硼及其协同掺杂金刚石薄膜的研究

论文摘要

在金刚石中掺入杂质元素会在保留其原有优良性能的基础上获得其他性能,如掺入硼元素可以使金刚石成为P型半导体;协同掺杂其他元素可以改善金刚石的电学性能、催化活性等,甚至可以改变硼掺杂金刚石薄膜的导电机制。本文详细介绍了硼及其协同掺杂金刚石薄膜的制备方法、结构特点以及微观形貌,综述了影响其性能的因素及改性方法。

论文目录

1 硼及其协同掺杂金刚石薄膜的制备方法

1.1 化学气相沉积（CVD）法

1.2 离子注入法

1.3 热扩散法

2 硼掺杂金刚石（BDD）薄膜的性质

2.1 BDD薄膜的结构

2.2 BDD薄膜的微观特征

2.3 BDD薄膜的性能

3 协同掺杂金刚石薄膜的性质

4 硼及其协同掺杂金刚石薄膜的应用

5 影响硼及其协同掺杂金刚石薄膜质量的因素

5.1 碳源气体浓度

5.2 气压与气体流速

5.3 氢气浓度

5.4 衬底材料的选择及预处理

5.5 衬底温度

5.6 沉积时间

5.7 外加偏压

6 硼及其协同掺杂金刚石薄膜的退火及表面修饰

6.1 退火处理

6.2 薄膜表面的功能化修饰

（1）光化学修饰法

（2）引入卤素

（3）引入氨基

（4）重氮盐修饰法

（5）表面氢/氧终端

6.3 薄膜特殊形貌的构建

（1）薄膜表面的物理刻蚀

（2）在衬底上生长出特殊结构的薄膜

7 结束语及展望

文章来源

类型: 期刊论文

作者: 王志伟,邹芹,李艳国,王明智

关键词: 金刚石薄膜,硼及其协同掺杂,电学性能,改性方法

来源: 金刚石与磨料磨具工程 2019年04期

年度: 2019

分类: 工程科技Ⅱ辑,工程科技Ⅰ辑

专业: 无机化工,材料科学,工业通用技术及设备

单位: 燕山大学机械工程学院,燕山大学亚稳材料制备技术与科学国家重点实验室

基金: 河北省首批青年拔尖人才计划”(冀办字[2013]19号)资助

分类号: TB383.2;TQ163

DOI: 10.13394/j.cnki.jgszz.2019.4.0001

页码: 1-8

总页数: 8

文件大小: 625K

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