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经不同Ar/O2比与烧结温度制备的锐钛矿TiO2涂层相结构及形貌研究

论文摘要

锐钛矿TiO2为一种常见的n型半导体材料,在光催化、电池光阳极电极、生物材料等领域具有应用前景。离子镀方法具有沉积速率快、膜-基结合力好、薄膜结构致密等优点,被广泛应用于各类涂层制备中。在制备过程中,不同Ar/O2比与烧结温度对涂层相结构与结晶程度有很大的影响,利用多弧离子镀膜机进行不同Ar/O2比与烧结温度正交实验。结合X射线衍射（XRD）图谱可知,Ar/O2比可以直接决定涂层的相结构,而烧结温度能决定涂层结晶程度。对Ar/O2比为1∶2,烧结温度为550℃的薄膜进行扫描电镜表征可知涂层为典型的柱状生长模式,表面存在未被氧化的Ti颗粒。

论文目录

  • 1 锐钛矿TiO2涂层制备方法
  • 2 制备涂层实验
  • 3 实验流程
  • 4 结果与讨论
  •   4.1 相结构
  •   4.2 涂层形貌
  • 5 结语

    • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 梁魁,王佳恒,徐国庆,程浩博,王登辉,张克强,彭军

    关键词: 锐钛矿,相结构,形貌,正交实验

    来源: 现代盐化工 2019年06期

    年度: 2019

    分类: 工程科技Ⅰ辑

    专业: 材料科学

    单位: 中国核动力研究设计院,四川大学原子核科学技术研究所辐射物理及技术教育部重点实验室

    分类号: TB306

    DOI: 10.19465/j.cnki.2095-9710.2019.06.015

    页码: 38-42

    总页数: 5

    文件大小: 2234K

    下载量: 21

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    本文来源: https://www.lunwen66.cn/article/a8d2500c86afcd4ad9e55aa3.html