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金属掺杂氮化钨薄膜的制备及其特性研究

论文摘要

氮化钨（W2N）薄膜是具有优异机械性能的硬质过渡金属氮化物,在保护涂层、扩散势垒层等领域具有广泛的应用。本文采用磁控溅射法,分别在Si（100）、A304不锈钢衬底上成功制备了结晶良好的W2N薄膜。为了改善W2N薄膜的力学和摩擦学性能,采用射频和直流共溅射方法制备了软质金属Y和硬质金属Cr共掺杂的W2N（Y-Cr:W2N）薄膜。在掺杂功率为30 W时,具有硬度最大值为23.71GPa,此时样品的弹性模量为256.34 GPa。平均摩擦学系数也有所降低。在掺杂功率为20W时薄膜具有最小的磨损率为2.062×10-6 mm3/Nmm。表明随着金属Y-Cr的掺入,薄膜的力学和摩擦学性能有了很大的改善。

论文目录

  • 一、引言
  • 二、实验
  • 三、结果与讨论
  •   （一） Y-Cr掺杂W2N薄膜的组成成分
  •   （二） Y-Cr掺杂W2N薄膜的力学性能
  •   （三） Y-Ti掺杂W2N薄膜的摩擦学性能
  • 四、结论
  • 【相关链接】

    • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 苏航,顾广瑞

    关键词: 薄膜,磁控溅射,掺杂,力学性能,摩擦学性能

    来源: 智库时代 2019年22期

    年度: 2019

    分类: 社会科学Ⅰ辑,经济与管理科学,工程科技Ⅰ辑

    专业: 金属学及金属工艺

    单位: 延边大学

    分类号: TG174.4

    页码: 178-180

    总页数: 3

    文件大小: 2355K

    下载量: 105

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    本文来源: https://www.lunwen66.cn/article/909d3823d96db294d786ccf9.html