含硅基、芴基的空穴材料制备与结构表征

论文摘要

以三苯基氯硅烷、对溴碘苯、对氯苯硼酸、N-（4-联苯基）-9,9-二甲基-2-氨基芴等为原料通过低温加成、Suzuki偶联及乌尔曼反应合成了含有硅、芴结构的空穴材料。在乌尔曼反应中,通过对Pd催化剂用量的考察,确定了乌尔曼反应催化剂的最低用量为千分之一当量;目标化合物通过热性质分析,确定目标化合物热分解温度为436℃;通过紫外-可见光谱分析,确定目标化合物紫外最大吸收波长为361nm,根据其最大吸收波长（361nm）,由光学带隙能公式,得出目标化合物的光学带隙为3.45e V。

论文目录

前言

1 实验

1.1 试剂及药品

1.2 仪器

1.3 合成

1.3.1 4-溴苯基三苯基硅烷合成

1.3.2 （4′-氯- （1, 1′-联苯） -4-基）三苯基硅烷合成

1.3.3 N- （[1, 1′-联苯]-4-基） -9, 9-二甲基-N- （4′-三苯基硅基） -[1, 1′-联苯]-4-基) -2-氨基芴（HTFSi）合成

2 结果与讨论

2.1 催化剂用量对反应的影响

2.2 热稳定性分析

2.3 紫外-可见吸收光谱

3 结论

文章来源

类型: 期刊论文

作者: 杨杰,吕宏飞,白雪峰,吴绵园,梅立鑫,刘洋

关键词: 空穴材料,三苯基氯硅烷

来源: 化学与粘合 2019年04期

年度: 2019

分类: 工程科技Ⅰ辑,信息科技

专业: 有机化工,无线电电子学

单位: 黑龙江省科学院石油化学研究院

基金: 黑龙江省科学院科学研究基金

分类号: TQ264.1;TN312.8

页码: 282-284

总页数: 3

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含硅基、芴基的空穴材料制备与结构表征

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