掺铝ZnO透明导电膜动态制备及性能研究

论文摘要

采用射频磁控溅射法在玻璃上动态制备高质量的掺铝ZnO（AZO）透明导电膜,研究了动态沉积条件下AZO薄膜的膜厚和电阻率均匀性,以及溅射气压对AZO薄膜结构和光电性能的影响。结果表明:在动态沉积模式下,获得了具有优良膜厚和电阻率均匀性;AZO薄膜在400～800 nm波长范围内的平均透过率高于90%;同时随着溅射气压的增加,晶粒尺寸从47.8 nm逐渐减小到41.4 nm,禁带宽度从3.46 eV逐渐降低到3.40 eV,电阻率先降低后上升,在0.5 Pa时电阻率为最低值1.5×10-3Ω·cm。

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文章来源

类型: 期刊论文

作者: 周洪彪,肖昕,袁昭岚

关键词: 薄膜,射频磁控溅射,动态沉积,溅射气压

来源: 电子工业专用设备 2019年04期

年度: 2019

分类: 信息科技,工程科技Ⅰ辑

专业: 材料科学

单位: 中国电子科技集团公司第四十八研究所,湖南红太阳新能源科技有限公司

分类号: TB383.1;TB306

页码: 32-36

总页数: 5

文件大小: 2038K

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本文来源: https://www.lunwen66.cn/article/86746c92ced10582e7170037.html