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苯并三氮唑对变压器绕组硫腐蚀抑制机理的分子模拟研究

论文摘要

硫腐蚀现象对变压器绝缘性能的破坏不容忽视,其中腐蚀性硫化物与铜绕组作用产生的硫化亚铜是导致绝缘性能降低的一个重要原因.在变压器内部无氧和有氧的情况下,硫化亚铜的生成主要是因为腐蚀性硫化物与铜或者与氧化亚铜发生了一系列反应.为深入研究铜缓蚀剂苯并三氮唑(BTA)对铜绕组的缓蚀机理,采用分子模拟技术分析了BTA分子与铜晶体的电荷密度分布和态密度分布;同时利用过渡态搜索、红外光谱研究了BTA分子与氧化亚铜的反应过程.结果表明:加入BTA分子前后的铜表面态密度分布发生了变化,并且利用电荷密度分布图说明BTA分子与铜晶体形成了配位键;同时分析了BTA与氧化亚铜反应前后红外光谱的差异,发现BTA分子的结构已发生改变,与氧化亚铜形成了共价键.以上模拟结果说明BTA分子对铜和氧化亚铜有保护作用,能够抑制腐蚀性硫化物对铜绕组的腐蚀.

论文目录

  • 1 引 言
  • 2 模型构建与模拟细节
  •   2.1 Cu晶体与苯并三氮唑模型构建及模拟细节
  •   2.2 模拟Cu2O与苯并三氮唑反应及其细节
  • 3 仿真结果分析
  •   3.1 BTA分子与Cu表面仿真结果及其分析
  •   3.2 Cu2O与BTA反应的仿真结果及其分析
  • 4 结 论

    • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 李亚莎,刘志鹏,谢云龙,黄太焕,王成江

    关键词: 分子模拟,硫腐蚀,苯并三氮唑,变压器

    来源: 原子与分子物理学报 2019年01期

    年度: 2019

    分类: 基础科学,工程科技Ⅱ辑

    专业: 电力工业

    单位: 三峡大学电气与新能源学院

    基金: 国家自然科学基金(51577105)

    分类号: TM40

    页码: 38-43

    总页数: 6

    文件大小: 1024K

    下载量: 121

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    本文来源: https://www.lunwen66.cn/article/0cf6a1683b6beadb50d6ed4f.html