法制备不同N含量的Mo-W-Si-N涂层材料 |
| 3.4 烧结温度对涂层材料致密度的影响 |
| 3.5 保温时间对涂层材料致密度的影响 |
| 3.6 真空烧结和放电等离子烧结涂层材料的对比研究 |
| 3.7 小结 |
| 第四章 Mo-W-Si-N涂层材料与纯钼基体的热匹配性 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 不同W含量的Mo-W-Si-N涂层材料 |
| 4.3 不同Si_3N_4含量的Mo-W-Si-N涂层材料 |
| 4.4 不同WSi_2含量的Mo-W-Si-N涂层材料的热膨胀系数及变化机理 |
| 4.4.1 不同WSi_2含量的Mo-W-Si-N涂层材料的热膨胀系数 |
| 4.4.2 不同WSi_2含量的涂层材料热膨胀系数的变化分析 |
| 4.5 不同Si_3N_4含量的涂层材料的热膨胀系数及变化分析 |
| 4.6 小结 |
| 第五章 钼基Mo-W-Si-N涂层材料的热震性能 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 钼基Mo-W-Si-N涂层材料的制备 |
| 5.3 小结 |
| 第六章 结论与展望 |
| 6.1 结论 |
| 6.2 展望 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
| 个人简历 |
（5）基于Si高温扩散的Mo-W-Si-N系涂层钼材的研制（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 钼的应用与发展前景 |
| 1.2.1 钼的主要物理性质 |
| 1.2.2 钼在汽车工业中的应用与前景 |
| 1.3 钼基体表面涂层的研究现状 |
| 1.3.1 涂层体系的选择 |
| 1.3.2 涂层的制备工艺 |
| 1.3.3 MoSi_2涂层的氧化机理 |
| 1.4 二硅化钼基复合涂层 |
| 1.4.1 二硅化钼概述 |
| 1.4.2 二硅化钼的氧化性能 |
| 1.4.3 二硅化钼涂层的制备方法 |
| 1.4.4 二硅化钼作为涂层材料应用的限制 |
| 1.5 本文研究意义与主要研究内容 |
| 第2章 实验内容与方法 |
| 2.1 实验原材料与设备 |
| 2.1.1 实验原料 |
| 2.1.2 主要实验设备 |
| 2.2 实验方法 |
| 2.2.1 技术路线 |
| 2.2.2 扩散副的制备 |
| 2.2.3 相对密度的测试 |
| 2.2.4 等温时效扩散实验 |
| 2.2.5 高温氧化实验 |
| 2.2.6 材料成分及组织结构分析 |
| 第3章 MoSi_2-Si_3N_4/Mo和MoSi_2-WSi_2-Si_3N_4/Mo扩散副的制备与性能 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 MoSi_2-Si_3N_4和MoSi_2-WSi_2-Si_3N_4复合粉末的制备 |
| 3.2.1 MoSi_2-Si_3N_4复合粉末的制备 |
| 3.2.2 MoSi_2-WSi_2-Si_3N_4复合粉末的制备 |
| 3.3 MoSi_2-Si_3N_4/Mo和MoSi_2-WSi_2-Si_3N_4/Mo扩散副的制备与性能 |
| 3.3.1 烧结温度对扩散副致密度的影响 |
| 3.3.2 保温时间对扩散副致密度的影响 |
| 3.3.3 烧结压力对扩散副致密度的影响 |
| 3.4 本章小结 |
| 第4章 Si在MoSi_2-Si_3N_4复合涂层中的高温扩散研究 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 MoSi_2-Si_3N_4/Mo扩散副的SEM分析 |
| 4.2.1 MoSi_2-Si_3N_4复合材料表面的SEM分析 |
| 4.2.2 MoSi_2-Si_3N_4/Mo扩散副截面的SEM分析 |
| 4.3 MoSi_2-Si_3N_4/Mo扩散副中间层硅化物的生长动力学 |
| 4.3.1 Si在MoSi_2-Si_3N_4/Mo扩散副中间层的扩散模型 |
| 4.3.2 MoSi_2-Si_3N_4/Mo扩散副中间层硅化物的生长动力学 |
| 4.3.3 Si扩散系数和扩散激活能的计算 |
| 4.4 本章小结 |
| 第5章 Si在钼基Mo-W-Si-N系复合涂层中的高温扩散研究 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 MoSi_2-WSi_2-Si_3N_4/Mo扩散副的SEM分析 |
| 5.2.1 MoSi_2-WSi_2-Si_3N_4复合材料表面的SEM分析 |
| 5.2.2 MoSi_2-WSi_2-Si_3N_4/Mo扩散副截面的SEM分析 |
| 5.3 MoSi_2-WSi_2-Si_3N_4/Mo扩散副中间层硅化物的生长动力学 |
| 5.3.1 MoSi_2-WSi_2-Si_3N_4/Mo扩散副中间层硅化物的生长动力学 |
| 5.3.2 Si扩散系数和扩散激活能的计算 |
| 5.4 (Mo,W)Si_2-Si_3N_4复合材料在 1450℃下的高温氧化性能 |
| 5.5 本章小结 |
| 结论与展望 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
| 个人简历 |
（6）钼合金表面涂层的制备及性能研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 1 绪论 |
| 1.1 前言 |
| 1.2 钼电极的应用与发展前景 |
| 1.3 国内外钼基涂层的研究现状 |
| 1.3.1 金属镀层 |
| 1.3.2 铝化物涂层 |
| 1.3.3 硅化物涂层 |
| 1.3.4 氧化物涂层 |
| 1.4 钼合金涂层的制备方法 |
| 1.4.1 化学气相沉积 |
| 1.4.2 热喷涂 |
| 1.4.3 包渗法 |
| 1.4.4 料浆法 |
| 1.4.5 溶胶-凝胶 |
| 1.5 涂层的工作原理及失效形式 |
| 1.5.1 高温抗氧化涂层的工作原理 |
| 1.5.2 高温抗氧化涂层的失效形式 |
| 1.6 课题研究意义及主要内容 |
| 2 实验内容及方法 |
| 2.1 合金基体及涂层体系的确定 |
| 2.1.1 合金基体的选择 |
| 2.1.2 涂层体系的确定 |
| 2.2 涂层的制备 |
| 2.2.1 涂层的制备工艺流程 |
| 2.2.2 磁控溅射涂层的制备 |
| 2.2.3 包渗涂层的制备 |
| 2.3 涂层抗氧化性能测试 |
| 2.3.1 抗氧化性能分析 |
| 2.3.2 原子力显微镜 |
| 2.3.3 纳米压痕仪 |
| 2.3.4 扫描电镜 |
| 2.3.5 X-ray衍射(XRD)分析 |
| 2.3.6 能谱(EDS)分析 |
| 3 磁控溅射涂层制备及其性能研究 |
| 3.1 涂层的基本性能 |
| 3.2 涂层物相分析 |
| 3.3 涂层形貌分析 |
| 3.3.1 涂层表面形貌分析 |
| 3.3.2 涂层横截面分析 |
| 3.3.3 纳米硬度与弹性模量 |
| 3.3.4 涂层结合强度 |
| 3.3.5 涂层的抗氧化性能 |
| 3.4 结论 |
| 4 包渗温度对涂层性能影响研究 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 温度对涂层厚度的影响 |
| 4.3 温度对涂层成分分布的影响 |
| 4.4 温度对涂层组织形貌的影响 |
| 4.5 温度对涂层抗氧化性能的影响 |
| 4.6 本章小结 |
| 5 包渗时间对涂层性能影响及涂层抗氧化性能的研究 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 时间对涂层厚度的影响 |
| 5.3 保温时间对涂层成分分布及横截面组织形貌的影响 |
| 5.4 保温时间对涂层抗氧化性能的影响 |
| 5.5 掺杂铝对硅系涂层低温“粉化”的影响 |
| 5.6 1000℃静态抗氧化实验 |
| 5.6.1 硅铝系涂层 |
| 5.6.2 硅系涂层 |
| 5.6.3 铝系涂层 |
| 5.7 本章小结 |
| 6 结论 |
| 参考文献 |
| 攻读学位期间主要的研究成果 |
| 致谢 |
（7）玻璃工业用铂合金与复合材料（论文提纲范文）
| 1 铂材料在玻璃工业中的应用 |
| 2 对玻璃工业用铂材料的基本要求 |
| 3 玻璃工业用Pt合金 |
| 3.1 Pt与Pt-Rh合金 |
| 3.2 Pt-Rh-Au合金 |
| 3.3 Pt-Pd-Rh合金 |
| 4 玻璃工业用Pt合金复合材料 |
| 4.1 弥散强化Pt与Pt-Rh合金 |
| 4.2 Pt与Pt合金包覆复合材料 |
| 4.2.1 Pt/氧化物阻挡层/Mo (Mo合金) 复合材料 |
| 4.2.2 Pt合金/Pt合金“扩散阀”层/ODS-Fe (或Ni) 合金复合材料 |
| 4.3 Pt与Pt合金层状复合材料 |
| 5 先进Pt与Pt合金涂层材料 |
| 5.1 Pt (Pt合金) 基体上涂覆陶瓷 |
| 5.2 陶瓷基体上涂覆Pt和Pt合金 |
（9）钼表面原位合成硅化物涂层的制备工艺与性能研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 钼的基本性质 |
| 1.2.1 钼的物理性质 |
| 1.2.2 钼的化学性质 |
| 1.2.3 钼的氧化行为 |
| 1.3 难熔金属硅化物及其抗氧化涂层 |
| 1.4 硅化物高温防护涂层的研究进展 |
| 1.4.1 Al-Si 涂层 |
| 1.4.2 Mo-Si 涂层 |
| 1.4.3 Mo-Si-B 三元硅化物 |
| 1.4.4 其他硅化物涂层 |
| 1.5 高温防护涂层的制备方法 |
| 1.6 高温氧化腐蚀 |
| 1.7 课题来源、研究意义及研究内容 |
| 1.7.1 课题来源及研究意义 |
| 1.7.2 主要研究内容 |
| 第二章 实验方法 |
| 2.1 引言 |
| 2.2 实验材料及实验设备 |
| 2.2.1 实验材料 |
| 2.2.2 试样制备 |
| 2.2.3 实验设备 |
| 2.3 实验方案及技术路线 |
| 2.3.1 实验方案 |
| 2.3.2 技术路线 |
| 2.4 微观形貌与结构表征 |
| 2.4.1 X 射线分析 |
| 2.4.2 SEM 分析 |
| 2.4.3 EDS 能谱分析 |
| 第三章 Mo-Si 涂层的制备与性能 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 活化剂对Mo-Si 涂层的影响 |
| 3.3 温度对Mo-Si 涂层的影响 |
| 3.4 保温时间对Mo-Si 涂层的影响 |
| 3.5 Mo-Si 涂层高温氧化性能及氧化机理 |
| 3.6 本章小结 |
| 第四章 Mo-Si-N 涂层的制备与性能 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 Mo-Si-N 涂层的制备 |
| 4.2.1 温度对Mo-N 涂层的影响 |
| 4.2.2 保温时间对Mo-N 涂层的影响 |
| 4.2.3 流量对Mo-N 涂层的影响 |
| 4.2.4 温度对Mo-Si-N 涂层的影响 |
| 4.2.5 保温时间对Mo-Si-N 涂层的影响 |
| 4.3 Mo-Si-N 涂层高温氧化性能及氧化机理 |
| 4.4 本章小结 |
| 第五章 Mo-Si-N-B 涂层的制备与性能 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 Mo-Si-N-B 涂层的显微结构及物相组成 |
| 5.3 Mo-Si-N-B 涂层高温氧化性能及氧化机理 |
| 5.4 本章小结 |
| 第六章 结论与展望 |
| 6.1 结论 |
| 6.2 展望 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
| 附录A： 攻读硕士期间发表的研究成果 |
（10）钼基体表面氧化锆—玻璃抗氧化涂层的研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 第一章 文献综述 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 钼电极的发展与应用现状 |
| 1.2.1 钼电极的发展 |
| 1.2.2 钼电极的应用现状 |
| 1.3 国内外抗氧化涂层研究现状 |
| 1.3.1 包镀金属涂层 |
| 1.3.2 电镀金属涂层 |
| 1.3.3 喷涂金属涂层 |
| 1.3.4 熔烧涂层 |
| 1.3.5 用热扩散方法形成的硅化物涂层 |
| 1.3.6 MoSi_2基涂层 |
| 1.3.7 氧化物涂层 |
| 1.4 抗氧化涂层的制备方法 |
| 1.5 高温抗氧化涂层的作用机理与基本要求 |
| 1.5.1 抗氧化涂层的作用机理 |
| 1.5.2 抗氧化涂层的设计原则 |
| 1.6 选题的背景和意义 |
| 1.7 本文的研究路线和主要内容 |
| 第二章 实验 |
| 2.1 实验材料和设备 |
| 2.1.1 实验材料 |
| 2.1.2 实验设备 |
| 2.2 分析检测 |
| 2.2.1 玻璃粉料软化点测试 |
| 2.2.2 抗氧化性能分析 |
| 2.2.3 能谱(EDS)分析 |
| 2.2.4 扫描电镜(SEM)分析 |
| 2.2.5 X-ray衍射(XRD)分析 |
| 2.3 涂层的设计 |
| 2.4 涂层组分的选择 |
| 2.4.1 基釉组分的选择 |
| 2.4.2 热力学计算数据 |
| 第三章 玻璃基抗氧化涂层的制备及探讨 |
| 3.1 基釉的制备过程 |
| 3.1.1 高温熔炼过程的讨论 |
| 3.1.2 熔体的冷却过程 |
| 3.1.3 球磨时间的讨论 |
| 3.2 调墨油的制备 |
| 3.3 玻璃基涂层釉浆的的制备流程及方法 |
| 3.4 玻璃基涂层的使用过程 |
| 3.4.1 玻璃基涂层组元的作用 |
| 3.4.2 玻璃基涂层的致密化过程 |
| 3.5 影响玻璃基涂层使用的因素 |
| 3.5.1 热膨胀系数匹配性 |
| 3.5.2 铺展性 |
| 3.5.3 玻璃基涂层使用升温过程 |
| 3.6 涂层与基体的结合 |
| 本章小结 |
| 第四章 ZrO_2对玻璃基涂层抗氧化效果的影响 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 涂层的氧化及抗氧化机理 |
| 4.3 基釉的基本性质 |
| 4.4 ZrO_2对涂层性能的影响研究 |
| 4.4.1 ZrO_2对涂层使用的影响 |
| 4.4.2 ZrO_2对热膨胀系数的影响 |
| 4.4.3 ZrO_2对涂层的抗氧化效果 |
| 4.5 涂层厚度对抗氧化效果的影响 |
| 4.6 本章小结 |
| 第五章 预烧对ZrO_2-GLASS涂层的抗氧化效果的影响 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 预烧工艺探讨 |
| 5.2.1 液相烧结致密化过程 |
| 5.2.2 涂层的液相烧结 |
| 5.3 预烧工艺的确定 |
| 5.4 预烧时间对ZrO_2-Glass抗氧化效果的影响 |
| 5.4.1 预烧时间对ZrO_2-Glass涂层形成的影响 |
| 5.4.2 预烧时间对ZrO_2-Glass涂层抗氧化效果的影响 |
| 5.5 预烧温度对ZrO_2-Glass涂层抗氧化效果的影响 |
| 5.5.1 预烧温度对ZrO_2-Glass涂层形成的影响 |
| 5.5.2 预烧温度对ZrO_2-Glass涂层抗氧化效果的影响 |
| 5.6 ZrO_2-Glass涂层保护功能的评价 |
| 5.6.1 ZrO_2-Glass涂层抗氧化性能测试 |
| 5.6.2 扫描电镜(SEM)分析 |
| 5.6.3 X-ray衍射(XRD)分析 |
| 5.7 本章小结 |
| 第六章 总结与展望 |
| 6.1 工作总结 |
| 6.2 展望 |
| 参考文献 |
| 攻读硕士期间发表的文章及所获奖励 |
| 1 学术期刊 |
| 2 申请专利 |
| 3 所获奖励 |
| 致谢 |
四、钼材在玻璃工业中的应用（论文参考文献）
- [1]钼钴合金的选区激光熔化工艺及氧化性能研究[D]. 张驰. 哈尔滨工程大学, 2019(04)
- [2]薄膜太阳能电池用关键基础材料制备技术研究[D]. 曹欣. 大连交通大学, 2019(08)
- [3]氧化物颗粒弥散强化Pt-Rh合金及其焊接接头高温性能研究[D]. 代禹. 重庆大学, 2018(04)
- [4]基于热匹配性的Mo-W-Si-N系涂层钼材的研制[D]. 吕建先. 厦门理工学院, 2016(01)
- [5]基于Si高温扩散的Mo-W-Si-N系涂层钼材的研制[D]. 黄羽. 厦门理工学院, 2016(11)
- [6]钼合金表面涂层的制备及性能研究[D]. 汤德志. 中南大学, 2014(02)
- [7]玻璃工业用铂合金与复合材料[J]. 张晓辉,宁远涛. 贵金属, 2013(03)
- [8]钼合金及产品漫谈[J]. 杨芙蓉. 金属世界, 2011(05)
- [9]钼表面原位合成硅化物涂层的制备工艺与性能研究[D]. 谢能平. 湖南科技大学, 2011(05)
- [10]钼基体表面氧化锆—玻璃抗氧化涂层的研究[D]. 王智勇. 东华大学, 2010(08)