从碱性NH4OH/NH4Cl缓冲溶液中电沉积镍（英文）

论文摘要

采用循环伏安、计时电势、计时电流以及光学数码显微镜、辉光放电光谱（GD-OES）、X射线荧光光谱分析（XRF）、扫描电镜能谱（SEM-EDS）等技术,研究碱性NH4OH/NH4Cl缓冲溶液中镍在钢和铜上的电沉积,目的是从弱碱性溶液中获得镍镀层,并优化工艺过程。以镍镀层质量为指标,对电解液组成、pH、温度、电流、电势等工艺参数进行优化。讨论析氢在电沉积过程中的作用,并研究Co作为添加剂的影响。发现少量的Co可以催化Ni沉积过程、改善镀层的质量和颜色。因此,在可能的应用中,应认真考虑Ni/Co共沉积。研究还表明,对于恒电流沉积模式,镀层的质量与极化电势区间的宽度有关,此电势区间宽度由计时电势曲线E=f（t）在沉积过程刚开始时的部分确定。

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文章来源

类型: 期刊论文

作者: Piotr M.SKITA?,Przemys?aw T.SANECKI,Dorota SALETNIK,Jan KALEMBKIEWICZ

关键词: 电沉积,氨缓冲溶液

来源: Transactions of Nonferrous Metals Society of China 2019年01期

年度: 2019

分类: 工程科技Ⅰ辑,工程科技Ⅱ辑

专业: 无机化工,电力工业

单位: Faculty of Chemistry, Rzeszów University of Technology

分类号: TQ153

页码: 222-232

总页数: 11

文件大小: 2799K

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本文来源: https://www.lunwen66.cn/article/5299d85e25998eef35a266e5.html