Print

等离子体处理对含脏污界面结合性能的影响

论文摘要

应用低温等离子体射流处理表面含脏污的室温硫化硅橡胶(RTV)表面,以解决复涂时表面脏污导致新旧涂层结合性能下降的问题。用漆膜附着力测定法和溶胀实验评价等离子体射流对染污RTV复涂粘合性能的影响,并通过电镜观察涂层截面。采用傅里叶变换红外光谱法和等离子体发射光谱分析等离子体射流影响染污RTV结合性能的原因。研究发现,低温等离子体能够提升染污RTV新旧涂层的粘合牢度,表现为提升了新涂层漆膜附着力测定法等级,抑制了溶胀现象,涂层之间的分界减弱。等离子体射流含有的高能粒子可能促进了硅氧烷小分子迁移至染污RTV表面,推测是促进涂层交联的重要原因。

论文目录

  • 0引言
  • 1 实验装备及方法
  •   1.1 实验装备
  •   1.2 评价方法
  • 2 等离子体射流对染污RTV复涂性能的处理效果
  •   2.1 漆膜附着力测定法评价染污RTV复涂附着力
  •   2.2 溶胀实验评价染污RTV复涂粘合效果
  •   2.3 染污RTV复涂截断面电镜分析
  • 3 等离子体射流改善染污RTV界面结合性能的初步机理分析
  • 4 结论

    • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 张若兵,孙丹,李爽

    关键词: 硅橡胶,结合性能,复涂,附着力,等离子体射流

    来源: 高电压技术 2019年12期

    年度: 2019

    分类: 工程科技Ⅱ辑

    专业: 电力工业

    单位: 清华大学深圳研究生院

    基金: 国家自然科学基金(51677105),深圳市基础研究(学科布局)项目(JCYJ20180508152057527)~~

    分类号: TM216

    DOI: 10.13336/j.1003-6520.hve.20191125040

    页码: 4108-4114

    总页数: 7

    文件大小: 1944K

    下载量: 106

    相关论文文献

    本文来源: https://www.lunwen66.cn/article/5a96abca6d9862d352c58c96.html