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表面二氧化钛对三氧化钨薄膜电致变色性能的影响

论文摘要

采用直流反应磁控溅射法在透明导电ITO玻璃上先沉积三氧化钨（WO3）薄膜,然后在其表面沉积二氧化钛（TiO2）.利用场发射扫描电子显微镜（FE-SEM）、X射线衍射仪（XRD）和X射线光电子能谱（XPS）考察薄膜表面断面形貌、晶体结构和化学组成.利用紫外-可见-近红外分光光度计和电化学工作站测试薄膜的透射率、循环伏安和计时电流特性,分析其电致变色光学调制幅度和着色效率.结果表明沉积TiO2后,薄膜仍为无定型结构,表面形貌无明显变化,也未出现分层现象.薄膜表面成分为TiO2和WO3.与纯WO3薄膜相比,表面沉积TiO2后降低了离子注入/脱出扩散速率,导致薄膜着色效率下降.但在驱动电压±1.2 V范围内,表现出较好的着/褪色循环稳定性,说明表面上的TiO2可有效地抑制WO3薄膜性能衰减,对薄膜表面起到保护作用.

论文目录

  • 1 实验方法
  •   1.1 薄膜制备
  •   1.2 薄膜结构表征和性能测试
  • 2 结果与讨论
  •   2.1 薄膜结构与形貌
  •   2.2 薄膜透射率与光学密度
  •   2.3 薄膜循环伏安特性
  •   2.4 薄膜循环稳定性
  • 3 结 论

    • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 王美涵,陈昀,雷浩,黄奕博,文哲,马佳玉

    关键词: 三氧化钨,薄膜,二氧化钛,磁控溅射,电致变色性能

    来源: 沈阳大学学报(自然科学版) 2019年05期

    年度: 2019

    分类: 基础科学,工程科技Ⅰ辑,工程科技Ⅱ辑

    专业: 材料科学,工业通用技术及设备

    单位: 沈阳大学机械工程学院,中国科学院金属研究所

    基金: 国家自然科学基金资助项目(51302175),辽宁省自然科学基金资助项目(20180550727)

    分类号: TB383.2

    DOI: 10.16103/j.cnki.21-1583/n.2019.05.001

    页码: 355-361

    总页数: 7

    文件大小: 2202K

    下载量: 165

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    本文来源: https://www.lunwen66.cn/article/9104646cd1de6c3cac1595d6.html