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辉光放电质谱法在高纯材料分析中的应用

论文摘要

高纯材料是现代高新技术发展的基础,在电子、光学和光电子等尖端科学领域发挥着重要作用。采用固体样品直接分析的辉光放电质谱法(GDMS),在高纯金属、高纯半导体材料的痕量和超痕量杂质分析中有着非常广泛的应用。综述了GDMS法对高纯金属、高纯半导体材料进行的元素分析,并对分析过程中工作参数、溅射时间、干扰峰等因素的影响进行了阐述。同时,也详述了应用GDMS法对高纯金属钛、镉,高纯半导体硅,分别进行的痕量杂质元素分析,结果显示放电稳定性良好,典型元素含量的相对标准偏差均在较为理想范围内。GDMS应用前景广泛,未来,GDMS将在除固体样品之外的其他样品类型的分析领域中发挥重要作用。

论文目录

  • 前言
  • 1 GDMS法对高纯金属材料的分析与应用
  •   1.1 高纯铝
  •   1.2 高纯铪
  •   1.3 高纯钽
  •   1.4 高纯镍
  •   1.5 高纯铜
  •   1.6 高纯镉及高纯钛
  • 2 GDMS对半导体材料的分析与应用
  •   2.1 高纯半导体材料
  •   2.2 高纯硅材料
  • 3 结论与展望

    • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 王爽,白杉,徐平,王树英,郭雅尘,左文家,张腾月,周渊名,梁雪松,洪梅

    关键词: 辉光放电质谱法,高纯金属,高纯半导体,应用

    来源: 中国无机分析化学 2019年02期

    年度: 2019

    分类: 工程科技Ⅰ辑

    专业: 化学,材料科学

    单位: 锦州市产品质量监督检验所国家光伏材料质量监督检验中心,北京大学化学生物学与生物技术学院

    基金: 国家自然科学基金(21671010),深圳市孔雀技术创新项目(KQCX2015032709315529)

    分类号: O657.63;TB302

    页码: 24-34

    总页数: 11

    文件大小: 405K

    下载量: 191

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    本文来源: https://www.lunwen66.cn/article/05d1b0477d48c197635e4709.html