铌酸锂晶体的研磨损伤层研究

研究了铌酸锂晶体在研磨过程中产生的表面损伤层。首先通过激光共聚焦显微镜观察了研磨后晶体的表面形貌,通过原子力显微镜测试了研磨后晶体表面的粗糙度,分别通过角度抛光法及直接抛光层层去除的方法测量了损伤层的深度。分析了损伤层的组成及影响因素,对优化研磨工艺参数、提高研磨效率具有指导意义。

1 引言

2 实验

2.1 样品制备

2.2 表面形貌观测

2.3 角度抛光法

2.4 直接抛光法

3 结果与讨论

3.1 LN晶体研磨面形貌

3.2 角度抛光法测试结果

3.3 直接抛光去除损伤层

4 结论

类型: 期刊论文

作者: 李清连,孙军,吴婧,张玲,许京军

关键词: 铌酸锂晶体,研磨,损伤层

来源: 人工晶体学报 2019年05期

年度: 2019

分类: 基础科学,工程科技Ⅰ辑

专业: 化学

单位: 南开大学物理科学学院,南开大学教育部弱光非线性光子学重点实验室,山西大学极端光学协同创新中心

基金: 国家自然科学基金(61575099)

分类号: O786;O614.111

DOI: 10.16553/j.cnki.issn1000-985x.2019.05.018

页码: 883-888

总页数: 6

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