铁钴合金磁屏蔽薄膜的性能表征与工艺控制

利用电化学沉积法制备了铁钴合金薄膜试样,研究了离子浓度比、pH值、温度、电流密度等工艺条件对薄膜成分含量的影响,并对薄膜的物相组成、表面形貌、磁性能进行了表征。说明了特定工艺参数下铁钴合金薄膜的结构、性能特点,结果可供制作适用于不同场合的铁钴合金薄膜时参考。

引言

1 铁钴合金薄膜简介

2 薄膜样品制备方法

3 铁钴合金薄膜成分的影响因素分析

3.1 主盐摩尔浓度比

3.2 工艺参数

4 铁钴合金薄膜结构与性能表征

4.1 结构表征

4.2 表面形貌

4.3 磁滞回线

5 结语

类型: 期刊论文

作者: 韩利元,金鑫,陈志强,李永卿,王群,郭海霞,肖石,张敏

关键词: 电化学沉积,软磁材料,镍钴合金

来源: 安全与电磁兼容 2019年06期

年度: 2019

分类: 信息科技,工程科技Ⅰ辑,工程科技Ⅱ辑

专业: 材料科学,工业通用技术及设备,无线电电子学

单位: 北京工业大学材料科学与工程学院,中车青岛四方机车车辆股份有限公司

基金: (2016YFB1200602-37）：国家重点研发计划子任务-高速磁浮车载电子系统可靠性关键技术研究

分类号: TB383.2;TN03

页码: 45-49

总页数: 5

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