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一种新型透明导电（Cu,Al）∶ZnO薄膜的结构和性能研究

论文摘要

利用FJL560CI2型磁控溅射仪制备了铜铝共掺杂氧化锌的（Cu,Al）∶ZnO薄膜样品。通过X射线衍射仪、扫描电子显微镜和分光光度计测试研究了氧分压对薄膜微观结构和光学性能的影响。结果表明,不同氧分压下获得的薄膜均具有六角纤锌矿多晶结构,沿c轴择优生长。薄膜的晶粒尺寸随着氧分压的增大逐渐变小。相对于纯氧化锌或仅进行Al掺杂,在同时掺杂Cu、Al之后,（Cu,Al）∶ZnO薄膜的电阻率下降到了10-5Ω?cm数量级,而平均光学透过率保持在90%以上,具有良好的透光性能,是一种具有潜在应用价值的新型透明导电薄膜。氧分压影响薄膜的晶粒尺寸进而影响其光电性能。

论文目录

  • 1 实验
  • 2 结果与讨论
  •   2.1（Cu,Al）∶ZnO薄膜的微观结构
  •   2.2（Cu,Al）∶ZnO薄膜的电学性质
  •   2.3（Cu,Al）∶ZnO薄膜光学性能
  • 3 结论

    • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 郭云鹏,白睿,李晓敏,武英桐,黄美东

    关键词: 铜铝掺杂氧化锌,透明导电薄膜,晶粒尺寸,光学性能

    来源: 电镀与精饰 2019年11期

    年度: 2019

    分类: 工程科技Ⅰ辑,工程科技Ⅱ辑

    专业: 无机化工,材料科学,工业通用技术及设备

    单位: 天津师范大学物理与材料科学学院

    基金: 天津市科技支撑计划重点项目(18PTZWHZ00020)

    分类号: TB383.2;TQ132.41

    页码: 10-13

    总页数: 4

    文件大小: 1265K

    下载量: 107

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    本文来源: https://www.lunwen66.cn/article/bd5e408f93496015fda59053.html