浅谈电子级多晶硅的清洗工艺

表金属杂质含量是电子级多晶硅一项重要的质量指标,目前电子级多晶硅在降低表面金属杂质含量的除杂技术上主要以酸清洗为主,通过不同程度的表面刻蚀将表金属杂质控制在较低水平。文章主要对电子级多晶硅料化学清洗工艺,尤其从电子级多晶硅表金属控制中清洗液的选择方面进行相关的论述。

1 污染物类别

2 电子级多晶硅清洗工艺

3 硅料清洗常见方法和清洗液选用

3.1 硅料清洗常见方法

3.2 硅料预清洗中清洗液选用

3.3 硅料酸洗中清洗液选用和清洗原理

3.4 硅料水洗中清洗液的选用

4 结语

类型: 期刊论文

作者: 安生虎,陈叮琳

关键词: 电子级多晶硅,清洗,杂质

来源: 智能城市 2019年23期

年度: 2019

分类: 信息科技,经济与管理科学

专业: 无线电电子学

单位: 青海黄河水电公司新能源分公司青海省新能源材料与技术重点实验室

分类号: TN305

DOI: 10.19301/j.cnki.zncs.2019.23.069

页码: 126-127

总页数: 2

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