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95%Ar+5%H2气氛退火对Ag/MoS2和Ag/BN/MoS2薄膜形貌和结构的影响

论文摘要

采用射频（RF）磁控溅射在室温下连续逐层沉积,然后在95%Ar+5%H2混合气氛中进行500℃低温退火制备了Ag/MoS2和Ag/BN/MoS2纳米薄膜,采用拉曼光谱（Raman）、X射线光电子能谱（XPS）和原子力显微镜（AFM）对其结构、组成和表面形貌进行了研究。结果表明:所制备的纳米膜均匀连续,界面紧密且清洁。95%Ar+5%H2混合气氛中退火能强烈影响顶部MoS2层的形貌并有效去除MoS2中的杂质氧改善其结晶性、稳定性和结构完整性;顶部MoS2层在沉积态时呈细小颗粒状,退火后呈片层状和颗粒状混合形态,特别是引入BN层后促进了其向更大更薄的片状转变,且MoS2薄膜由块状变成类层状结构。另外,电性能表征显示Ag/MoS2具有良好的欧姆接触且电阻率低,引入BN层使得Ag与BN以及BN与MoS2的界面处产生肖特基势垒从而使Ag/BN/MoS2具有整流特性。

论文目录

  • 1 引言
  • 2 实验
  •   2.1 薄膜制备
  •   2.2 薄膜表征
  • 3 结果与讨论
  •   3.1 Ag/MoS2和Ag/BN/MoS2纳米薄膜的拉曼光谱分析
  •   3.2 Ag/MoS2和Ag/BN/MoS2纳米薄膜的XPS光谱分析
  •   3.3 退火处理以及不同底层对MoS2层形貌的影响
  •   3.4 Ag/MoS2和Ag/BN/MoS2纳米薄膜的电学性能
  • 4 结论

    • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 熊芬,姜思宇,吴隽,耿仁杰,郭才胜,祝柏林,姚亚刚,刘静

    关键词: 连续逐层沉积,退火

    来源: 人工晶体学报 2019年12期

    年度: 2019

    分类: 基础科学,工程科技Ⅰ辑,工程科技Ⅱ辑

    专业: 无机化工,材料科学,工业通用技术及设备

    单位: 武汉科技大学省部共建耐火材料与冶金国家重点实验室材料与冶金学院,中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所

    基金: 中国科学院苏州纳米技术与仿生研究所纳米器件与应用重点实验室项目(15QT02),国家自然科学基金重点项目(51522211)

    分类号: TB383.2;TQ136.12

    DOI: 10.16553/j.cnki.issn1000-985x.2019.12.004

    页码: 2186-2193

    总页数: 8

    文件大小: 3810K

    下载量: 42

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    本文来源: https://www.lunwen66.cn/article/9dce1aa36cadb683a99c0349.html