论文摘要
介绍了原子层沉积技术的原理和特点,并对比传统物理及化学气相沉积薄膜制备工艺,总结了原子层沉积技术在含能材料合成及表面修饰改性方面所具有的薄膜厚度精确可控、工作温度低和大面积及三维均匀性方面的优势。综述了原子层沉积技术在亚稳态分子间复合物合成,降低金属粉和炸药感度,以及提高铝粉、氢化铝和ADN稳定性等方面的研究进展。评述了原子层沉积技术在含能材料精确合成及表面修饰中的主要作用及未来发展方向。附参考文献29篇。
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文章来源
类型: 期刊论文
作者: 秦利军,龚婷,闫宁,李建国,惠龙飞,郝海霞,冯昊
关键词: 应用化学,原子层沉积,分子层沉积,含能材料,表面性质,表面修饰
来源: 火炸药学报 2019年05期
年度: 2019
分类: 工程科技Ⅱ辑,工程科技Ⅰ辑
专业: 材料科学
单位: 西安近代化学研究所,西安近代化学研究所燃烧与爆炸技术重点实验室
基金: 装备预研重点实验室基金项目
分类号: TB34
DOI: 10.14077/j.issn.1007-7812.2019.05.001
页码: 425-431
总页数: 7
文件大小: 1553K
下载量: 163
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